リチウムイオン電池電極スラリーの連続生産

PR原料に起因する厳しい防爆規制を遵守！二軸押出機ZSKによる生産をご紹介

コペリオン株式会社(本社ドイツ)では、リチウムイオン電池 セパレータフィルムをはじめとして、電極スラリーの連続生産を 二軸押出機で提案、納入実績を積み重ねています。 「Liイオン電池 電極スラリー連続生産」は、連続生産・自動化・ 溶剤の量の削減等による生産コストを低減。 原材料である活物質、結合剤、導電性カーボン、液体などをそれぞれ 独立したコペリオンK-Tronフィーダーまた...

メーカー・取り扱い企業： コペリオン株式会社 本社

ピボットコンベア・フライトコンベアの各種カタログ

PR食品輸送等でも多数実績あり！水平・垂直に搬送！超小型で既設ラインへの組…

コンベアのカタログまとめてプレゼント中！ 株式会社翔和は、 埼玉県に本社を置く専門企業で、 バケットコンベア、フライトコンベアなどのコンベヤシステムを製造・販売しています。 また、舞台照明器具やコンクリート関連の機械も取り扱っています。 【カタログの内容】 ○ピボットコンベア（バケットコンベア） 搬送時のコンベア間の乗り継ぎが無くなり、粉粒体や固形物を優しく運んで 「割れ」や「欠け」「異物混入...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社翔和

連続式スラリー供給装置　P85

特許取得の調合方法で当社従来比15％以上のコストダウンを実現！燃料電池…

『連続式スラリー供給装置　P85』は、半導体のウエハー研磨工程で加工時に塗布されるスラリーを供給する装置です。 冷凍機とヒーターの低容量化で、装置容積は当社従来比61％低減して供給流量も増大。 また、原液補給...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

【スラリー/高純度流体向け】フッ素樹脂製ダイアフラムバルブ

スラリーなどの研磨性流体に最適なフッ素樹脂製ダイアフラムバルブ

半導体製造装置及び化学工場の薬液配管向けのフッ素樹脂製バルブです。CMPスラリー等粘性薬液に最適な抵抗の少ない流路構造のダイアフラムバルブ(ダイヤフラムバルブ)です。抵抗の少ない構造である為、サイズによっては他社比較2倍以上の流量能力がございます。 また,液溜まりの少ないボ...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

ワイヤーソー用ダイヤモンドスラリー『WSG』：グリコール系

マルチワイヤーソーの切断速度向上と高い再現性を実現するグリコール系ダイ…

WSGは、高性能マルチワイヤーソーにご利用いただけるグリコール系ダイヤモンドスラリーです。お手元に届き次第すぐにご使用いただけます。弊社独自の添加剤がスラリーとワイヤーとの接着を促進し、切断速度を向上させます。 【特徴】 ■テーラーメイド仕様 ダイヤモンドの種類、砥粒の...

メーカー・取り扱い企業： ピュアオンジャパン株式会社

簡易スラリー供給装置　P65

ウエハ研磨用

スラリー液をタンク内で希釈混合したものを装置へ供給するための実験用供給装置です。 【特徴】 ○タンク容量：125L アイボリー塩ビ製 ○ダイアフラムポンプ：10リットル毎分 ○供給エア：85リットル毎分 ○電源容量：AC100V 5A...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノメイト

CMPスラリー

幅広くカスタマイズ可能なCMPスラリー

CMP（ケミカル・メカニカル・ポリッシング：化学的機械研磨）スラリーは、半導体の製造工程で、基板表面を研磨するために用いるスラリーです。化学的エッチングが、材料を柔らかくし、機械的摩耗によりマテリアルが除去されるため、元々の立体的形状が平坦化されます。これがCMP...

メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社

【加工事例】電気化学測定用電極の機械研磨

株式会社マルトーの金電極加工事例をご紹介。

【加工工程】 ■研磨 ・一次研磨：ポリシングクロス（硬質）多結晶ダイヤモンドスラリー1.0μm　 ・二次研磨：ポリシングクロス（中質）多結晶ダイヤモンドスラリー0.125μm ・仕上げ研磨：ポリシングクロス（軟質）アルミナパウダー（バイカロックス） 　　　　　　　0.05μ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マルトー 本社

CMPスラリー用PPフィルター

CMPフィルター　プレウェット特許取得

超高圧でプレフラッシングを行った当フィルターは、ノンフラッシングのフィルターと比較すると、1ml中のパーティクル数や金属汚染レベルにおいて 高い性能を発揮します。...製造工程における薬液の廃液量を削減し、循環による再利用率を向上させる環境に優しいソリューションを提案 生産性の改善やコストダウンの実現にも寄与する事が可能です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トリコ 東京支店

【動画で紹介】半導体ウェハ用ワイヤーソースラリー調合設備

人的ミス防止で生産効率UP!ワイヤソー用スラリーを自動搬送・計量・調合…

本製品は、半導体ウェハをインゴットの状態から、ワイヤソーにより切断する際に、必要となるスラリーの製造を目的とした設備です。 ２台の撹拌設備、１台の貯蔵設備、３台のコンベア、オイル搬送用のポンプで構成され、粉体搬送による発塵を防止するための集塵機も搭載しています。粉体搬送は自動で行い、モー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ワイ・エム・エス 本社営業部

自動CMP装置

COF(摩擦係数)やパッド表面温度、研磨液の温度、装置内の室温などをモ…

【Tribo】 ・400mm径のポリッシングプレートに対応 ・100mm/4インチのポリッシングヘッド x2軸 ・スラリーポンプ2台、酸性スラリーにも対応 ・業界標準のIn-Situダイヤモンドコンディショニング対応 ・装置に内蔵されたタッチパネルPCでコントロール 【Orbis】 ・600mm径のポリッシングプレ...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

【研磨剤】研磨性能の向上・改善のポイントは物理凝集を抑えること

セリア・ジルコニア・アルミナ・GCなど粒子同士の物理凝集を抑えることで…

あります。 この物理凝集を防ぐために、粒子（砥粒）一つ一つをコーティングし粒子同士の物理凝集を防ぐ方法があります。 コーティングによる物理凝集により、粒子同士の凝集・吸着を抑制することができるスラリーの分散性の向上にも繋がります。 研磨スラリーに混ぜるだけで研磨性能の向上・改善が期待できる添加剤「EVERFLO」をぜひお試しください。 EVERFLOの添加により期待できる効果 ・分散性の向...

メーカー・取り扱い企業： 八千代マイクロサイエンス 株式会社

端面鏡面加工装置

スラリー不使用　濾過水、純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨から洗浄まで行…

■装置概要 　　スラリーを使用せずに、濾過水・純水を媒体として鏡面研磨、粗研磨、洗浄等を行う研磨装置 ■用途例 　　鏡面仕上げ加工・鏡面仕上げ加工・端面異物洗浄 ■対象物 　・薄い材料150～200μに好...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小型研磨機　TR06M

コンパクトなため、設置場所を選ばずAC100Vのみで動作します。

設置場所を選ばずAC100Vのみで動作します。金属部品・ガラス・ウエハなどの加工ができ、研磨プレートを交換することでラッピングのみならず、ポリッシングや簡易的なCMPにも使用できます。研磨方法も、スラリーによるウエット研磨や研磨シートを用いたドライ研磨にも対応します。 ●詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： テクノライズ株式会社

“Trinity-Yシリーズ” EJD-6BY

あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。

ty-Y” シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。 フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。 【仕様】 ○ポリ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

自動噴霧装置『MS-2』

手動で研磨盤にダイヤモンド液を吹き付けるよりも経済的！自動噴霧装置をご…

『MS-2』は、ダイヤモンドスラリーを一定時間毎に自動噴霧することで 効率的な研磨作業を実現する自動噴霧装置です。 一度に吹き付ける量が0.1cc程度と手動で研磨盤にダイヤモンド液を 吹き付けるよりも経済的。 複数の...

