ドライ | イプロスものづくり

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従来の横型真空ポンプに比べ、省スペース化、低コスト化を実現

PR立型構造の為、従来の横型に比べ圧倒的な省スペース化。又、同じ動力であれ…

『TRVシリーズ』は、凝縮性ガスに強い真空ポンプとして独自に開発した汎用ドライ真空ポンプ（ルーツ真空ポンプ）です。ガス流路が上部から下部へ流れるDown-Flowとなるように配置されているため、ガスと共に吸引したミストやポンプ内部で凝縮した液体は、吐出口まで流下し大気圧力下において容易に排出・回収することができます。このためミストの流入やガスの凝縮液に対して極めて強靭なポンプです。材質...

メーカー・取り扱い企業：株式会社宇野澤組鐵工所
フレキシブル半導体製造装置『SHUTTLELINEシリーズ』

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...
メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-090』（グローブボックス用）

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング ◉ アニール...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
アニール炉『ANNEALウエハーアニール装置』

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

にて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。・ハロゲンランプヒ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

00x400x400mm フロントローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・最大基板サイズ：Φ8inch ・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロセス圧力APC自動制御）、連続自動製膜（最大20層）、2源同時成膜など豊富な機能を備え、更に基板加熱ヒーター（500℃）、ドライスクロールポンプなど豊富なオプションも用意。真空引き・成膜制御・ベント、レシピ作成、更に故障解析、ログ等全て前面の7"タッチパネルで操作、操作の一元管理が可能です。 IntelliLinkソ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプオプション）・ペルチェ冷却機構...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆nanoPVD-T15A◆ 高性能有機膜・金属膜蒸着装置

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉連続成膜・成膜プログラム自動制御・30種類のレシピ登録・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション・基板回転・上下昇降 300mmストローク・基板シャッター・ドライポンプ（RP標準）・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【MiniLab-SA125A】多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスに...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置コンパクトフレームに…

. スパッタカソード + 抵抗加熱源x1 + 有機蒸着源x1（*DCスパッタのみ）・蒸着範囲：Φ4inch/Φ100mm ・真空排気系：ターボ分子ポンプ + 補助ポンプ（ロータリー、又はドライスクロールポンプ）・基板回転、上下昇降ステージ・Max500℃基板加熱ヒーター・水晶振動子膜厚センサー・7”タッチパネルHMI操作（’IntelliLink’ WindowsPCリ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-080】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。高さ570…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置高さ570m…

【主仕様】・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
◆ANNEAL◆ ウエハーアニール装置

Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…

にて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です（APC自動プロセス制御システムオプション）。又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。チャンバー内加熱ステージは、プロセスガス雰囲気・処理温度により３種類のバリエーションがあります。・ハロゲンランプヒ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

ディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）有り・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプ可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

最大基板サイズ：Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式（最大4源） ◉ 有機蒸着ソース：1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード（最大3源） ◉ ドライエッチング ◉ グローブボックス搭載可能（オプション要仕様協議） ◉ その他オプション： 2源同時成膜、HiPIMS、自動薄膜コントローラ、特注基板ホルダ、基板回転/昇降、基板加熱などオプ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ローディングチャンバー *ラージチャンバーオプションMiniLab-070（450 x 450 x 450）・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可）・真空排気：真空/ベント自動制御・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源）・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
【nanoPVD-S10A】マグネトロンスパッタリング装置

高機能コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

x 570(D) x 600(H)mm ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプオプション）...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
真空蒸着装置『nanoPVD-T15A』

限られたラボスペースを有効活用できる小型ベンチトップサイズ装置に、最新…

◉連続成膜・成膜プログラム自動制御・30種類のレシピ登録・高精度ワイドレンジ真空ゲージ ◉豊富なオプション・基板回転・上下昇降 300mmストローク・基板シャッター・ドライポンプ（RP標準）・USBでWindows PCに接続、ログの保存管理...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社
多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

Φ3"（最大4）・プラズマ電源：RF150W, 300W, DC850W, HiPIMS 5KW ・MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング・ターボ分子ポンプ + ドライスクロールポンプ・メインチャンバー RIEエッチングステージRF300W ・LLチャンバー＜30W 低出力制御*ソフトエッチング *独自の"Soft-Etching"技術で基板バイアスに...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社