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「失敗しない"ものづくり企業"の成長戦略」セミナー開催のご案内

PR3D設計データ活用によるものづくり改革のヒントが満載！DXに惑わされな…

大興電子通信株式会社は、TKP市ヶ谷カンファレンスセンターにて「失敗しない"ものづくり企業"の成長戦略」のセミナーを開催します。当セミナーでは、DXの本質を捉え、企業変革及び成長の実現に向けた重要な考え方とアプローチ方法をご紹介。多くの企業が見落としている"変革の本質"、DXを含めた変革が失敗する主要な要因と対策、変革実行の優先順位や注意ポイントを解説します。皆...

メーカー・取り扱い企業：大興電子通信株式会社
VRは社員教育システムに活用できるのか？

PRVRシステムを導入したけれど成果が見えない、運用が面倒で活用していない…

弊社はVR黎明期よりVRシステム開発を行なってきておりVRのデメリットを補うシステムを研究しております。 VRを使った教育システムに対するコンサルタントやお客様のご希望に沿ったシステム開発を弊社は得意としております。...HMDを使ったVR教育でのデメリット・同時に複数人体験させられない（有線型HMD）・システム費用、コンテンツ制作費が高額で費用対効果が...
メーカー・取り扱い企業：株式会社フィリット　
株式会社PARAM　会社案内

超高速電子ビーム描画技術・要素技術の開発・製造・コンサルティング！微細…

株式会社PARAMは、電子ビームを用いたウェハ直接描画に使用する並列型マルチコラム・マルチビームを用いた電子ビーム技術開発会社です。近い将来、微細加工技術は5nm以下が必要とされ、用途は人工知能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社PARAM
レーザー描画装置

研究開発に適したコンパクトでユーザーフレンドリーな高性能マスクレスレー…

Laser Systems B.V.（旧４PICO litho）は、レーザ描画装置の専業メーカーとして2004年に設立されました。現在は、電子線描画装置の専業メーカーのRaith GmbHのグループ会社として、装置をワールドワイドに提供しています。...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
△▽△アルミ製　検査機械内装品△▽△

加工難度の高いアルミにも対応致します！！

A5052 3t W700 L750 H500 株式会社ショウエイ ■精密板金 ■機械加工 ■製缶・溶接 ■焼鈍・ショット・塗装部材製作から組み立てまで一貫生産。製品の仕様やタイプによってピンポイントの作業も承っております。茨城県日立市十王町伊...
メーカー・取り扱い企業：株式会社ショウエイ本社
最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

最高級精度デジタルマノメータ　２３０／２４０　シリーズ

卓上型パネル取付型が用意されています。圧力センサはセトラ社の高精度圧力センサＭ２７０シリーズのセンサを使用し製作されます。絶対圧、ゲージ圧レンジは精度０．０６％ＦＳ。気圧レンジは精度０．３ｈＰａの高精度で計測でき、気象庁検定合格品の提供も可能です。センサ部は温度安定性、長期安定性に優れたセラミックのセトラセラムセンサを使用しています。フルスケールレンジに対応したアナログ信号を使用し高精度を必要とす...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
【金属3Dプリンター】電子ビームでステンレスをリーズナブルに造形

電子ビーム方式の金属3DプリンターでSUS材を造形することにより、大幅…

JAMPTは、金属3Dプリンターの分野において、日本で初めて粉末開発・製造から試作・量産まで一気通貫のサービスを提供することが可能なサービスビューロ（SB）です。国内SBの草分け的存在の株式会社コイワイ、東北大学・千葉晶彦教授（金属材料研究所）の学術的裏付けと技術サポート、そして双日株式会社のグローバルネットワークと情報力を大きな強みとして、金属3Dプリンターの分野で先進的な機能を発揮して...

