4層 | イプロスものづくり

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題・これ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社技術情報協会

【COMNEXT2024出展】FPC・リジッドFPCも超短納期

PR【COMNEXT2024出展】『欲しい時にすぐ欲しい』松和産業…

プリント基板製造において国内屈指の短納期メーカー、松和産業ならばFPC基板・リジッドFPC基板も驚きの超短納期対応 1層・2層⇒最短2日～多層・リジッドFPC⇒最短5日～ ※数量、補強板の箇所、仕様により異なります。『欲しい時にすぐ欲しい』『困った時にすぐ欲しい』是非是非、お声掛け下さい。 ★COMNEXT2024出展決定（6/24~6/28　東京ビッグサイト南展...

メーカー・取り扱い企業：株式会社松和産業本社

4層ベローズ

高耐圧と低いバネ定数を兼ねそろえた4層ベローズ、強度を保って抜群のやわ…

『4層ベローズ』は、高圧下で柔らかさ、超寿命が求められる、振動配管・真空振動乾燥機の振動吸収用ベローズです。高い使用圧力にも拘らずベローズの長さに制限があり、バネ定数に制約のある、バルブ・...

メーカー・取り扱い企業：三元ラセン管工業株式会社

原子層堆積装置『AFALD-8』

優れた段差被覆性と精密な膜厚制御！高品質な成膜が可能

『AFALD-8』は、複雑な三次元構造に原子レベルで膜厚制御された成膜ができる原子層堆積装置です。ミリ秒単位で高品質な薄膜成膜が可能なため、低ダメージで安定した成膜を実現。操作性に優れたソフトウェアや、自由度の高いオプション構成ができます。【特長】 ■段差被覆性 ■高精密な膜厚制御 ■ピンホールフリー ■低ダメージ ■原料コスト削減 ※詳しくはカタロ...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

原子層堆積装置「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ：最大4インチプレカーサー材料：５系統方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

PTFE層センサー産業の世界市場調査報告書2024

PTFE層センサーの世界市場：メーカー、地域、タイプ、アプリケーション…

グローバル市場調査レポート出版社であるQYResearchは「世界のPTFE層センサーの供給、需要、主要メーカー、2024 ～ 2030 年レポート」レポートには、世界市場、主要地域、主要国におけるPTFE層センサーの販売量と販売収益を調査しています。同時に、PTFE層センサーの世界主要メーカー（ブランド）、市場シェア、売上、価格、収入、および収入の競争状況にも焦点を当てています。 ...1.世...

メーカー・取り扱い企業： QY Research株式会社 QY Research

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

『SPR-014-B』は、基板側にバイアスを印加しながらスパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式バイアススパッタリング装置です。ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた良好な絶縁膜形成ができます。【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMP...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日本シード研究所

エレクトロニクス･半導体業界向け硬さ･弾性率･粘弾性評価

セミコンダクタ・スマートフォンなどの研究開発のためのナノインデンテーシ…

エレクトロニクス･半導体産業では製品開発のためにナノインデンテーションテスタによる表面機械特性評価が用いられます。微小荷重にてダイヤモンド圧子を対象サンプルに押し込むことにより、硬さ・弾性率・粘弾性・貯蔵弾性率・損失弾性率・クリープ率などの物性値を測定することができます。ナノインデンテーション試験では数百ナノ～数百ミクロンの薄膜や柔らかいポリマーの評価が可能です。測定例 -スマー...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

フラックスレス蟻酸リフロー装置

200mm/300mmウェーハ、ガラス、250mmのサブストレートPK…

260℃ (最大450℃) ■温度分布：±3℃以下 (9-point 測定) ■省スペースフットプリント: 4.95m2 / L x W x H =1.8 x 2.75 x 2.55 m 4層シングルウエハーチャンバー設計により、高精度なプロセス制御を実現 ...

メーカー・取り扱い企業： Yield Engineering Systems, Inc.

