真空仕様 | イプロスものづくり

PR真空装置メーカーの技術・経験を結集！自社設計により柔軟な仕様変更とリー…

当社では、不純物ガス濃度1ppm以下の高純度環境を実現する『グローブボックス』を設計・製造・販売しております。内部のガス圧力が一定範囲になるよう制御するAPC機構や、グローブ・圧力計の破損時に異常を検知してガス供給を停止するセイフティ機構を標準搭載。グローブボックスの豊富な知識・経験を活かし、各種カスタマイズも承ります。【特長】 ■自社設計により柔軟な仕様変更とリ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイエルエステクノロジー

【最新モデル】Druck ハンドヘルド圧力校正器 DPI610E

PR圧力校正器が「６月28日まで」期間限定の特価キャンペーン！現場校正作業…

ドラック伝説の校正器 DPI600シリーズからの待望の最新モデルのキャンペーンを実施します。現場校正作業の効率アップに欠かせない一台です。【４月１日～６月28日まで期間限定特価キャンペーン中】この機会に、使いやすい最新モデルにアップデートしませんか？【特長】 ◆簡単操作の圧力測定と圧力発生、信号測定、ループ電源機能を一台に統合 ◆前モデルより大幅に改善されたポンプ機能と...

メーカー・取り扱い企業：日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　（旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

RIBER社EZ-CURVE 真空装置In-situ反りモニター

各種真空装置内でのウエハ応力、反り、曲率、異方性等をリアルタイム、高精…

RIBER社で開発されたEZ-CURVEは各種真空装置に取付可能であり、応力、反り、曲率、異方性等の測定が可能なIn-situモニターです。特徴 1) In-situ応力、反り、曲率、異方性等の測定可能 2) 成長メカニズムに関する基礎データ取得にも利用可能。 3) 各種真空成膜装置（CVD, MBE, PVD等）や真空プロセス装置(エッチング、アニーリング等）に対応可能。 4) 従来...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

VP型ドライルーツ式　真空ポンプ　VPシリーズ

独自の冷却技術を用いた多段ルーツ式真空ポンプ

【特徴】 ○ルーツ式で大気圧から入口締切りまでの全域で　運転を実現し、使い易さを追求 ○ステンレス(SCS13.14.16)製真空ポンプの製作が可能　その他の特殊材質についても対応可能 ○擬縮性ガスの吸引でも連続運転が出来ます。 ○真空ポンプケーシング内部の洗浄が容易に行える ○高温ガス130℃を直接吸引することができる(標準材・FC) ○吸引と同時に圧送ができる（特殊仕様...

メーカー・取り扱い企業：株式会社四葉機械製作所

真空装置設計・製作からサポートまで短納期でご対応

真空装置の設計・製作から保守作業までお任せを！

各種真空成膜装置の設計・製作を行っております。装置完成後の現地搬入・立ち上げ、稼働後の保守を含めたトータルでのサービスが可能な体制となっております。各種実験補助設備の設計や真空設計の応用に豊富な経験があり、仕様検討の段階よりお手伝いさせて頂きます。また、研究･開発部門からの引合いも多く、ご要望に沿った提案が出来ますので、お気軽にご相談下さい。...【製品】蒸着膜形成装置・各種金属/有機物蒸...

メーカー・取り扱い企業：株式会社コスモ・サイエンス

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400F』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔に超高速、高品…

『VC-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、樹脂フィルムや金属箔への超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

研究・試作に最適な小型プラズマCVD装置『VC-R400G』

独自のLIA方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速…

『VC-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、ガラス、金属などの平板基材に超高速、高品質な真空成膜を実現するプラズマCVD装置です。実験・研究・評価・試作に好適。LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)使用により、高速/高精度/低ダメージ真空成膜を実現。多点制御により、より細かな均一性を確保。手動、自動、オプションも多彩です。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社SCREENファインテックソリューションズ

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

『730シリーズ』は、コンパクトサイズ・ローコスト・高精度を実現したセトラシステムズ社の真空センサです。静電容量の変化を検知して、リニアな直流電圧信号に変換し出力します。温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ...

メーカー・取り扱い企業：エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

ピラニ真空計　PG-20

小型なボディで装置組込みの省スペース化！

熱を奪われたフィラメントが常に一定温度となるよう、加える電力を自動的に調節する定温度型のピラニ真空計です。小型なボディで装置組込みの際に省スペース化を図ることができます。表示は操作しやすいデジタル方式です。...帯域（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。（特長）　●（1.0×10...

メーカー・取り扱い企業：東京電子株式会社

多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

定温度型ピラニゲージコントローラ　PG-30

熱伝導を圧力に変換して、真空計測を行えます。

帯域（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の低真空を測定できる、ピラニ真空計です。...（特長）　・（1.0×10-1Pa）?（1.0×10　4Pa）の測定範囲　・故障に強い定温度型　・小型なボディーで省スペース化が可能（仕様）・出力信号：a)制御出力　リレー接点出力容量 AC100Vmax、1Amax 　　　　　　b)アナログ出力　0?5V　F....

メーカー・取り扱い企業：東京電子株式会社

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

半導体・液晶製造装置の排気ラインは大量のパウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...ＣＶＤ装置や、ドライエッチング装置の真空ポンプやそこから除害装置間では常にデポ物堆積や、真空ポンプ故障、バ...