メーカー・取り扱い企業：日本積層造形株式会社
セトラ社　ゲージ圧　絶対圧　気圧　高精度圧力センサ　２７０

モデル２７０圧力センサは０～７００ｋＰａの絶対圧、ゲージ圧を±０．０５…

２７０の安定した高い性能は厳しい精度と高い信頼性を要する半導体露光装置を始め、多くの環境計測、工業用途、研究所、航空宇宙、自動車産業で豊富な実績を重ねています。気圧レンジは気象庁形式認定品です。...２７０の安定した高い性能は厳しい精度と高い信頼性を要する半導体露光装置を始め、多くの環境計測、工業用途、研究所、航空宇宙、自動車産業で豊富な実績を重ねています。気圧レンジは気象庁形式認定品です。セトラ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
セトラ社　最高精度　デジタル圧力センサ　３７０／４７０

絶対圧、ゲージ圧、気圧を±０．０２％ＦＳで計測します。長期安定性に優れ…

モデル３７０／４７０は、セトラ社独自のセトラセラムセンサ（特許技術）と高度なマイクロプロセッサベースのデジタル電子回路と精巧なファームウェアが組み合わされ±０．０２％ＦＳの高精度システムがコンパクトで低消費電力にまとめられています。...デジタル回路とファームウェアは生データをリニアライズと温度補償した出力に処理し０．０２％ＦＳの精度で各エンジニア単位で直接リポートします。出力は双方向のＥ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部
焼付固着を防止できるボルト『SDCクリーンボルト』【潤滑剤不要】

潤滑剤・めっきを使わず焼付・カジリを防止！クリーン環境に最適な六角ボル…

SDCクリーンボルト（SDCは株式会社田中の商標登録です）クリーン環境用ステンレスボルト潤滑剤なし、不純物なし焼付き・かじりの問題解決！！ SDCプラズマ表面硬化処理を金属表面に施し、ボルトの焼付き・カジリを防止し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＣ田中
【資料】高電流・高周波対応可能の高電圧コネクタソリューション

今後の更なる半導体製造装置の高機能化・省スペース化にもマッチした高電圧…

半導体の高精度化と微細化、またその半導体を必要とする分野が急速に拡大することに伴って、現在半導体製造におけるプロセス装置は今まで以上に高電圧化が進みながら、装置自体の小型化が強く求められています。レモコネクタは、今後の半導体製造装置の進化に対してプッシュプル・小型高電圧製品で「お客様の電圧増加・省スペース化の課題を解決」いたします。 ●高電圧：最大50kVDCまで対応可。単極・多極・...
メーカー・取り扱い企業：レモジャパン株式会社
電子線描画装置

高加速電圧100ｋVの高精度タイプからSEM機能も有するユニバーサルタ…

Raith社のEBPGシリーズは、少量生産対応の高速高精度な電子線描画装置で、WWで納入実績は130台以上 EBPGの特徴 ●最大電流値350ｎAを有し、業界最速のスループットを実現 ●Overlay５nm 以下、Stiting8nm以下で高精度描画可能 ●パターンサイズに併せ、描画中にアパチャー自動変更可能で、描画時間短縮 ●対応基板サイズ最大8インチ ●量産対応のオートエアロッ...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社
単一ショットで一括描写加工『レーザーマーキング用ビーム成形器』

高速可変可能なビームシェーパーを使用！微細マーキングを用いたアプリケー…

当社の『VULQ1』は、高速可変可能なビームシェーパーを使用したキオバ社製のレーザーマーキング用ビーム成形器です。空間位相変調器を制御することで、像を任意に形成することができる画期的レーザーマーキング用ビーム成形器です。既存のIR及び可視光レーザー（ナノ・ピコ・フェムト秒）に対応し、広範囲の追加モジュール（画像処理ツール・ビジョンツール・スキャンヘッドなど）を追加することができます...
メーカー・取り扱い企業：カンタム・ウシカタ株式会社
トップハットビームシェイパー　テクノロジー

滑らかな非球面レンズにより、特定の波長に制限されない高精度なトップハッ…

`Proprietary Top-Hat Beam Shaper TECHNOLOGY` かつてない独自技術（特許取得）のトップハットビームシェイパーです。従来技術のDOE（Diffractive Optical Element）と同じように光の回折を利用してガウシアンビームをトップハット（均一な強度分布）に変換しますが DOE と異なり、以下のような特徴を持ちます。＊ひとつの素子で、広い...

メーカー・取り扱い企業：株式会社彩世
LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケール信号をピクセル（□1μm）単位で光強度に階調を持たせた2次元画像として逐次投影することのできるハード...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノシステムソリューションズ
『ロバストな高輝度・長寿命・低消費電力電子銃』開発資料のご紹介

ロバストな高輝度・長寿命・低消費電力電子銃の開発資料！

当資料は、電子ビームを用いたウェハ直接描画に使用するマルチコラム・マルチビームによる並列型電子ビーム露光技術の開発をめざし、コラムと電子銃等の要素技術開発を進めている株式会社PARAMの開発資料です。新規素材を用いたSchottkyエミッションによる低温度動作化、炭素材加熱方式を用いた長寿命化をねらいとしています。【開発内容】 ■ロバストな高輝度・...

