廃熱発電技術による自立電源のご提案　※資料進呈

PRIoT用自立電源や省エネ用自立電源！未使用廃熱を効率よく電気エネルギー…

当資料では、独自開発の廃熱発電技術による自立電源についてご紹介しております。 様々な低温排熱源（300℃程度以下）に対応した、極薄で湾曲自在な熱電発電モジュール『フレキーナ』を実用化！ 『フレキーナ』を搭載した、IoT用や省エネ用自立電源システムの 開発事例など豊富に掲載。 その他、他技術との比較や用途事例なども掲載しており、導入検討の際に 参考にしやすい一冊となっております。ぜひ、ご一読くだ...

メーカー・取り扱い企業： TSP株式会社

機械器具設置・重量装置搬送・最大30ｔの『パワーアタック』

PR充電バッテリー/コンパクトな電動ムーバー「パワーアタック」 重量装置…

「パワーアタック」はテコの原理を利用したウォーキータイプの電動ムーバーです。 ◆ご用途/実績例はこちら ・大型・重量印刷機の工場内搬入・設置（機械器具設置・とび土木業） ・牧場内サイロ建設現場で資材搬送（機械器具設置・建設業） ・製造現場でレール上の車両移動（鉄道車両メーカー） ・製造現場で重量製品の工場内移動・出荷（機器製造メーカー） ・分取カラム装置の工場内移動（化学薬品メーカ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダイナテック 本社

スパッタリング装置『nanoPVD-S10A』

高機能 コストパフォーマンスに優れた研究開発用RF/DCマグネトロン式…

時成膜 ● 膜均一性±3% ● 多彩なオプション：上下・回転、ヒータ、磁性材用カソード、他 ◉ nanoPVDは、最大スパッタ源3源+3系統（MFC制御）、RF/DC PSUの増設（最大2電源まで）連続多層膜・2源同時成膜（RF/DC、又はDC/DCのみ）、など多目的にお使い頂くことができます。 ・絶縁膜 ・導電性膜 ・化合物、他 【主な特徴】 ◉ 対応基板：2"（1〜3源...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

高電圧パルス発生器

電圧・電流設定の操作、モニタ-を行う事が可能

・高安定度高圧電源(温度変動50ppm/℃)搭載。 ・電流、温度制御の時定数設定可能。 ・高電圧高速スイッチ(2KV-pp / 40ns)搭載。 ・各電源を機能別にモジュール化。 ・各電源の電圧、電流、温度モ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社Ａ・Ｒ・Ｐ

デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

【製品仕様】 スパッタ方式：RFマグネトロンスパッタ方式 カソード：φ2インチ×3源/水冷式 スパッタアップ スパッタ電源：RF電源 13.56MHz Max. 200W(手動式マッチングユニット付) 到達真空度：10^-4 Pa台 寸法： 　SVC-700RFIII(制御ユニット)：W370×D310×H195...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

RFスパッタ装置『SP-3400』

逆スパッタも可能！500Wの高周波電源を1台搭載し、金属・酸化物・絶縁…

『SP-3400』は、3インチ用カソードを3源搭載したRFスパッタ装置です。 電源は500Wの高周波電源を1台搭載しており、金属・酸化物・絶縁物等の 成膜が可能となっています。 整合器は自動整合器を2台搭載することにより切替にて逆スパッタもでき、 成膜時の膜厚分布を良く...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サンバック 本社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

連続多層膜、同時成膜（2〜6元同時成膜：RF, DCをHMIより自在に配置切替） 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能、様々な用途に柔軟に対応 高温基板加熱ステージ（二重ジャケット水冷式）オプシ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、HIPIMS電源を使用し、 強制的にイオ...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

ッタリング装置のメンテナンスを目的に2008年に設立しました。 メンテナンス・リサーチは新しい真空プロセス設備のご紹介とともに、ご使用設備を長く安定して稼働して頂くよう、製造中止パーツの置き換え、電源、ロボット等の修理代替え品等を用意し、信頼のあるパーツと技術サービスのご提供を通してお客様のデバイス生産活動に貢献いたします。 【事業内容】 ○海外真空プロセス設備の販売、各社中古真空プロセ...