【メタルフリー/薬液用】C30型フッ素樹脂製圧力計

高純度流体向けの高精度圧力計

C30型は,高品質のテフロンコーティングステンレス製ゲージを装備しています。主に半導体およびマイクロエレクトロニクス産業向けのメタルフリー構造です。接液部は全てPTFEまたはPFA製であるため,浸食性・腐食性流体,高純度の流体に好適です。 3層ダイアフラム構造により,プロセス流体とセンサー部を確実に隔離しているため,長期にわたり安定した計測を保証します。...・テフロンコーティング圧...

メーカー・取り扱い企業：ゲミュージャパン株式会社

RAM インライン型スパッタリング成膜装置

パイロットラインから量産ラインへが展開が可能な装置です。

RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード）及び強磁場プレーナーカソードを搭載したデポジションアップ式水平インライン型スパッタ装置です。下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。その後、強磁場カソードで高速成膜を行います。ロードロックストッカー及びアンロードロックストッカーに各15トレイずつ真空保管されます。 ...

メーカー・取り扱い企業：京浜ラムテック株式会社

ＡＬＤプロセス用高速高耐久バルブ『TDFシリーズ』

高速開閉・高い応答安定性！特殊面間寸法や弁形状、耐腐食性材料ボディなど…

『TDFシリーズ』は、ＡＬＤ（原子層堆積）プロセスに必要な高速開閉、高耐久、耐食性、耐熱性、Cv安定性を兼ね備えた高純度ガス対応ダイヤフラムバルブです。アクチュエータへの熱伝導を低減する構造を採用し、最高220℃までの高温流体に使用可能。工場出荷時に全数Cv値を調整しており、使用時のCv値変動率が少なく安定したガス流量が得られます。【特長】 ■高速開閉・高い応答安...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

研究開発用スリットダイコーター『卓ダイ』

操作が簡単！薄膜から厚膜まで、低粘度から高粘度まで1台で塗工可能

『卓ダイ』は、一人で全ての塗工操作ができるスリットダイコーターです。スリットはシムを使用しない固定タイプで再現性があり、ダイは 3ピース構成、取外しが容易であり、液替え時間は約20分。液供給部が塗工幅と同一な為、平行流状態で液吐出が可能です。この他に、A4サイズの基材に瞬時に再現性よくスプレー塗工する装置「簡易スプレーコーター」も取り扱っています。【特長】 ■操...

メーカー・取り扱い企業：伊藤忠マシンテクノス株式会社

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

『P-300B』は、プリントヘッド、センサー、マイクなどのMEMS機器の生産やレンズ、光学部品、機械部品、ジュエリー、コイン、医療用インプラントといった3Dオブジェクトの成膜に適した装置です。当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。 ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

IBAD(イオンアシスト蒸着法)装置　CVI series

真空蒸着よりも緻密で強度が高く、表面が平滑な成膜が可能！

お受けしております。試作作成も可能です。ワークとご要望をお聞かせください。【成膜スペック】ワークサイズ：Φ100～300mm（不定形・円筒も可能）層形成：単層膜、多層膜可（MAX4層）パターン蒸着：メタルマスク対応（オプション）【適応膜】高融点金属、クロム、シリコン、アルミ、銅、SiO₂、SiN、ZnO など ※詳しくはお気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

東邦鋼機株式会社『遠心バレル研磨機』

遠心バレル研磨機のことなら当社にお任せください！

当社では、バレル着脱式・バレル固定式の遠心バレル研磨機を取り扱っております。標準機をはじめ、丸ポット仕様や40L×4層など、幅広くラインアップしておりますので、ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：東邦鋼機株式会社本社・上尾工場

ダイシングブレード『ニッケルボンドブレード』

ソフトな材質と機械加工を行う硬い材質に！耐摩耗性に優れた長寿命なブレー…

『ニッケルボンドブレード』は、ニッケルボンドを基盤にした中に埋め込んだ研磨剤で構成されたダイシングブレードです。芸術的と云える厳重に制御された電子形成プロセスを用いて製造され、ニッケル層を通じてダイアモンドが一様に配布されていることを保証します。この工程によってブレードが非常に厳重な許容度で製造されるだけでなく粒子のサイズ、硬度及び配分に対してお客様の特定の要件に合致さ...

