ALD | イプロスものづくり

PR塩化カルシウム系乾燥剤（除湿剤／吸湿剤）の使用事例と注意点を掲載してい…

当資料では、乾燥剤の使用事例と注意点についてご紹介しております。乾燥剤について基礎から種類ごとの特長・吸湿性能までを説明。また、海上コンテナと個包装における塩化カルシウム系乾燥剤の使用事例と注意点について解説。当社は、乾燥剤の見直し・最適化に向けてサポートいたします。お気軽にお問い合わせください。【掲載内容】 ■Chapter 01.乾燥剤の基礎知識 ■Chapter 02.塩化...

メーカー・取り扱い企業：鈴与商事株式会社化学品営業部

無料ウェビナー超純水・純水の最新技術と超純水の使い方のポイント

PR5月29日（水）無料ウェビナー開催！最新技術と使い方について詳しくお伝…

各種試験、研究、各種分析において再現性のある精度の高い結果を得るためには、結果に影響を与える要素が取り除かれていて、且つ一定の水質を保っている純水・超純水を用いることが必要です。本ウェビナーでは、純水・超純水の精製方法による水質の違いと結果への影響を示し、目的に応じた最適な水について紹介します。また、水質を保つために必要な超純水の使い方のポイントにいたるまで、純水・超純水を利用する方が...

メーカー・取り扱い企業：メルク株式会社ライフサイエンス（シグマアルドリッチジャパン合同会社）

高速成膜ALD装置『FHR.STAR-400x300SALD』　

In-Situのエリプソメーターや透過型分光器に対応！独FHR社製高速…

『FHR.STAR-400x300SALD』は、200mmウェハあるいは 400x300mmまでの基板やテキスタイルの成膜に対応した高速成膜ALD（Spacial ALD）装置です。 400x300の基板では10mm厚迄の3次...

メーカー・取り扱い企業：ティー・ケイ・エス株式会社

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

多層膜成膜装置 (ポリパラキシレン＋ALD）

ポリパラキシレン（パリレン）とALD(原子層堆積法）による無機酸化物層…

こで、パリレンと酸化物をサンドイッチのように交互に成膜することで、バリア性の高い、高機能膜を生成することが可能になり、製品の小型化や薄膜が求められる医療用アプリケーションに最適です。パリレンとALDは同一チャンバ(In-situ)で真空を破ることなく成膜するので、パーティクルの心配はありません。また、プロセス・ノウハウもメーカはあるので、レシピに関する情報も提供可能です。デモ成膜も行って...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

プラズマ/サーマルALD装置『Fiji G2』

500℃ウエハステージ！プラズマダメージの無いリモートICPソース採用

『Fiji G2』は、サーマル式とプラズマ式の研究開発用ALD装置です。プラズマ源にICPリモートプラズマを採用し、基板搬送に真空ロードロックを搭載し、高品質の酸化膜、窒化膜、メタル膜の ALD膜が成膜できる設計。また、簡易除害ユニット...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Savannah G2』

研究開発用、小規模バッチ用！簡易除害ユニットALD Shield Va…

『Savannah G2』は、シンプルで使いやすく研究開発から少規模の量産まで対応可能な柔軟性のあるサーマル式のALD装置です。高い成膜性能をシンプルなシステムで実現しており、用途と予算に合わせた構成選択可能。ご要望の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■高い成膜性能をシン...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

サーマルALD装置『Phoenix G2』

量産に必要な多くの安全対策仕様！コンパクトな装置サイズで成膜温度50～…

『Phoenix G2』は、中規模量産に適したサーマル式のALD装置です。優れたプロセスフレキシビリティーで実証されたリアクターデザインで、多用途に対し容易に使用可能。また、セミオートローダー又は真空ロードロックに対応しており、適切なチ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

粒子用 ALD （原子層堆積）装置 / FORGE NANO社

粒子専用のALD（原子層堆積 Atomic Layer Deposit…

研究開発向け粒子用ALD（原子層堆積）装置で様々な開発用途に活用できます。ナノスケールの粒子の成膜をミリグラムからキロまでプロセス可能です。　 ■流動床を含めた手法により膜厚を均一にコントロール ■３種類の容量のリア...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

