高輝度LED!搭載超小型USBカメラ『MD-2090Hシリーズ』

PRφ4.2mmの超小型ヘッドに高輝度LEDを8個搭載！このサイズでハイビ…

高輝度LED搭載超小型USBカラーカメラ『MD-2090Hシリーズ』は、 φ4.2mmの超小型カメラヘッドに4倍の明るさ（従来機比）の高輝度LED照明を8個搭載したハイビジョン画質のCMOSカラーUSBカメラです。 USB（MicroUSBも対応）でノートPCやタブレットに接続して、映像の表示・録画が可能。 また、LEDの調光も手元で簡単にコントロールできます。 ラインナップは、チュー...

メーカー・取り扱い企業： ウェルドビジョン合同会社

少量多品種量産でコスパを実現！省エネ省材料の小型射出成形装置

PR精密部品からはすば歯車、内ネジ部品まで幅広く成形可能！幅広い部品を少量…

エプソンテックフオルムの小型成形機『AE-M3RU』は ローターユニットが搭載された金締め力3tの横型小型成形機です。 独自開発したフラットスクリュテクノロジーやホットランナーを成形機本体に標準搭載することで 従来機の特長を引き継ぎ、少量多品種量産でコスパを実現します。 また『AE-M3RU』は、はしば歯車や内ネジなどより幅広い部品に対応するためにローターユニットを搭載。 この回...

メーカー・取り扱い企業： エプソンテックフオルム株式会社

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

ールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。 最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、 「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応 ■最大成膜温度：800℃ ■最大4x DLI気化器を搭載可能 ■マスフ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…

VD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。 また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 【特長】 ■研究開発や小規模バッチ量産向け装置 ■CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計 ■P...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

CVD、PECVD横型炉装置『EVADシリーズ』

フロー管理システムが搭載！粉体へも高温でのCVD/PECVDによる処理…

高温でのCVD/PECVDによる処理が可能。 PLASMICON制御システムにより全自動プロセス、データ保存に対応しています。 【特長】 ■FLOCONシリーズのフロー管理システムが搭載 ■PLUMEシリーズのICPプラズマソースを搭載可能 ■ガス、蒸気、液体や固体原料から合成・成膜可能 ■シングルゾーン、マルチゾーンによる温度分布制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

『3ICP＋2cassetteモジュール』は、さまざまなモジュールを 搭載可能なクラスターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの 「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

グラフェンCVD成膜装置

炉のスライド移動による急冷機構を搭載

グラェン膜を合成するための管状炉熱CVD装置です 炉のスライド移動機構を搭載、サンプルの急加熱／急冷が可能　　　 オプションで、モータ駆動による自動スライド機能も追加可能　　 オプションで、ターボ排気ポンプの追加により、さらに高品質のグラフェンが成膜可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社マイクロフェーズ

太陽電池セル量産用連続式常圧CVD装置 (AMAX1000S)

結晶Si太陽電池セル量産用　NSG(SiO2)/PSG/BSG膜成膜用…

太陽電池の生産ニーズに合致した大量生産を可能にするために、大型ディスパージョンヘッド(ガスノズル)と超高速ダブルアーム搬送機構を搭載しています。 また、太陽電池用薄ウェハ対応のため、特殊ウェハホルダー・ランプ加熱機構・多段ベルヌイチャック等を採用しました。 ●装置サイズ(mm): 1860mm(W) x 5900mm(D) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

多機能スパッタリング装置 【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ガラス基板成膜装置「低温成膜」「フレキシブル基板対応」

FPDなどリジット/フレキシブルデバイスに対応した4.5世代ガラス基板…

成膜有効幅760mmのガスヘッド2基を搭載し、吸着式加熱ステージの採用により、温度制御性±3％以内を実現しました。 4.5世代ガラス基板に250℃で100nmのSiO2膜をスループット 25枚/h以上で成膜が可能で、膜厚均一性10％以内を...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

PETボトル用プラズマCVD装置

3L容器までコーティング可能！容器軽量化による物流コストの低減などに貢…

■様々な製品材質に成膜可能 『High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置』 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ搬送も対応可 ■CVD室、蒸着室、プラズマクリーニング室等の組み合わせも対応可...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

、優れた柔軟性と効率を実現することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応M...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

液体ソースプラズマCVD装置

小型でスペース効率の優れた装置！基板はφ4インチ対応で、加熱機構・T/…

上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンスでき、小型でスペース効率の 優れた装置です。 【特長】 ■シリンダーキャビネット付き ■液体ソースに対応したベーカブルMFC、各種ベーキング機構搭載 ■独自のプラズマ電極を設計 ■上蓋開閉により基板交換、内部メンテナンス可能 ■小型でスペース効率が優れている ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

原子スペクトル検索ツール 無料動画ＤＶＤプレゼント

AtomSpectraDBViewer 高速便利に検索！新バージョン登…

の文字置き換え機能 ・発光強度の切替　真空時／エア混じり ・波長の単位切替 ・データのスクロールアウト防止 ・フォントサイズ調整可 ・カラーサンプルでわかりやすい！ その他、便利な機能を搭載しています。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クレブ

プラズマＣＶＤ成膜

ガスを化学反応させることで緻密な薄膜を形成！低温加工も可能です。

■対応膜種：DLC、SiO2、SiN、SiC ■最大搭載可能サイズ：φ12インチ×t20mm ■対応可能基板 　・Si Wafer 　・ガラス 　・フィルム 　・セラミックス 　・金属材 　　他...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

・IGS方式対応 ・実ガスによる精度検証済み、マルチガス・マルチレンジにも対応 ・フィールドでのプログラムが可能 ・DeviceNet、RS-485、アナログコントロール ・ディスプレイ搭載 ・自己診断機能内蔵 ・100％メタルシール、高純度仕様...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

ハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

スパッタリング装置 多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載 同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社