メーカー・取り扱い企業：日本技術産業株式会社

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡なお､露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避､ランプハウスが所定の位置に移動し､設定光量露光､自動退避までを...

メーカー・取り扱い企業：ウシオライティング株式会社

省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」

１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを１チャンバーで行う枚葉装置です。１つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ：シリコン、石英、酸化物、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』をご紹介します。超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。【ラインアップ】 ■...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

抵抗率／シート抵抗測定器【NC-80MAP】

ナプソン株式会社は、半導体ウエハやFPD基板の各種測定システムを開発・製造・販売しております。抵抗率/シート抵抗に関するあらゆるニーズにお応えし、仕様設計からアフターケアまで、最新の技術と豊富な経験を活かして、高精度・高性能なシステムをご提供いたします。その他製品ございますので、詳細はお問い合わせ下さい。...【化合物GaAsエピ層、GaP、GaNなどの非接触シート抵抗多点測定器】 ...

メーカー・取り扱い企業：ナプソン株式会社

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

●完全ドライプロセスであるため、スティクションによる自立デバイスの破壊を抑制することが可能。 ●ウエットプロセスにおける前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのスピードおよびガスの使用量の制御が容易。 ●プラズマを使用しないため、電界による素子へのダメージ（電子またはイオン衝撃）がない。 ●研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設計...

メーカー・取り扱い企業：サムコ株式会社

プリント基板　納期早見表

伸光写真サービスのプリント基板製造の一般的な納期をご紹介致します。

【特徴】 [納期早見表] ○片面基板 →実働3日 ○両面基板 →実働5日 ○4層基板 →実働10日 ○フレキシブル基板 →実働7日 ○メタル品 →実働4日 ●詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：伸光写真サービス株式会社

【設備紹介】バリ取り機＜幅1000mmまでのワークに対応＞

幅1000mmまでのワークを、大量に均一に研磨処理することが可能！R面…

【その他の設備一覧（一部）】 ■炭化水素系真空4層式自動洗浄機：IIIDS-J442-S 洗浄槽×2＋乾燥槽×2＋真空蒸留再生器 ■テーブルスポット溶接機：NK-21HEV810-M-KG-EG ■ファイバレーザ溶接機：FWL1000SH スイ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社齋鐵新潟本社

省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」

１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを１チャンバーで行う枚葉装置です。１つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ：シリコン、石英、酸化物、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

【メタルフリー/薬液用】C31型フッ素樹脂製圧力センサー

高純度流体向けの高精度圧力センサー

C31型は,圧力媒体により動作する高品質の圧力トランスミッターです。主に半導体およびマイクロエレクトロニクス産業向けのメタルフリー構造です。接液部は全てPTFEまたはPFA製であるため,浸食性・腐食性流体,高純度の流体に最適です。 3層ダイアフラム構造により,プロセス流体とセンサー部を確実に隔離しているため,長期にわたり安定した計測を保証します。...・多様な電気接続に対応可能・...

メーカー・取り扱い企業：ゲミュージャパン株式会社

RAM クラスター型スパッタリング成膜装置

拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス…

RAMクラスタースパッタリングシステムは、 RAMカソード（4面対向式低ダメージスパッタリングカソード）が搭載されたクラスター型スパッタリング装置です。下地層にダメージを与えないよう、初期層はRAMカソードで低ダメージスパッタ成膜を行います。拡張スロットが5つあり、スパッタチャンバーや蒸着装置、グローブボックス等、追加搭載可能。また、25段多段ラック式のロードロックを搭載し、多...

メーカー・取り扱い企業：京浜ラムテック株式会社