低温ALD装置　CVA series

ALDでは難しいと言われている低温での高品質な成膜が可能！

緻密で均質、かつ均一の厚みの膜が形成可能　・ほとんどの金属酸化膜に対応可能　・どのような基板（材質、平坦性、形状等々）でも密着性良く成膜可能　・用途に応じた膜厚の制御が可能　・室温で成膜可能 PETボトルコーティング活用例　・アルコール飲料（軽量化・ロングライフ化）　・医療・化粧品（容器の低コスト化、意匠性・透明性、酸アルカリ封入）　・燃料（軽量小型燃料電池、フレ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

の成膜に適した装置です。当社が特許取得済みの高温壁設計と完全に分離した投入口を組み合わせることにより、優れた生産性、低パーティクルレベル、電気性能や光学性能の優位性を実現した、高品質のALD膜を作り出すことができます。敏捷性の高い設計と簡単で迅速なメンテナンスにより、システムのダウンタイムを最小限に抑えられ、所有にかかる費用を抑えることができます。【特長】 ■MEM...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

自社開発のバレル機構による均一撹拌とバラつきのない膜厚・膜質を実現・粉体材料や極小部品表面に均一に高品質な成膜が可能・平面ではないワーク形状や他の方法では成膜できなかった材料などにも技術応用可能 ...【コーティング活用例】　磁性粉体（サマリウムコバルト系、鉄ネオジム系、フェライト等）への保護膜形成　　・保磁力、分散性の向上　　・参加劣化防止　　・帯電防止　全個体...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クリエイティブコーティングス

サーマルALD装置『Firebird』

トップクラスのスループット！柔軟性のあるモジュール化されたデザイン

『Firebird』は、大規模量産の為のクラスターツールタイプサーマル式のALD装置です。実績のあるVeecoの自動化システムを搭載しており、基板への衝撃の少ないバッチ搬送。ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【特長】 ■トップクラスのス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

『事例』　高温・ALDプロセスで使用可能なバルブ ※無料進呈中

『流路まるごと事例集』バルブ全体を最高200℃ の高温環境で使用できる…

バルブ全体をヒーティングしたい、ハンドルを付けたまま恒温槽に入れられるバルブ、ガス量の安定と再現があるバルブ欲しいなど、お困りごとはありませんか？ KITZ SCT では半導体製造での流体関連のお悩みにさまざまな提案を行っております。気になる事例がありましたらイプロスまたは当社ホームページ経由でお問い合わせください。ホームページ：https://www.kitzsct.com/con...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-050』

ランプ加熱式の為にRTP、RTCVD処理可能！クオーツ製チューブ型チャ…

『MC-050』は、最大50mm径基板対応のDLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大成膜温度は1100℃(ランプ加熱方式)で、最大6×DLI気化器を搭載可能。また、マスフローコントローラーは最大8、ターボポンプ搭載可能です。ご用命の際は、当社へお...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

DLI-CVD/DLI-ALD装置『MC-100/MC-200』

最大成膜温度は800℃！チャンバー加熱機構で最大4x DLI気化器を搭…

『MC-100/MC-200』は、スチールステンレス製チャンバーの DLI-CVD/DLI-ALD装置です。最大200mm径基板対応、マスフローコントローラーは最大「MC-100」が8、「MC-200」は6で、ターボポンプ搭載可能となっております。ご用命の際は、当社へお気軽...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

ALD/MOCVD容器

50CCから60L容量までのALDやMOCVD用途、SUS製カスタマイ…

創業から30年以上の経験と多くの納入実績を持つ米国PFL社製。 50CCから60L容量までのALD/MOCVD用途、SUSカスタマイズ容器を承ります。材質（ステンレスや高ニッケル鋼）、バルブ位置や数、容器の高さ/幅寸法、内表面粗度、安全認証など様々な組み合わせでカスタマイズ可能です。（400以...