メーカー・取り扱い企業：株式会社PARAM
ガウシアンビーム電子ビーム描画装置の世界市場動向分析2023

ガウシアンビーム電子ビーム描画装置に関するグローバル市場分析、市場規模…

2023年10月10日に、QYResearchは「グローバルガウシアンビーム電子ビーム描画装置に関する調査レポート, 2023年-2029年の市場推移と予測、会社別、地域別、製品別、アプリケーション別の情報」の調査資料を発表しました。ガウシアンビーム電子ビーム描画装置の市場生産能力、生産量、販売量、売上高、価格及び今後の動向を説明します。世界市場の主要メーカ...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research
電磁界解析ソフト　【μ-BEAM　3次元軌道解析ソフト】

静電場、静磁場内のイオン軌道、誘電体、電極、導体、コイル、磁石、磁性体…

μ-Beamは、空間電荷を考慮した荷電粒子の３次元軌道解析モジュールです。イオンビーム制御をシミュレーション出来ます。μ-Beamはミューテックの電磁界解析システムμ-ＭＦの中の軌道解析モジュールです。【特徴】・電界および磁界中の荷電粒子の軌道解析・荷電粒子の初期位置、初期速度、担当電流量の入力機能・Ｅｘｃｅｌからの条件設定ｃｓｖファイル読込機能・計算範囲の指定と、自動計算...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ミューテック
水晶　高精度水晶

小型･高精度･低消費電流を誇り、水晶加工から一貫して生産することで …

高精度水晶のことなら「株式会社マキエレクトロ」...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マキエレクトロ
レーザー直接描画装置『DWL 66＋』

研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

『DWL 66＋』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして装備。処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学などマイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーションの研究開発に貢献します。【特長】 ■マスクレス露光や...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

高速高解像度レーザー露光装置

『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、MEMS、B...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
イオンビーム描画装置OMFシリーズ

ビューラー・ライボルトオプティクス（旧OPTEG社）のイオンビーム描画…

世界最大の真空装置・機器メーカーとして160年近い歴史を持つライボルトオプティクスは、業界のリーダーとして長年の経験を有し、高精度な光学コーティングを実現するための真空薄膜製造装置およびプロセスを提供しています。研究開発用途から大量生産の大型設備まで様々な真空チャンバーサイズを取り揃え、お客様の多様なニーズにお応えいたします。 2018年より新たに真空中で超精密光学レンズの表面研磨を...

メーカー・取り扱い企業：ビューラー株式会社
高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

『VPG＋シリーズ』は、高速な露光速度により、大型マスク製造、レジストマスター作成、さらには様々な平面基板にも直接描画に対応できる高速露光システムです。半導体、ディスプレー、センサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
【超高精度】計測用ラインジェネレーター

ライン直線性を追求！照度均一の理想的なトップハットビームを生成

『Super Straightness LINEMAN』は、ラインマンシリーズの新たなラインアップとして開発した超高精度な計測用ラインジェネレーターです。光切断法を用いた3次元計測において、従来0.1％以下の直線性を、さらに向上させ0.02％以下という極小値を実現。画像処理の際の誤差を極限まで小さくでき、更なる高精度計測が可能となります。また、光切断法において3次元計測...

メーカー・取り扱い企業：株式会社彩世
真空非磁性ＵＳＭ駆動ユニット＜特注＞

真空非磁性ＵＳＭ駆動ユニット＜特注＞

弊社では自社で放出ガス評価、磁場測定評価を行なっているため、的確な仕様の真空・非磁性アプリケーションを提供することができます。...駆動源に回転式超音波モータ（ＵＳＭ）を採用した真空非磁性対応ＵＳＭ駆動ユニットです。【特長】　◇回転式超音波モータを採用し、真空や非磁性環境に対応　◇動作毎のユニットで組合せ自由な軸構成　◇環境や精度グレードによるモデル分けでコストパフ...