メーカー・取り扱い企業：エヴァンリード株式会社

単結晶高純度ダイヤモンド合成用CVD装置　DCVD-51A

コンパクトで省電力！デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験用…

ダイヤモンドの単結晶成長(ホモエピタキシャル)が可能な高純度のダイヤモンド合成実験を行うためのプラズマCVD装置【特徴】 ○コンパクトで省電力 ○超高真空技術を駆使しており、プラズマが室壁に接触しないため　デバイス作成向け単結晶高純度ダイヤモンド合成実験が可能 ○球状コンパクトチャンバー＋特殊電極により、高効率な運転が可能 ○放電状態を見ながらの実験が可能 ○試料導入は...

メーカー・取り扱い企業：アリオス株式会社

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■立体物に成膜可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社DINOVAC

三菱電線工業のメタルシール「サンリーメス」シリーズ

高機能メタルシール！！各種真空機器、半導体製造装置などに最適！

●機器仕様の多様化に伴い、従来のゴム材料や樹脂材料を用いたシールでは、その材料特性から使用に耐えられない場合が増えてきています。 ●このような場合、メタルＯリングに代表されるメタルシールが選択されていますが、締付力が大きい、復元量が小さいという弱点から、ゴム材料や樹脂材料を用いたシールからの置き換えは容易にはできません。 ●これらの問題を解決するため、メタルシールとしての長所を持ちなが...

メーカー・取り扱い企業：三菱電線工業株式会社

高周波レーザーCVD装置

簡単に試料セットする事が可能！外部ビューポートよりYAGレーザーを入射…

当製品は、高周波加熱コイルの中心に試料ステージ（自動回転機構付き）があり、外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができるCVD装置です。サンプル導入口はチャンバー側面で、両側開閉可能。簡単に試料セットする事ができます。オプションでチャンバー上部にガス供給系（最大5系統）を設置する事も可能です。【特長】 ■外部ビューポートよりYAGレーザーを入射し成膜ができ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

プラズマCVD装置

漏洩マイクロ波検出用も付属！試料の取付は、下部よりモーターによる上下機…

『プラズマCVD装置』は、実験用に極端に簡素化して製作されたCVD装置です。マスフロー本体は、メーカー品を使用。表示器、設定器は当社オリジナルで製作し価格を下げております。また、プラズマ発生域と試料の距離を変更できるよう、マイクロ波導波管を上下できる機構を備えています。【特長】 ■実験用に極端に簡素化して製作 ■マイクロ波導波管を上下できる機構を備えている ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

酸化シリコン成膜CVD装置

3インチウェハ対応！コンパクトな設計となっており省スペース化を実現しま…

当製品は、酸化シリコンを成膜する為のCVD装置です。コンパクトな設計となっており省スペース化を実現。内面処理は電解研磨、チャンバー材質はSUS316です。また、3インチウェハ対応となっております。【特長】 ■酸化シリコンを成膜 ■コンパクトな設計となっており省スペース化を実現 ■3インチウェハ対応 ※詳しくは外部リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和泉テック

MOCVD排気濾過用フィルター　（AIXTRON装置用）中国産

MOCVD、フィルター、AIXTRON、LED、中国産、高温真空粉塵濾…

主流ドイツのAIXTRON社のMOCVDの各型番の装置の排気フィルターは全部対応可能です。日本国内にも多数LEDメーカ―とパワーディバイスメーカーに2年以上の採用実績があります。品質面、価格面も高い評価を頂いております。...ドイツのAIXTRON社のMOCVD装置用の排気フィルターシリーズ製品はアメリカ産の高級耐高温ガラス繊維制濾過材（濾過布）と中国産ＳＵＳ３０４を構成した製品。ガラス繊維制...

メーカー・取り扱い企業：愛鋭精密科技（大連）有限公司（AIRY TECHNOLOGY CO., LTD.) 中国大連本社

トランスファーロッド（Ｚ-φ軸　KTXシリーズ）

【 4000台販売突破キャンペーン実施中】弊社トランスファーロッ…

真空中の試料や機器等に、大気側から直線運動と回転運動を伝達する導入機です。本製品は、長い距離（500mm～1000mm）での試料等の搬送を行う際におすすめです。マグネット方式の為、外部との真空封止は完全で、半永久的に安定した動作を得られます。真空中に取り付けられた直線運動及び回転運度を要する機器への応用が可能です。本体の内部には、電界研磨処理を施し超高真空領域まで使用可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

B-A真空計『ミニチュアイオンゲージ　IG-10（ICF70）』

センサー・回路部・ディスプレイが一体型のコンパクトな熱陰極電離真空計で…

広帯域（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa）の高真空領域までを高精度測定ができる『イオンゲージ真空計』です。ディスプレイは高照度・高精細有機ELを採用し高視認性で、多様なデータを簡単操作で呼び出し、コントロールする事ができます。また、多様なインターフェースも標準装備しています。【特長】 ■広い測定範囲（1.33×10-7Pa）?（6.65Pa） ■簡単なセ...

メーカー・取り扱い企業：東京電子株式会社

スパッタリング装置多機能スパッタ装置MiniLab-S060A

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリングプラズマエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社