大型鋳物 ターニング加工【加工事例集を進呈】

PR500～4000ミリの中・大物の工作機械、半導体製造装置などの実績多数…

工作機械、半導体製造装置・各種検査装置部品、船舶・発電機部品、専用機部品、プラント部品などあらゆる鋳物製品の切削加工を行っており、精度や外観に厳しい製品の仕上がりで定評を頂いております。 設備は大型ターニング（立旋盤）３台、五面加工機２台、門型マシニング２台、横中ぐりマシニング3台、大型5軸加工機、立形マシニング7台、平面研磨機など多彩な加工機を保有。 500～4000ミリの中・大物鋳物を高精度で...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＩＳＳ西川機械

工場保全・メンテナンス、生産技術者のための工場工事【事例集進呈】

PRコンベアや空調などの機械設備の保全実績10点をまとめた事例集を進呈！お…

三重県を中心に、製造業や工場向けに幅広く機械設備や営繕工事、部品加工などの実績が多数ある酒重が、コンベアや空調などの機械設備の保全実績10点をまとめた事例集を進呈中！対応可能な施工サービス一覧や食品・繊維・半導体業界などでの製作実績について詳しく掲載。 また、機械設備の施工実績が多数ある酒重だからこそわかる、「ポンプ選定時に確認すべき7つのポイント」も併せて進呈中です！ 工場工事・修理メンテナン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社酒重

化合物半導体ウエハ用非接触搬送装置「ＳＡＧ（ＩｎＰ）型」

化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）を気体供給操作を行い、ウ…

◎特徴 １．４５０℃の高温ウエハの非接触搬送が可能である。 ２．化合物半導体ウエハ(GaAs,ＩｎＰ,ＧａＰ）の下記の切り欠きウエハの非接触搬送が可能である。 ・Φ2～４ｉｎ ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/4ウエハ ・Φ２～４ｉｎｘ1/2ウエハ ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

LEMO■半導体製造装置用コネクタ

「過酷な環境下の使用」にも耐えるLEMOコネクタ。その信頼と実績により…

酷な環境下での使用に十二分に耐え、 狭い場所での作業や短時間での作業などに特に有効に働いています。 またステッパーからロボット化した試験装置といった幅広いレンジの装置で 数多くのモデルが半導体製造装置で採用されています。 ■下記のような環境下でも使用出来るコネクタをお探しの際は是非お問合せ下さい。 ・高密度 ・小型同軸 ・非磁性 ・高電圧シールドコネクタ：最大50kV...

メーカー・取り扱い企業： 丸紅エレネクスト株式会社

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

従来型よりコンパクトなチャンバに大口径クライオポンプを採用、チャンバ各機構部に超高真空対応を採用し、クリーンな高真空環境を可能にしました。 蒸発源には水冷式反射電子トラップ付きの電子銃を使用しており、基板への電子の乳を防いだ低ダメージ成膜を実現しています。 実績豊富な６連式電子銃は高融点金属を含む多層膜電極形成に対応しています。また安定した蒸着が特徴でマイクロアークによる基板ダメージやドロップ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

半導体用トランスデューサー

半導体用トランスデューサー

コンパクトなデザイン 防爆指令対応（ATEX Zone2） 保護等級NEMA4（IP67）を備え、ケースサイドから出来る 優れたEMC対応品、優れた温度補正...コンパクトなデザイン 防爆指令対応（ATEX Zone2） 保護等級NEMA4（IP67）を備え、ケースサイドから出来る 優れたEMC対応品、優れた温度補正...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フロー・ジョイント

真空成膜装置・高真空装置

お客様のニーズに合わせた形でカスタマイズ可能な高性能真空装置

真空成膜装置とは、半導体の製造工程のうち薄膜成形のプロセスに用いられる装置で、手法によってPVD、CVD、PLD、MBEなど各種の成膜装置が存在しており、真空度の高さが半導体の品質を決める大きな要因となっています。西華デ...

メーカー・取り扱い企業： 西華デジタルイメージ株式会社

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。 高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。 半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。 絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

『PAC-LMBE』は、拡張性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

『MC-LMBE』は、操作性の高いコンパクトな超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

分子線エピタキシー（MBE）装置

コンパクトなサイズ（１インチ〜２インチ）対応のMBE装置です。

製蒸着セルの搭載も可能であり、ご指示頂きました蒸着セルをご選択可能な設計をしております。超高真空対応に、標準にて液体窒素用シュラウドを装着しております。基板加熱・回転機構を装備しております。窒化物半導体や酸化物半導体は、RFアトムソースを接続する事により、成長可能です。また、蒸着チャンバーを複数ドッキング可能な設計になっており、将来的な増設等のご希望にお応えしております。...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

広い分野で汎用された金属ベローズ

金属ベローズは各種の真空装置や半導体製造装置に応用された部材です。

Htc Vacuum)は提供できる金属ベローズの種類は溶接ベローズや成形ベローや、フレキシブルチューブの3種類あります。 これらの製品は伸縮性がよくて、各産業の装置配管に汎用されています。例え：半導体・真空装置によく配管の伸縮継手として汎用されます。ベローズの製品もいつも真空装置などの配管工程に使われています。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをダウンロードしてください。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

耐熱仕様：非接触搬送装置「フロートチャックSAH型」

高温ワークを非接触にて移載するベルヌーイチャック

本製品は使用環境温度、化学的仕様に応じた製品を製作しております。超高温域て使用する石英ガラスは、高純度で熱・酸に強く機械的強度が高い等、数多くの特質を持っています。 　半導体製造工程における洗浄槽、酸化拡散炉、エッチング装置、ＣＶＤ装置等におけるウエハの非接触にて搬送、ガラスモウルディングレンズの非接触搬送が可能になりました。 　その他、アルミニュウム、SUS、PE...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社ソーラーリサーチ研究所 大阪事業所

RIBER社 分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

に設立された分子線エピタキシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。これまで主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途として累計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

RIBER　MBEセル（蒸着源）

MBEセル（蒸着源、分子線セル）はエピタキシャル膜の品質において重要で…

に設立された分子線エピタキシャル成長装置（MBE装置）およびコンポーネント（MBEセル・蒸着源）を製造・販売する世界シェアNo.1のサプライヤーです。これまで主にGaAsやInP、GaN等の化合物半導体材料の成膜用途として累計約800台の装置を世に送り出してきました。現在、世界の主要大学や公的研究機関、デバイスメーカー、エピファウンドリー各社がRIBER社のMBE装置を運用しており、データ通信、...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

真空蒸着装置　その他周辺部材

真空業界、半導体分野で必要とされる、あらゆる材料・部品、加工品を取り扱…

弊社は、真空業界、半導体分野で必要とされる、あらゆる材料・部品、加工品を取り扱い、中でも特殊金属の加工品、特殊品、消耗品には最も力を注いで取り組んでおります。 また、品質・価格・納期・情報などの面におきましても、常にユ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クラフト

研究開発用真空蒸着装置

目的・コストに合わせて柔軟に対応！大学・公的研究機関や基礎実験用に。

パクトな筐体に電子蒸発源を標準装備した前扉型 ・電子銃蒸発源により酸化膜や高融点金属の成膜に対応 ・本格的な薄膜デバイスの研究開発・試作が可能 ・複数タイプのイオンプレーティング機構も装備可能 ・半導体・電子デバイスから新素材・表面処理用途まで幅広い用途で実績豊富 ■全手動で抵抗加熱源を基本構成とした簡易実験型 ・基板の高温加熱機構や水冷機構、またはリフトオフプロセス対応など 　豊富なオプション...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店