用途拡大中！可視光は通し熱線は防ぐ遮熱ネット【青天張】

PR遮熱塗料でも、遮熱フィルムでもない『遮熱ネット』熱領域の赤外線と紫外線…

『青天張』は、近赤外線吸収材料CWO(R)を農業用ハウスのビニール材へ練り込むことで太陽光をコントロールする高機能遮熱ネットです。 光線波長の内、紫外線（400nm未満）と赤外線（700nm以上）を大きくカットすることで 可視光以外の熱線を防ぐことができます。 農業領域では作物の光合成を促進する波長領域（400～700nm）の透過率を維持しながら、 その領域外の赤外放射を遮蔽することで、作物の...

メーカー・取り扱い企業： シーアイマテックス株式会社

『ヘラマンタイトン　’24-’25最新版総合カタログ』無料発送可

PR結束バンドの「インシュロックタイ」のほか、結束工具、固定用・電線保護用…

当社は、配線作業の効率を高める結束バンドを中心に、 様々な製品を開発・製造しております。 結束バンド「インシュロックタイ」だけでも、 耐候グレード、耐熱グレード、難燃グレードなどの各種グレードがあり 46ナイロンやふっ素樹脂といった特殊樹脂で機能性を高めた製品など 現場ニーズを幅広くカバーする製品をラインアップしています。 ただいま、当社の製品を網羅した「最新版総合カタログ」を配布中です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ヘラマンタイトン株式会社

コンパクトレーザーMBE装置『PAC-LMBE』

扱いやすいデザインで各種成膜条件の制御が容易！6種類のターゲットが使用…

性の高い超高真空レーザーMBE（PLD）システムです。 基板加熱ユニットとして、赤外線ランプ加熱と半導体レーザー加熱の いずれかを選択可能。6種類のターゲットが使用できます。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換いただけます。 【特長】 ■拡張性が高い ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■6種類のタ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

グローブボックス付　多源RFスパッタ装置

酸素や水分を排除したい研究製膜環境！多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応…

当製品は、電池、触媒材料や有機デバイス開発用のスパッタ装置です。 スパッタ室にロードロック室とグローブボックスを連結。 UHV対応スパッタカソードを4本装着することができます。 また、多層膜、化合物製膜、反応製膜に対応しております。 【特長】 ■電池、触媒材料や有...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

コンタクトアニール用ランプアニール装置『RLA-3100-V』

GaN基板の処理も可能！コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装…

0-V』は、6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応可能な コンタクトアニール用ランプアニール(RTP)装置です。 耐真空設計された石英チューブの採用でクリーンな真空(LP)環境、 N2ロードロック雰囲気での処理が可能です。 また、自動ウェーハ載せ替え機構を装備し、C to C搬送を実現します。 【特長】 ■～6インチまでの幅広いウェーハサイズに対応 ■自動ウェーハ載せ...

メーカー・取り扱い企業： 光洋サーモシステム株式会社 営業管理部

モバイルコンビレーザーMBE装置『MC-LMBE』

スキャニングRHEEDを標準装備！モーター駆動コンビナトリアルマスクを…

超高真空レーザーMBE（PLD） システムです。 1200℃まで加熱可能な半導体レーザー基板加熱ユニットを搭載。 モーター駆動コンビナトリアルマスクを2枚を装着しています。 また、ロードロック室ユニットにより、真空中でターゲットや基板を 簡単交換できます。 【特長】 ■操作性が高くコンパクト ■到達真空度：6.7×10^-7Pa（5×10^-9Torr）以下 ■モー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社パスカル

大判パネルダイシング装置『ATD Model 7100 XLA』

ガラス板やPCBへ応用可能！24"×18"までの大判パネルダイシング！

D Model 7100 XLA』は、24"×18"までの大判パネルダイシング装置です。 チャックはユーザ仕様、クランプあり/なしに対応するほか、 テープあり/なし処理が可能です。 ロード・アンロードが簡単。メンテナンスも容易に行うことができます。 モニターは回転式で調整可能、USBハブ付です。 【特長】 ■24"×18"までの大判パネル ■応用：ガラス板、PCB、銅付...