メーカー・取り扱い企業： ムサシノ電子株式会社

CMP装置　LP50精密ラッピング＆ポリッシングマシン

CMP装置　LP50精密ラッピング＆ポリッシングマシン

発揮いたします。 【特徴】 ○１～３台のWorkstation を稼動 ○CMPのための耐薬品モデル ○多様なlapping & polishing プレートとクロスを供給 ○スラリーの供給が不足すると自動的に運転を止めるInfra-red 機能（オプション） ●詳しくはお問い合せ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： ハイソル株式会社

６インチ径PFAカスタム圧力容器

６インチ径PFAカスタム圧力容器

脈動を起こさない。安定した圧力での薬液吐出を行う。薬液の途切れがない。スラリーデリバリーにも最適。 薬液の近くに電気的な接続不要。パーティクルの発生を削減。薬液内に駆動部分が無い。長期間の安定性。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロー・ジョイント

ウェットブラスト『TWB-01』

安定した均一加工が可能！微細バリ取り～クリーニングまで対応！

『TWB-01』は、高品質な仕上げ面を作りだします。 スラリーを粒度、圧力、濃度でコントロールできるため、安定した 均一加工が可能。 加工と洗浄を同時に行うため、研磨材の残渣が少なく精密加工に 適しています。 【特長】 ■高品質な仕上げ面を...

メーカー・取り扱い企業： 河新株式会社 洗浄機・洗浄剤│バレル研磨機材│ブラスト機材│研磨材　販売及び受託加工

両面ポリッシングシステム『EJD-6BY』

多機能コンパクトCMP対応の両面ポリッシング装置誕生!

ity-Y”　シリーズから6Bサイズのコンパクトで多機能なCMP対応両面ポリッシング装置が誕生しました。　フルステンレス防塵カバーと細部に渡り徹底的に耐腐食性材料を使用し製作しているため、あらゆるスラリーに適合し、難削材の両面同時研磨に最適です。 また他のTrinity-Yと組み合わせることで省スペース化を実現し、無駄のない高機能な加工システムを構築することができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

【集積/コンパクト化　マニホールドバルブ】 【薬液/純水配管用】

普通のバルブメーカーではありません！フィルターやセンサーなどを組合せた…

純水を使用する業界で長年の実績がございます。 【ゲミュー社カスタマイズバルブの特徴】 ■　フィルター、流量/温度/圧力センサーや逆止弁などを組合わせてユニット化することが可能 ■　CMPスラリーなど粘性が高く複雑な組成の流体に適した流路で設計が可能 ■　プロセスに合わせてPTFE,PVDF,PP,PVC,SUSなど様々な材質に対応 ■　他社で廃盤となってしまったバルブの同等仕様、寸法...

メーカー・取り扱い企業： ゲミュージャパン株式会社

研磨加工の基礎がまる分かり！『研磨加工＆ラッピングの基礎知識』

『研磨加工＆ラッピングの基礎知識』最新ハンドブックを無料プレゼント！

』最新ハンドブックを、無料でプレゼント中！ 【掲載内容】 ◆ENGIS社の紹介 ◆ラッピング加工の要素 ◆ラッピング装置の構造 ◆『遊離砥粒』と『固定砥粒化』の違い ◆ダイヤモンドスラリーと砥粒 ◆ラップ盤の種類と加工事例 ◆ラップ定盤修正機を搭載した研磨装置の紹介 ◆デモラボのご案内 その他、研磨に関する様々なデータ・加工画像等を掲載した、 『研磨加工＆ラッピングの...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

CMP装置【研究開発用の卓上型～300mmウエハー対応まで！】

卓上型から300mmウエハー対応までCMP装置をラインナップ！Dry-…

可能なCMP自動装置も ご提案いたします。デモ機もございますので、立ち合いの元デモテスト も対応可能です。 【下記のようなご要望にもお応えします】 ■薬液対応（酸性・アルカリ性の様々なスラリーに対応可能） ■研磨剤の供給系統対応 ■センサーを入れて振動を計測したい ■通常よりも高荷重にしたい ■装置内の温度・湿度を図りたい ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業： 北川グレステック株式会社 本社

Guangdong Well Nanotech コロイダルシリカ

高品質低コスト　コロイダルシリカ

Guangdong Well Nanotech社は、1998年に設立され、6つの生産拠点を持つ中国のコロイダルシリカサプライヤーのリーディングカンパニーです。同社の高品質なコロイダルシリカとCMPスラリーは、精密鋳造、セラミック、製紙、コーティング、触媒、電池、食品、研削、研磨など様々な産業で利用されています。 弊社では一部製品を国内にて在庫しております。詳細はお問い合わせください。 HS...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パイロテック・ジャパン

ラップマスターCMPマシーン『LGP-712』

φ8"～φ12"ウェーハに対応！CMP加工中にln-Situパッドコン…

『LGP-712』はφ8"～φ12"ウェーハに対応し高精度技術の開発を支援する製品です。 2ポリッシングヘッドを備えデバイスの平坦化CMPに対応。 パッドやスラリーのご研究開発用の実験機としても適しております。 当社では、Cu-CMPなどのメタルCMPにも対応しお客様のご要望に お応えできるように多くのオプションを用意しております。 【特長】 ■...

