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13件 - メーカー・取り扱い企業
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PRハロゲンランプヒーターより放射される光(近赤外線)を照射し、高温・急速…
近赤外線ヒーター ヒートビームシリーズは、特殊高効率ハロゲンランプから照射される近赤外線を利用し、ライン状やスポット状または、面状の熱源が得られるヒーターユニットです。 反射鏡は特殊金メッキを施し、熱効率が高くコンパクトな設計。 熱源にはハロゲンランプを使用する事により、最大1200℃までの加熱と2mm~3mm程度の集光が可能です。 ハロゲンランプから照射される輻射熱を利用しているので、非接...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ハイベック
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PRリアクター・ドライヤー仕様!混合・反応・加熱・冷却・乾燥が1台で可能 …
『パムアペックスミキサ』は、パッチ式の高速反応機としても応用が 可能な製品です。 高速かつ効率的な反応混合が可能。 当社独自のスキ型ショベル羽根により材料が浮遊拡散されることで、 反応物同士の接触回数が多くなること、効率的に熱交換がされることで 効率的な反応、高収率を実現可能にします。 【特長】 ■材料をムラなく反応混合させることが可能 ■槽内の温度勾配が少ない環境下で...
メーカー・取り扱い企業: 大平洋機工株式会社
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SDR型巻取式スパッタリング装置(RtoRタイプスパッタ装置)
サンプルテスト対応中 フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…
実に対応。 一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績 独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。 プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置として運用可能 R&D用小型機やシート対応のバッチ型装置など目的・用途に合わせて柔軟にハード&ソフトの実現...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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硬質膜用スパッタリング装置STL5521型(精密レンズ金型用)
最大5元カソードによる多元・多層成膜。耐摩耗性・耐熱性・平滑薄膜。ロー…
のコーティングに適したPtやRuなどの貴金属合金を多元同時スパッタで小径カソードで効率的に形成。またナノ多層構造の積層膜により耐熱性と硬度に優れた膜も形成可能。 精密レンズ金型のような基板を高速に加熱できる特殊基板台と専用ロードロック機構でスループット向上を実現。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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強力なプラズマ分子照射とヒータチャックを組み合わせることにより、通常の…
特長 ●高出力密度ダウンストリーム・プラズマ処理 ●ヒータステージ最高温度250℃ ●MFCによる各種ガス雰囲気制御(最大4系統) ●低周波40kHzプラズマ電源により効率的で加熱の少ない処理を実現 (CV200RFS) ●ストリップレート CV200RFS:最大7000Å/分 EcoClean:1.5~10μm/分...
メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社
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20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…
基板のトレイ搬送も標準対応、大気側の基板ハンドリングで異種基板の同一装置での成膜・処理を実現。 各用途専用カソード(ワイドエロージョン・強磁性体・酸化物・リアクティブ用)に加え特殊基板機構(高温加熱・磁場印加・冷却等)で幅広い用途に対応。社内デモ機によるプロセステストを基に専用装置を個別設計。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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手動バッチ型と簡易ロードロック型の2機種 簡易ロードロックタイプで化合…
・小型基板での少量生産に充分なプロセス性能を実現 ・ハードの信頼性と膜質の安定性を実現 ■簡易ロードロックタイプ ・手動搬送機構を装備 ・クリーンで高い真空性能 ・均一な膜厚・プラズマ・加熱分布性能 ・高結晶性窒化膜(AlN)や高反射率金属膜の形成が可能 ・紫外LED用AlNテンプレート作成 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ダメージレス・ハイスループット・多用途対応 ハイエンドデバイス・化合物…
置。 高密度表面波プラズマ源装備アッシング室2室装備。枚葉式ロードロック室1室装備。マルチチャンバタイプ。 コンパクトな設置寸法でハイスループットを実現。豊富なオプション類(RIE室・ICP室・加熱・冷却室・追加ガス系)による通常のアッシング岳でなく。マルチステップアッシング・各種有機膜エッチング・エッチング/アッシング複合装置として多くの用途・プロセスに対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ
的に合わせて選択可能でチャンバサイズに合わせて標準型以外の大型カソードも搭載できます。 カソードも膜種に合わせて強磁性体用、コンベンショナルタイプなどの各タイプが選択できます。 その他機構も高温加熱、基板冷却(水冷)、多元同時スパッタなど多くのオプションにより幅広い用途に対応いたします。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット~成膜…
準装備。 Li系複合酸化物 硫化物等ターゲットも供給。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積(φ180)への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を実現。 強磁性体カソードや同時スパッタ、ロードロック機構など豊富なオプションを揃えており幅広いハードへの要求に個別対応 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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プラズマ処理で撥水コーティング。低温処理で樹脂フィルムに対応。サンプル…
標準250mm□の処理ステージで各種表面処理(撥水化・親水化・表面酸化・クリーニング) 基板と目的に合わせて各種機能プラズマモード(RIE/DP)・ガス種(f系・CH系)・基板温度(水冷/加熱)が選択可能 サンプルテストで実基板評価が可能。同コンセプト装置で大型化・連続処理化も容易 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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ロードロックタイプスパッタリング装置(枚葉搬送タイプ)デモ対応中
ディスクリート素子から先端デバイスまで、R&Dに量産に。コンパクト、ハ…
た200mmウェハ対応のスパッタリング装置。 基板搬送は枚葉(CtoC)タイプを基本とし、基板のサイズ、形状によりトレイによるCtoC搬送。 カソードは大型1元タイプと多元タイプが選択可能。基板加熱も高温および冷却が選択可能。 スパッタもDC,RFにパルスDCによるリアクティブスパッタモードより選択。緻密な酸化膜も形成可能で、化合物半導体のゲート酸化膜に対応...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃
mm ■ リモートコントロール機能:ビーム電圧のオンオフ ■ イオンビームスキャニング機能: ■ DC偏向機能: ■ 自動出ガス機能: ■ 取付フランジ:ICF70 ■ 許容加熱温度:250℃...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社テク
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表面処理に関する技術資料を5冊まとめてプレゼント!
日本電子工業は1973年に独自のプラズマ熱処理装置「イオン窒化」を国内で最初に開発・実用化いたしました。 またセラミックコーティング、プラズマ熱処理そして高周波誘導加熱を基にし、熱処理のプロフェッショナル集団として産業界のニーズにお応えしています。 プラズマ熱処理装置「イオン窒化装置」をはじめ、独自技術を応用した熱処理設備の販売では、アジアをはじめ海外においても...
メーカー・取り扱い企業: 日本電子工業株式会社 本社
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