メーカー・取り扱い企業： 日本技術産業株式会社

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

で均一性に優れた 　エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での 　エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

RTP装置『AS-Premium』

最大156mm×156mm基板対応！真空又は大気搬送装置及びロードロッ…

【その他の特長】 ■マスフローコントローラー：最大 8 ■真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能 ■最大温度 ・1100℃(基板上部ランプ加熱式、4 ゾーン) ・1300℃(基板上部ランプ加熱式、8 ゾーン) ・1300℃(基板上下部ランプ加熱方式、6 ゾーン) ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RTP装置『AS-Master 200』

ターボポンプ搭載可能！低温(1100℃)/高温(1300℃)パイロメー…

『AS-Master 200』は、アニール処理後急速冷却機構のRTP装置です。 最大200mm径基板対応(基板上部ランプ加熱式)しており、 真空又は大気搬送装置及びロードロック搭載可能。 また、大気・真空下プロセスに対応しており、ターボポンプ搭載可能。 ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。 【特長】 ■最大200mm径基板対応(基板上部ラン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

RP3500SA　N2パージシステムスタンドアロン

全てのFOUPに対応した SEMI準拠のN2パージロードポート 【特徴】 ○FOUPの種類によらず、全てのFOUPに対応 ○FOUPドアが開いた状態でドア側からガスを封入 　フロントパージ方式を採用（最大200LPM噴射） ○多量のガスを...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ライト製作所 本社

プラズマCVD装置

プラズマCVD装置

●コンパクトな設計でありながら、試料は3インチウエハーなら5枚、4インチウエハーなら3枚、8インチウエハーなら1枚が対応可能。 ●最大100ステッププロセスが可能。 ●ロードロック室を装備しているため安定したプロセスが可能。 ●各種安全対策のためのインターロック機構を搭載。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

ウェーハ取出・収納機（WLU-01型）

3種類の動作が行える装置

φ6、8インチウェーハのカセットから取出しを行う【ロードモード】、カセットへ収納する【アンロードモード】、ロードモードとアンロードモードを交互に行う【出し入れモード】の3種類の動作が行える装置です。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジャステム

『JBP』スプリング内臓PTFEピストンシール

JIS B2401のP番溝に対応した耐食性スプリングを内蔵したテフロン…

ホライト(Hallite)『JBR』は、JIS B2401のＰ番溝に対応したスプリングロードタイプの片圧用ピストンシールです。 U形状のシールジャケットにV形状の耐食性メタルスプリングを内蔵した構成です。　 無負荷時または低圧時はシールリップに必要なスプリング荷重を与え、適切...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・オー・テック 本社

『JBR』スプリング内臓PTFEロッドシール

JIS B2401のP番溝に対応した耐食性スプリングを内蔵したテフロン…

ホライト(Hallite)『JBR』は、JIS B2401のＰ番溝に対応したスプリングロードタイプの片圧用ロッドシールです。 U形状のシールジャケットにV形状の耐食性メタルスプリングを内蔵した構成です。　 無負荷時または低圧時はシールリップに必要なスプリング荷重を与え、適切な...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・オー・テック 本社

『VSE』スプリング内臓PTFE外圧用面シール

耐食性スプリングを内蔵したテフロン(PTFE)の万能な外圧用面シール！…

ホライト(Hallite)『VSE』は、スプリングロードタイプの外圧用シールです。 U形状のシールジャケットにV形状の耐食性メタルスプリングを内蔵した構成です。　 無負荷時または低圧時はシールリップに必要なスプリング荷重を与え、適切な接触面...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エム・オー・テック 本社

イオンビームエッチング・成膜装置『QuaZar(TM)』

高いスループットを実現！大面積イオンソースと高度なモーションコントロー…

グリッドは、従来の方式に比べ、長期に渡り 良好な均一性を得ることが出来ます。 【仕様】 ■イオンビームシステム ■プロセス温度：-40℃～+60℃ ■傾斜角：+90度～-80度 ■ロードロック　又は、CtoC ■ウエハサイズ：100mm,150mm,200mm ※英語版カタログをダウンロードいただけます。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい...

メーカー・取り扱い企業： プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプション -1) Max600℃（ランプ加熱） -2) Max1000℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

化合物半導体用蒸着装置（ＡＡＭＦ－Ｃ１６５０ＳＰＢ型）

先端光デバイスに最適な専用蒸着装置。低温・低ダメージ成膜で平滑な膜表面…

しており、成膜前の基板のべ―クと共に幅広い用タッチパネルによる全自動操作とデータロギングを標準装備し安定した稼動を実現しています。 オプション類も豊富で基板水冷機構・高温加熱機構・同時蒸着機構・ロードロック機構など実績機構より目的に合わせて選択可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

多目的スパッタリング装置

研究開発から量産までサポート！

によるデータ管理が容易。 【各種　選択機能】 ●カソード変更（大型カソード化、4インチカソード多元化） ●高温加熱機構（800℃） ●バイアススパッタ機構 【ラインナップ】 ●ロードロック式スパッタリング装置 ●マルチチャンバスパッタリング装置 ●超高真空対応枚葉式スパッタリング装置 ●サイドスパッタリング装置 ●カルーセルタイプスパッタリング装置 ●巻取式スパッタ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積（φ１８０）への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を実現。 強磁性体カソードや同時スパッタ、ロードロック機構など豊富なオプションを揃えており幅広いハードへの要求に個別対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

超高真空スパッタリング装置（STM2323型）

先端薄膜デバイスの研究開発に最適。カスタマイズ容易な枚葉式超高真空イン…

標準インラインタイプ 標準６室構成（ロードロック室、カセット室、搬送室、スパッタ室３室） 枚葉式CｔｏＣシステム 到達圧力：１０－⁷ｐａ　Order（スパッタ室） 対象基板：φ２～４インチ オプション機構 高効率強磁性体用カソー...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ＡｌＮテンプレート作成装置（配向性ＡｌＮ膜用スパッタリング装置）

ＵＶ－ＬＥＤ用ＡｌＮテンプレートをスパッタで。高い結晶性とＣ軸配向性を…

標準型ロードロックタイプスパッタリング装置より成膜系（カソード、チャンバ、プロセス）を大きく改善。 Ｒ＆Ｄタイプの小型カソード使用装置と量産用の大型カソード１元の２タイプをラインナップ。 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

成長させることのない完全なALD成膜を保証し、 システムメンテナンスの必要性を最小限に抑えます。 プリカーサの供給が最適化されているため、材料の無駄がありません。 ※詳しくはPDFダウンロードまたは、お問い合わせ頂ければ幸いです。...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

排気配管内Ｎ２ヒーター（コントローラ内蔵型）

配管形状を選ばず、粉体の析出を抑制し配管内の閉塞を局所集中により防止し…

ウダーにより常に汚染や閉塞の危険が伴います。当製品は既設の希釈用Ｎ２ガスを利用してこれらの諸問題を簡単且つ低コストで防止、解消します。また、クライオポンプのオーバーホールサイクルの向上、延命の他、ロードロック室のパージにも優れた効果を発揮します。...

メーカー・取り扱い企業： エヴァンリード株式会社

OPV用蒸着装置『KVD-OLED Evo.6』

コンパクトな設計を実現！有機蒸着源を4台標準搭載した蒸着装置

ス(MBRAUN)の中で 行い、搬送機構を用いて蒸着室内に基板を搬送し、電極を蒸着させる 一貫した装置となります。 グローブボックス（MBRAUN社製Labmaster）と接続でき、 ロードロック室間は手動の搬送機構で操作可能。 排気操作は前面のタッチパネル(PLC)により操作できます。 【特長】 ■排気シーケンスはPLCにて制御可能 ■金属の蒸着はボート式とルツボ式...

メーカー・取り扱い企業： 北野精機株式会社

多層膜スパッタリング装置『S600』

ヒーターステージ(1000℃)搭載！開発工程～量産工程まで様々な用途へ…

【その他の特長】 ■ダブルロードロック室で高生産性を実現 ■ロータリタイプとマルチチャンバタイプを融合した搬送形態で 　多様なプロセスへの対応と高スループットを両立 ■各ポジションに様々なユニットを装着可能 ■3～6イン...

メーカー・取り扱い企業： パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

Epitaxial-EB蒸着装置

最高900℃の高温プロセスが可能！エピタキシャル促進機構により単結晶成…

よりパーティクル 低減させます。 マルチチャンバ仕様やバッチ式も製作可能です。 【特長】 ■酸化促進ガス導入機構 ■材料酸化防止機構 ■最高900℃ の高温プロセスが可能 ■ロードロック式による高真空プロセスに対応 ■リフトオフプロセスにも対応 ■トレイ搬送にも対応 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

地方独立行政法人大阪産業技術研究所様に、マグネトロンスパッタリング 装置を納入した事例を紹介させていただきます。 今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロード ロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。 スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されて...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大阪真空機器製作所

Parker 計装用ボールバルブ

パーカー製 2 方 B シリーズのボール・バルブ

確認可 • 小さなトルクで操作可能 • ハンドルの停止位置が一目で分かります。 • ハンドルはカラー・コードで分類 • 空圧/ 電動式アクチュエーターが供給可能 • PTFE 製ライブ・ロード式ステム・シールが供給可能 • 調整不可能、O リングのステム・シールが供給可能 • 上流圧、下流圧逃しオプション有り • ステンレス鋼製のステム延長オプション有り...

メーカー・取り扱い企業： アマノ機工株式会社 パーカーストア豊田店 パーカーストア事業部

半導体関連装置

ワークの外観検査を目視にて行う装置などを豊富に取り揃えております

ップ特長】 ＜レーザーマーキング／厚さ測定機＞ ■ワークの厚みを測定し、測定後レーザーマーカーにてワークにマーキングを行う ■搬送ロボットを搭載しており、フルオートで処理が可能 ■FOUPロードポートを搭載 ■レーザーマーカーを搭載 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピクリング