スパッタ | イプロスものづくり

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

実験・研究・評価・試作に好適！ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。また、高密度プラズマの特性を活...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

実験・研究・評価・試作に好適！樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。また、高密度プラズマの特性を活...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

の安定成膜・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる　膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御　 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。【特長】 ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

高レートイオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得ら...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ーゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。直進性の高い...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能

高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード！

安定した成膜とコストダウンの両立を実現します。アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のための...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

抵抗加熱蒸着源（金属蒸着）、有機蒸着源（有機材料）、マグネトロンスパッタ（金属・絶縁材）、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

研究・開発実験用　RFスパッタ装置

実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT　＜実験目的にあわせたカスタマイズ!!＞ 1．試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2．カソードサイズは2〜6インチに対応 3．2インチカソードタイプは3源式にも...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

ジ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング）ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W）システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

高機能繊維シート織物【熱・スパッタ・火の粉よけ・間仕切り】

高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも！

スパッタや熱を持った飛散物がある環境で、弊社の高機能織物を、間仕切りシートの代わりなどにご使用いただけます。こんなことでお困りではないでしょうか。。火花やスパッタが思いのほか飛んでいて、周りにあるケーブルが溶けてダメになってしまう、周りの機械が劣化してしまう・・・。短時間だが、炎があたる為に、何か簡単なもので保護したい・・・。装置に火花があたるが、フレキシブルに動くも...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テイアイテイ柏営業所

スパッタ装置 QKG-Sputtering

フルオートで大気に曝されることなく成膜完了！〜サンプル測定実施中！…

従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の...

メーカー・取り扱い企業：九州計測器株式会社

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置ターゲット～成膜…

薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。Ｌｉの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能（有償）材料（ターゲット）...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備した スパッタ成膜ユニット【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メープル

三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

『NS-023』は、三種のターゲットを同時に成膜可能な三元マグネトロン スパッタリング装置です。多元同時スパッタ以外にも、白金ヒーターを採用することで、基板の高温活性化（ヒータ温度：950℃）や反応性スパッタなど様々な使い方に対応しています。また、アシスト...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

従来に無い水素フリーDLC膜（膜中水素含有量１％以下）を量産装置で実現成膜プロセスに水素を使用しない高密度プラズマスパッタ技術を採用、新方式PVD装置（ADMS＝アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置）水素フリーの緻密なDLC膜は従来の水素含有DLC膜に比べＭｏ添加の潤滑油中の摺動特性を１／１５以下に低減（１...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

実験用スパッタ装置

簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

ット　1元カソード ●　RF300W電源、自動マッチングボックス付 ●　ガス系統：1系統(オプションにて3系統まで対応可)、　　マスフローコントローラーによる調整 ●　酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ●　オプションにて基板ヒーターの取付可。 ●　余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ●　800W×600L×900Hの省スペース ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヤシマ

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 ...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ、…

2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置（スパッタ - 蒸着、など）をロードロックでシームレスに連結。Moorfield社独自のロードロックシステムにより、左右・後方へのプロセス室への連結も可能です。...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

新しく開発された射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIESは、自動車・装飾部品などで用いられる樹脂基板への金属膜、保護膜の自動成膜が可能です。射出成形された基板を全自動で真空成膜（スパッタリング及び重合）することが可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の成膜が可能となっています。整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サンバック本社

卓上型マグネトロンスパッタ装置『FDS/FRSシリーズ』

初期導入コストを抑え、拡張で高性能化が可能！研究ステージに合せてグレー…

『FDS/FRSシリーズ』は、必要な機能を備えた研究開発用の卓上型マグネトロンスパッタ装置です。基本仕様は、DCスパッタ/シングルカソード/ロータリーポンプで構成される金属薄膜用スパッタ。 RF化、カソード増設、ターボ分子ポンプ仕様などの拡張オプションにより、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ

小型スパッタ装置『SS-DC・RF301』

小型設計ながら性能はキープ！高温での基板加熱が可能なスパッタ装置

『SS-DC・RF301』は、2"マグネトロンカソードと基板加熱機構をそれぞれ 1基搭載した小型スパッタ装置です。シンプルな設計により、事務机の約半分のスペースに設置可能。基板上下機構を採用し、ターゲットと基板間の距離を任意に設定できます。基板加熱を高温で行えるほか、電気とガスの...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

『FRS-HGシリーズ』は、2源/3源の同時スパッタ機能を搭載した研究開発用の多源同時マグネトロンスパッタ装置です。据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計。成膜ソース導入ポートは3ヶ所用意されており、スパッタリングカ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社FKDファクトリ

スパッタ・蒸着複合装置

1インチUHV対応スパッタカソード2源！ロードロック室は増設することが…

当製品は、RFスパッタと抵抗加熱蒸着をあわせもつ製膜装置です。ロードロック室増設可能。2インチ基板対応加熱・回転基盤ホルダーの仕様です。また、1インチUHV対応スパッタカソード2源で、3源切替式抵抗...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した実験用高真空小型制膜装置です。放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。酸化反応スパッタリングに対応できるデュ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

サンユー電子　真空応用機器／電子顕微鏡関連機器製品総合カタログ

スパッタ装置、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器のサンユー電子

1976年の創業以来一貫して、“使いやすい、簡単、便利”にこだわったものづくりを通じ、多くの方々に、スパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、SEM/電子顕微鏡関連機器をお使いいただいております。 SEM用前処理用としてのスパッタ装置(スパッタコーター)、真空蒸着装置、各種デバイスの電極付け...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

スパッタリング装置『Star.500-EOSS(R)』

光学用の多層膜を高均一かつ再現性に優れた成膜を行う事を目的に開発！

当社では、独FHR社の『Star.500-EOSS(R)』を取り扱っております。『Star.500-EOSS(R)』は、光学フィルター成膜用として設計されたマグネトロンスパッタシステムです。成膜用のパーティクルを最小限にするためスパッタアップの方式を採用。 200mm径までのフラット並びに曲面の基板まで対応しており、基板加熱機構も組み込みできます。 ...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

『QAMシリーズ』は研究開発、材料開発等の小規模実験で要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のスパッタ装置です。約1Pa～0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

高機能ハイパフォーマンス RF/DCマグネトロンスパッタリング装置 ● 到達圧力5 x 10-5Pa（*1x10-4Paまで最速30分！） ● スパッタ源 x 3：連続多層膜膜制御, 同時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタ装置

長州産業独自の技術を搭載する対向ターゲット方式「ミラートロンスパッタ装置」を提供しています。低プラズマダメージ、低基板温度を実現しながら、ご希望の機能性膜が得られます。有機EL分野では、トップエミッション構造における透明導電膜の形成、封止膜の形成に最適です...

メーカー・取り扱い企業：長州産業株式会社

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

装置形態：巻取式マグネトロンスパッタリング装置基板寸法：最大幅１０００ｍｍまで対応カソード数：最大４元膜種：金属・磁性膜・反応性酸化膜オプション機構：プラズマ前処理機構・イオンガン・ランプヒータ・加熱ロール等...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

マグネトロンスパッタ装置『scia Magna 200』

最大200mm径基板！ダブルリングマグネトロン(Fraunhofer …

『scia Magna 200』は、回転式単体マグネトロンのマグネトロンスパッタ装置です。アプリケーションは、TC-SAW向け温度補償膜(SiO2)、AlN等圧電膜、光学用高・低屈折膜、絶縁膜(Si3N4, SiO2, Al2O3)です。また、プロセスはマ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』

半導体、プリント基板、表面処理に！高い密着力を実現する室温スパッタ装置

L/S 2μm対応『室温スパッタ装置』は、基板とプラズマ領域が分離されており、熱ダメージを抑えつつ、高い密着力を実現する装置です。 510mm×610mm（最大730mm×920mm）の大型基板に対応し、基板2枚並行処理も可...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サーマプレシジョン

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

【資料DL可/EBSD】EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価

電子線後方散乱回折法EBSDはアルミスパッタ膜の性能評価や下地材料の選…

とで以下が可能です ●微小領域の結晶粒の形状および方位の測定 ●基準方位に対する結晶の配向の確認 ●結晶方位差の情報から材料内部の歪の測定本事例では「EBSD を用いたアルミスパッタ膜の評価」を紹介していますこの測定技術は、アルミスパッタ膜の性能評価、下地選択に役立ちます磁石の方位評価や結晶性があればセラミック材料にも応用可能ですぜひお試しくださいな...

メーカー・取り扱い企業：セイコーフューチャークリエーション株式会社

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！最大3台のスパッタカソードを搭…

『立体物用スパッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを搭載しています。ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。加熱機構、バイアス電源...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビーム スパッタリング(DIBS)となっております。ご用命の際は、お気軽にご相談ください。【特長】 ■最大...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパ…

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』は、不活性ガス雰囲気中で基板交換およびターゲット交換ができる、高品質と低価格を実現した研究開発用小型スパッタ装置です。小型ながら2インチカードを2基備え、真空を破らずにターゲット基板...

メーカー・取り扱い企業：株式会社菅製作所

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

をPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッチングも製作可能。グローブボックス収納タイプもございます（*要...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

量産対応バッチタイプスパッタリング装置　（STH10311型）

φ４１０基板×４枚の自公転基板台を４枚備えたバッチ型のスパッタリング装…

複数の自公転基板台の採用により、量産用としての処理量と優れた膜厚均一異性を両立したバッチタイプスパッタリング装置です。サイドスパッタ方式により1ｍを超えるチャンバ系でありながら、基板やターゲットの着脱作業、真空層内のメンテナンスの簡易性を実現しました。量産用途に最適なデータロギングシステム...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

デスクトップクイックコーター「SC-701MkII」

SEM用試料の前処理用として最適！シリーズ最小のコンパクトコーターです…

「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル＆イージーオペレーションです。イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格／小型軽量タイ...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

『CMS-3200』は、2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応する 3元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。有効エリアは1辺25mmの正三角形。2インチウエハを標準基板とするため、パターン描画・エッチングなどのライン後工程に投入でき、成膜のみならず解析までをハイスループット化で...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コメット

表面処理装置　スパッタ用イオン銃　「40C1型」

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

試料表面をクリーニングするためのコンパクトで簡便なイオン銃です。 ...【特徴】 ◯取付フランジは外径70mmで、容易に装着が可能 ◯真空内のソース長は標準の63mmのほか、要望対応も可能 ◯酸素、水素、ハイドロカーボンのような活性ガスの導入も可能 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクノポート

Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置　リモートプラズマソースの開発…

の装置メーカーにOEM供給を続けていおります。その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社