メーカー・取り扱い企業： メンテナンス･リサーチ株式会社

多源同時マグネトロンスパッタ装置『FRS-HGシリーズ』

放電操作が容易！RF電源にオートマッチングを採用したコンパクトな設計

ドに 加え、アークプラズマ蒸着源などスパッタリングとの相乗効果が期待できる 成膜ソースを搭載することが可能です。 【特長】 ■据付タイプながらコンパクト且つスタイリッシュな設計 ■RF電源にオートマッチングを採用しており、放電操作が容易 ■2源または3源の同時成膜により、薄膜の機能・性能の微調整が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

立体物用スパッタリング装置

立体物成膜での高いカバレッジを実現！ 最大3台のスパッタカソードを搭…

パッタリング装置』は、当社独自のスパッタカソードを 搭載しています。 ワークステージに4軸機構（昇降、公転、自転、チルト）を搭載し、立体物成膜での高いカバレッジを実現。 加熱機構、バイアス電源を搭載し、逆スパッタ、高温スパッタ、膜応力制御が可能です。 最大3台のスパッタカソードを搭載し、金属膜、酸化膜等の積層成膜が 可能です。 【特長】 ■当社独自のスパッタカソードを搭載...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

射出成形機連動型高速スパッタ・重合システムSPP-SERIES

樹脂基板への金属膜、保護膜が全自動で成膜可能！

まで約80sec以下 ○反射率：85％以上、KOH　１％　10min ○SP室＋重合室　2室構成 ○スパッタ室：高使用効率型カソード 　（ターゲットサイズ440×240mm）、30kW　DC電源 ○重合室：グロー放電式重合電極×1　750W　RF電源 ○スパッタ材料：Al等 ○重合ガス：HMDSO(SiOx用）等 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

平行移動式3元RFスパッタリング装置『MSS600-3』

ガス導入と圧力コントロールバルブによるスパッタ圧の制御が可能！

【仕様】 ■電源電圧：AC200V　三相3線式　50/60Hz（電源電圧変動：±10％） ■最大電流：250A ■運転可能周囲温度湿度：+5～+35℃/75%rhまで ■装置本体外形寸法(W×H×Dmm)：3...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社愛知真空

小型スパッタ装置

対応基板は最大φ1インチまで処理が可能！デュアルガスノズルを備えた装置

『小型スパッタ装置』は、1.3インチマグネトロンスパッタカソードを搭載した 実験用高真空小型制膜装置です。 放電用にマッチングユニット付きのRF電源を一台装備。 酸化反応スパッタリングに対応できるデュアルガスノズルを備えます。 また、対応基板は最大φ1インチまで処理が可能です。 【特長】 ■1.3インチマグネトロンスパッタカソー...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社和泉テック

【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

【主な仕様】 ターゲット直径：2インチ ターゲット厚さ：最大6mm（材料に依存） DC電源：720W（600V, 1.2A） RF電源：300W（13.56MHz） ガス供給：ガスフード経由 冷却：水冷（1L／分）...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

三元マグネトロンスパッタ装置『NS-023』

三元同時スパッタによる新素材の薄膜開発！実験内容や予算に応じてカスタマ…

【仕様(抜粋)】 ■スパッタ源：Φ2インチ マグネトロンカソード×3基 ■スパッタ方向：UP ■スパッタ方法：単元または多元同時スパッタ ■電源：RF500W 電源3基 ■対応基板：Φ2インチ 1枚 ■ヒーター加熱温度：MAX950℃ ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

移動ロードロックシステム『CEX-2420』

スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを装備！各試料ホルダーへ…

ポート部は、独立したターボ分子ポンプで排気され、 試料を常に超高真空下に持ちます。また、スパッタ装置用、PLD装置用の 2つの接続ポートを備え、各試料ホルダーへの試料の移載が可能。 無停電電源でバックアップされ、30分以上の移動時の無通電可動ができます。 【特長】 ■大気暴露なしに成膜試料を超高真空下で移載搬送できる ■スパッタ装置用、PLD装置用の2つの接続ポートを備え、 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コメット