スポット冷却装置｜超低温空気発生器「コルダー」（動画あり）

PR圧縮空気をつなぐだけで最大温度差-75℃の超低温空気を発生させる小型ス…

コルダーはボルテックスの原理を応用した簡易型スポット冷却器です。 電源やフロンガスを使用することなく、圧縮空気をつなぐだけで最大温度差-75℃(供給圧0.7Mpa、モデル190-75SVの場合）の超低温空気を吐出します。 　 生成された冷却空気の代表的な応用例としては、金属やプラスチックなどの加工工程中で発生する熱の除去があげられ、特に硬度のある材料や、粘度の高い素材の加工に優れた効果を発揮...

メーカー・取り扱い企業： サンワ・エンタープライズ株式会社

水風呂システム作ります

PRユニットバスタイプの小型浴槽から大型コンクリート浴槽（タイル・石張り）…

「サウナ用の水風呂」 ・浴槽ろ過装置 ・冷却熱源システム（チラー） ・圧力式水位制御 ●水風呂にろ過装置をお奨めする理由 　水風呂は温度が低いので汗や皮脂などの汚れが凝固しやすく、白濁してしまします。ろ過装置がない場合はすぐに白濁してしまうため頻繁に浴槽水を入替・清掃する必要があります。そのため清掃作業の手間と水道代が多くかかります。 　上水道（水道水）は季節により温度変化がありま...

メーカー・取り扱い企業： サイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEX／HEX-L用の有機蒸着源です。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。 ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

m ・重量：約70kg ・電源：200VAC 50.60Hz 15A ・チャンバーサイズ：Φ225（内径）x 250mm ・真空系：TMP + RP（ドライポンプ オプション） ・ペルチェ冷却機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMiniLabシリーズ詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

マルチチャンバスパッタリング装置

20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード（ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用）に加え特殊基板機構（高温加熱・磁場印加・冷却等）で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステストを基に専用装置を個別設計。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

膜、APC自動制御 ・膜厚モニタ：水晶振動子センサヘッド ・膜厚制御：Inficon社 SQM-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-060』

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

て選択可能でチャンバサイズに合わせて標準型以外の大型カソードも搭載できます。 カソードも膜種に合わせて強磁性体用、コンベンショナルタイプなどの各タイプが選択できます。 その他機構も高温加熱、基板冷却（水冷）、多元同時スパッタなど多くのオプションにより幅広い用途に対応いたします。...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

特長 最新設計のグリッドによる8インチ基板への均一なエッチング イオンソース冷却機構の最適化による高レートエッチングの連続運転改善 基板保持部の傾斜機構をダイレクト駆動方式より高速化 最新OSの採用と制御システムの改善による装置安定稼働 他社製プロセスモジュールをドッキングでき...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ロードロックタイプスパッタリング装置（枚葉搬送タイプ）デモ対応中

ディスクリート素子から先端デバイスまで、Ｒ＆Ｄに量産に。コンパクト、ハ…

ハ対応のスパッタリング装置。 基板搬送は枚葉（ＣｔｏＣ）タイプを基本とし、基板のサイズ、形状によりトレイによるＣｔｏＣ搬送。 カソードは大型１元タイプと多元タイプが選択可能。基板加熱も高温および冷却が選択可能。 スパッタもＤＣ，ＲＦにパルスＤＣによるリアクティブスパッタモードより選択。緻密な酸化膜も形成可能で、化合物半導体のゲート酸化膜に対応...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

【主な仕様】 最大パワー：250W（500W：オプション） フラックスモニター：標準装備 蒸着材料：ロッド（最大直径4mmまたはルツボ） 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

場合はDCモードで、絶縁体の場合はRFモードで使用することができます。ガスフードが標準装備されているため、ターゲット表面近傍での圧力を高め、成膜中のチャンバー圧力を低く抑えることが可能です。 冷却水配管およびガス配管の接続には、クイックリリースコネクターが採用されています。そのため、工具を使用することなく、簡単に配管の取り付け／取り外しを行うことができます。Fissionソースは、蝶ナット4...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

硬質膜用スパッタリング装置ＳＴＬ５５２１型（精密レンズ金型用）

最大５元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…

最大５元ｋソードを装備し、５元同時スパッタが可能な専用スパッタ室と重量基板の搬送に適したロードロック機構で金型コーティングに対応。 ６５０℃の加熱とガス冷却機構を併用する特殊基板台を装備。 高温加熱による膜の密着力の確保と処理の高速化を実現。 幅広い材質・形状に最適な膜種・処理温度・プロセスを実現できる硬質膜用専用ロードロックタイプスパッタリング装...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

成膜装置 スパッタ装置

幅広い実績を誇ります。

パッタガンや2”～4”スパッタガンの成膜レシピ（ＰＣ制御）システムを有する装置まで幅広い実績を誇ります。 〇多数のオプションも備えております。 〇基板ホルダー（オプション各種・回転、ＸＹ、加熱、冷却、シャッター機構の追加等） ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードして下さい。...

メーカー・取り扱い企業： バキュームプロダクツ株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMiniLabシリーズ詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

M-160（又はSQC-310） 多チャンネル成膜コントローラ ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライスクロールポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究・開発実験用　RFスパッタ装置

実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、４、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応　⇒　積層薄膜作製を実現 〇多彩なオプションをご用意 　　基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc. ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ＊その他のMiniLabシリーズ詳細仕様は当社へお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

-160（又はSQC-310） 2ch/4ch薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, プラズマエッチング, ドライポンプ , ロードロック機構...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

M-160（又はSQC-310） 多チャンネル薄膜コントローラ  ・ユーティリティ：電源200V ３相 15A, 水冷3ℓ/min, N2ベント0.1Mkpa  ・その他オプション：基板加熱, 冷却, 基板昇降・回転, ドライエッチング, ドライポンプ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社