メーカー・取り扱い企業：有限会社メガトラスト MEGA-TECH Formations 豊玉事業所
高電圧ハーメチックコネクタ

ハーメチック構造で最大DC20KVの通電ができる小型コネクタです。

◆機能・定格電圧20kVDC ・小型形状で軽量・ワンタッチロックのバヨネットカップリング・お客様でケーブルアセンブリが可能 (※ケーブル付きでの製作も承ります) ・RoHS対応同軸型高電圧コネクタは、内部に凹凸の構造を持たせることで、小型でありながらも最大限の耐電圧性能を発揮するように専用設計されております。これにより非常に高い耐電圧性能を持ち、且つバイヨネットカップリング...

メーカー・取り扱い企業：株式会社グローブ・テック
直接描画装置『Ledia6』

3波長を自在にコントロールし、最適な波長域でダイレクトイメージングが可…

『Ledia6』は、モバイル端末に搭載される基板のさらなる高密度・高精細化や、カーエレクトロニクス向けの多種多様な基板へのニーズに信頼の露光技術でお応えし続ける直接描画装置です。 3波長の光源を自在にコントロールすることで露光に必要な波長域をよりブロードにカバーでき、対応レジストの種類が大幅に拡大。また、基板のゆがみを補正する独自のアライメントアルゴリズムを装備し直接...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREEN PEソリューションズ本社
リニアイオンソース『LION』

頑丈でスケーリング可能な設計！高エネルギーで強く集束されたビーム

『LION』は前処理と表面改質に適したコンポーネントです。アルゴン処理で炭化水素を除去し、必要なら酸素追加が可能。イオンビームは強く収束され、高エネルギー化しています。物理的エッチングを必要とするインライン製膜システムに理想的なデバイスで、シンプルで頑丈な設計のため、イオンソーズは容易にスケールアップ可能。メインアプリケーションは、大面積ガラス製膜と金属箔製膜です。 ...

メーカー・取り扱い企業：フォンアルデンヌジャパン株式会社
ECRラインビームイオン源『ELBS-150』

ビームエネルギー100～2,000eV！独創的な磁路設計による均一長尺…

『ELBS-150』は、反応性イオンビームミリング装置に適用できる ECR(電子サイクロトロン共鳴)放電型のラインビームイオン源です。新開発の大型同軸導入端子(7/16型)による大電力マイクロ波駆動。磁気ヘッドのミリング加工や高周波回路のトリミング調整などに応用できます。【特長】 ■独創的な磁路設計による均一長尺イオンビーム ■新開発の大型同軸導入端子(7/16型)に...

メーカー・取り扱い企業：ノベリオンシステムズ株式会社
協調動作型似顔絵作画ロボット

2台のロボットが協調しながら似顔絵を作画！輪郭などの線を画像から抽出し…

『協調動作型似顔絵作画ロボット』は、2台のロボットがカメラで撮影したお客様の顔写真を用いて協調しながら似顔絵を描きます。作画を行う「6軸ロボット」は、ハンドに保持したペンを用いて似顔絵を描き、 2本の腕を用いた「双腕スカラロボット」は、色紙を取出し、移載、保持、及びお客様へのお渡しなどを行います。似顔絵を描く際には顔写真を画像処理し、輪郭などの線を画像から抽出してロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ウチゲン
半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』シリーズ

高速半導体用マスクレーザー描画装置『ULTRA』

『ULTRA』は、半導体用マスク作成に適した、高速高解像度レーザー描画装置です。『ULTRA』高生産性、高精度性、高均一性、超高精度位置合わせ精度を備えるコスト性の良いマスク描画装置です。...【基本性能】 ■最小図形寸法：　500nm ■描画速度: 580mm2/分（FXモード時）、325mm2/分（QXモード） ■ラインエッジラフネス：20nm(QXモード） ■CD均一性：30...

メーカー・取り扱い企業：ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社
電流安定度、位置安定度は業界トップクラス！電子線描画装置

加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現！※描画デモ可能

通信用半導体レーザーのDFB-LDの生産用に適したモデルです。微細加工性とレジスト感度のバランスがとれた50kV加速電圧を採用した主力製品です。【特長】 ■単結晶ZrO/Wを採用したＴＦＥ電子銃 ■抜群のビーム電流安定性、ビーム位置安定性 ■加速電圧50kVで2nmの最小ビーム径を実現 ※描画デモできます。詳しくはお問い合わせいただくかPDFをダウンロードしてご覧ください。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クレステック本社