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12件 - メーカー・取り扱い企業
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39件 - カタログ
373件
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』
PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…
『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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ドイツ・ADL社製の、空冷式の小型スパッタ電源です。
「GSシリーズ:GS05-GS30」は、 容量0.5 kWから 3 kWまでをカバーした全11型式がございます。主に研究開発用の小型スパッタ装置をターゲットにした製品です。すべて空冷式であり、煩わしい冷却水を導入する必要がございません。...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社スパッタリングコンポーネンツジャパン
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研究開発から量産までサポート!
チパネルによる操作性向上、ロギングシステムによるデータ管理が容易。 【各種 選択機能】 ●カソード変更(大型カソード化、4インチカソード多元化) ●高温加熱機構(800℃) ●バイアススパッタ機構 【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚葉式スパッタリング装置 ●サイドスパッタリング装置 ●カルーセルタイ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
的にサポートしております。 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能となります。 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、V...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック 本社
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ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ…
パターンウエハ等を提供し、 チャージアップダメージを評価するウエハのサービスは 12インチウエハでも提供可能であり、長期にわたり世界的に評価されています。 ドライエッチ、プラズマCVD、スパッタ、イオン打ち込みのチャージアップ評価が可能、 ウエハサイズは300mm、200mm、チップ測定に対応しており、 お客様の設備でプラズマ処理を行ったウエハを測定し、 I/Vカーブ、Vbdマップ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社フィルテック 本社
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大型基板の自動搬送に対応し、研究開発~量産までの応用が可能な装置です。…
大型基板の自動搬送に対応したロードロック式スパッタリング装置です。 【主な特長】 ・Φ300mmを例とする大口径基板のベア搬送が可能 (角基板の対応も可能です。) ・独自設計のカソード機構により、汎用ターゲットサイズでの 広範囲...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ブルー半導体レーザ『LDMblue/LDFblueシリーズ』
高反射材料の加工に好適!非常にスムーズで堅牢かつスパッタの無い溶接プロ…
『LDMblue/LDFblueシリーズ』は、様々な方法で銅・金及びそれらの 合金への加工プロセスに革命をもたらす高出力ブルー半導体レーザです。 吸収率が数倍以上となる為、投入強度を大幅に下げ、且つ大きなスポット サイズでのレーザ加工が可能。 また新製品の「LDFblueシリーズ」は、「LDMblueシリーズ」で実証された 多くの利点をさらに活かし、445nmでCW出力3000W...
メーカー・取り扱い企業: レーザーライン株式会社
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RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…
●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。 【装置仕様概略】 ・スパッタリング用イオンソース フォーカスグリッド ・アシスト用イオンソース デフォーカスグリッド ・シングルステージ ・ターゲットホルダー ・排気系 ・制御系 【オプショ...
メーカー・取り扱い企業: アールエムテック株式会社
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半導体電子デバイス製造のお手伝いをいたします!
当社では、半導体電子デバイス製造の試作ラインを構築し、はんだバンプをはじめ、 単工程の試作・開発・少量生産・成膜サービスなどを受託しております。 また、試作ラインではスパッタ、ステッパー、めっき、エッチング、 ウエハ検査・評価設備がございます。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【特長】 ■試作・少量生産受託 ■単工程に対応 ■装置の入れ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アスカインデックス 塩山テクニカルセンター
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半導体などの工程加工に適した各種成膜、酸化膜形成、アニール処理に適した…
成膜 ・PBII(Plasma Based Ion Implantation) カーボン成膜が可能 ・スパッタ 電極膜の成膜が可能 熱処理 ・RTA(Rapid thermal annealing) 縦型高周波誘導加熱方式により、~1800度までの熱処理が可能 ・酸化炉 酸化、熱処理...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社イオンテクノセンター
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1枚からの成膜や異形サイズの基板への成膜も対応可能
PE-CVD成膜の受託加工を中心にスパッタ、イオンプレーティング、蒸着、 EB蒸着による成膜も行っております。 大口径基板への成膜も可能なターゲットもございますので、 お気軽にお問い合わせください。 その他詳細は、カタログをダ...
メーカー・取り扱い企業: 大村技研株式会社
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3次元実装サービス(TSV技術等による実装サービス)
。 1枚からの露光、エッチング受託加工、成膜サービス等もお気軽にご相談ください。 本格的なMEMS専用ラインでのファンドリーサービスです。 【サービス一覧】 ・PZT成膜サービス スパッタ法で4,5,6,8インチに対応 ・Siディープエッチングサービス 2~12インチに対応します ・100℃以下の低温CVD膜付けサービス 2~6インチに対応します。 ・8イ...
メーカー・取り扱い企業: 日本MEMS株式会社
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消費者の動向から地球環境を考えたビジネス!企画・開発・提案力を重視!
■真空成型トレイ ■初期確認用モデリング製作(トレイなど) ■低発塵・RoHS規制対応 結束バンド 他 〔その他〕 ■光学ガラス加工 ■ガラス非球面レンズ ■各種薄膜加工(真空蒸着、スパッタ) 他 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: ヤマトマテリアル株式会社
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3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』
【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速…
株式会社アマダ(アマダグループ) -
【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社 -
オーダーメイド型スパッタリング成膜装置
難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに…
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社