メーカー・取り扱い企業： ラップジャパン株式会社

エコフレンドリーな研磨

当社の研磨装置で酸洗は不要！酸洗をしないことで、地球環境への影響が軽減

」についてご紹介いたします。 高速で流れる水と砥粒子による優れた研磨力でドロス、酸化被膜の除去、 鏡面仕上げ、寸法交差まで1工程で完了させることが可能。 また、水＋研磨材のみを混ぜたスラリーを一方向に流し流量・圧力・時間を 調節することによりワークを効率的に短時間で研磨する技術装置を 使用しております。 【特長】 ■研磨装置で酸洗は不要 ■水＋研磨材のみ ■研磨作用も...

メーカー・取り扱い企業： アルゴヴィジョンテクノロジズ株式会社 奈良工場

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。 強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

MH-1000　マルチワイヤーソー

●高性能電着ダイヤモンドワイヤーによるダウンカット方式 ●固定砥粒のた…

本装置は、精密加工技術を生かして素材を薄く高精度に切断する装置です。ワイヤー駆動２軸、トラバース２軸、ワーク上下１軸の計5軸ACサーボモーターを使用しており、水晶、セラミック等さまざまな素材を切断できる小形専用機です。 ...カタログにてご確認下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

卓上サイズ スロットダイコーター

卓上サイズのスロットダイコーターです

・100mm幅のダイヘッドからスラリーを出しながら基材にコーティングできる ・グローブボックス内に設置可能...

メーカー・取り扱い企業： AAポータブルパワー株式会社

半導体ウェーハ研磨機　ノッチ、ベベル、オリフラ研磨装置【日本製】

高品位研磨テープによる低Raの実現

【特徴】 ●様々なプロセスに対応 ●膜質を選ばない研磨が可能 ●スラリー負荷の軽減 ●100％ケミカルフリー ●クラス1000対応 ※詳しくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： アイエムティー株式会社

【３D造形品　金型向け】流体研磨装置『eliteシリーズ』

3D金属粉末造形部品の複雑形状・R形状・螺旋形状の微細孔をも鏡面まで研…

基本構造は「水」と「研磨材」のみを混ぜたスラリーを、一方向に循環させる「一方向循環式」です。 他社の往復運動式で発生する研磨の空走時間がなく、断続的に研磨作用を起こすことが可能で、高速で流れる流水に乗って全ての研磨材の粒子が内面の凹凸に当た...

メーカー・取り扱い企業： アルゴヴィジョンテクノロジズ株式会社 奈良工場

半導体産業工程用フィルタ

半導体製造工程に使用される材料の精製から、デバイス製造工程に使用される…

ウエハ洗浄技術 　HAPES膜、PTFE系膜、金属除去膜 CMPスラリー技術 　ロール、メルトブロー型デプスフィルタ 　ナイロン、PES膜 リソグラフィ技術 　UPE、ナイロン、多層膜 純水、各種薬液用 ガス材料用 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

IAG用装置　製品カタログ

加工物のサイズにあわせて装置の選定可能！特長や寸法、キャリア搭載数など…

化物・サファイア・SiC・ GaAs・水晶・セラミックス・金属 他)用装置をご紹介しています。 材質を問わず、ラップ、ポリッシュ加工が可能な標準型の「DSM 16B-5L/P-V」や、 スラリー流量、ALC定寸システム制御の追加で、更なる安定加工が可能な 「DSM10.5B-5L/P-V」などを掲載。 特長や寸法、キャリア搭載数なども詳しくご紹介しております。 【掲載内容】...

メーカー・取り扱い企業： スピードファム株式会社

洗浄剤　ダッククリーン

CMPマシン廃液配管内に付着したスラリー用洗浄剤及び洗浄システム

CMPマシン廃液配管閉塞を防ぐための洗浄剤と洗浄システム...CMPマシン廃液配管閉塞を防ぐための洗浄剤と洗浄システム...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ファーストダック

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクニカルフィット