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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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対応温度は常温~200℃!割れ及び円形きずを検出する能力に優れています…
【施工例(溶剤除去性染色浸透探傷検査)】 ■表面及びきず内部の汚れを除去(前処理) ↓ ■材料表面に浸透液を塗布(浸透処理) ↓ ■一定時間浸透後、乾いたウエスで除去(除去処理) ↓ ■洗浄液を含ませたウエスで浸透液を除去(除去処理) ↓ ■現像剤を適用(現像処理)、一定時間現像後に観察 ↓ ■現像剤により吸い出された浸透指示模様(割れ...
メーカー・取り扱い企業: 計測検査株式会社
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