メーカー・取り扱い企業：黒岩ステンレス工業株式会社

原子層堆積（ALD）デモ成膜/導入サポート

原子層堆積（ALD）プロセス装置の老舗、PICOSUNによるコンサルテ…

ALD成膜の研究開発は市場にも浸透しつつありますが、目的とする性能の膜をどのように作ればいいのか、お悩みになる方も多いのではないでしょうか。そこで設計段階でのお悩みの方には、材料選定やレシピ設定、評価方法についてアドバイスをいたします。 ALD法の開発最初期から現在までノウハウの蓄積があるPICOSUNだからこそご提案できるサービスで、技術の導入検討からお客様をサポートいたします。...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

原子層堆積装置「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社昭和真空

300mmバッチクラスタ装置「Sprinter」

枚葉プロセスレベルの成膜品質をバッチ装置で！クラスタシステムにより生産…

PICOSUN Sprinter ALDシステムは半導体、ディスプレイ、IoT等の業界における 300 mm製造ラインで活躍するバッチALD生産システムです。 SEMI S2 / S8認定のPICOSUN Sprinterは、...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

超高真空マルチチャンバー連結システム

φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…

当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』をご紹介します。超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがありま...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

クラスターツール『3ICP＋2cassetteモジュール』

SI 500-1M、SI 500 PPD-1Mなど搭載可能！搬送チャン…

スターツールです。 ICPRIEモジュールの「SI 500-1M」をはじめ、RIEモジュールの「SI 500 RIE-1M」や、PECVDモジュールの「SI 500 PPD-1M」、 ALDモジュール「SI ALD-1M」などを搭載可能ご用命の際は、当社へお気軽にご相談ください。【搭載可能モジュール】 ■SI 500-1M：ICPRIE モジュール ■SI 500...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

Morpher ALDシステムは、業界標準の枚葉ウエハ真空クラスタプラットフォームを組み込み、ウエハバッチを完全自動処理するように設計されています。米国特許取得済みのウエハバッチフリップ機構により、他の半導体製造ラ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

CVD・MOCVDカスタマイズ装置

多彩なプラズマソースが搭載可能！CVD、MOCVDやALD装置をカスタ…

当社では、研究開発や小規模バッチ量産向け装置である、「CVD・MOCVDカスタマイズ装置」を取り扱っております。 CVD、MOCVDやALD装置をカスタマイズ設計で、 PLUM、FLARION及びMIRENIQUEシリーズの多彩なプラズマソースが搭載可能。また、FLOCONシリーズのフロー管理システムを搭載しております。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

プラズマアシストソース

プラズマ機能を付加する製品を設計開発し、革新的なプロセス技術を提案しま…

ス技術を提案します。【製品特長】 ■プラズマクラッキングセル・蒸気圧が高く、指向性が悪い材料のクラッキング蒸発源・昇華蒸発させた材料を活性化させ、オリフィスを介して基板照射 ■ALD用プラズマソース・ALD装置用、酸素または窒素プラズマ源・照射距離を50～100mm調整可能・ON/OFF高速応答性とプラズマ安定性に優れる ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか...

メーカー・取り扱い企業：ケニックス株式会社

【SHシリーズ基板加熱ヒーター】真空成膜用 Max1100℃

CVD, PVD（蒸着, スパッタ, PLD, ALD等）均熱性・再現…

ヒータープレートにインコネルもしくはBNプレートを採用した、熱放射効率が良く、均熱性に優れた成膜装置・真空薄膜実験用高真空対応ホットプレートです。【ラインナップ】 ◎ SH-IN（インコネルプレート）：φ1.0〜φ6.1inch 真空・O2・活性ガス用 ◎ SH-BN（BNプレート, Moカバー）：φ2.1〜φ6.1inch 真空・不活性ガス用【特徴】 ◎ 最高温度1100℃...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

高温対応バルブ　SCVサブマージブルバルブ『TD-Sシリーズ』

高温環境(最高200℃)で多種多用なガスに使用可能な集積化ガスシステム…

集積化ガスシステム対応のダイヤフラムバルブです。バルブ全体を最高200℃までの高温環境で使用できることにより効率の良いヒーティングが可能。流量の再現性が求められる原子層堆積（ALD）プロセスのプリカーサ（前駆体）供給に適しています。【特長】 ■高温環境に対応 ■安定したCv値 ■PFAシートの採用 ■多種多用なガスに使用可能 ■高耐久 ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業：株式会社キッツエスシーティー

【オーダーメイド製作実績】CVD装置

「金属容器用プラズマCVD装置」「ICP型MOCVD装置」などの実績を…

【その他の製作実績】 ■ガラス基板対応量産型マルチチャンバ仕様プラズマCVD装置 ■ICP型MOCVD装置 ■基礎研究開発用φ12インチ対応ALD装置 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ジャパンクリエイト株式会社

隔膜式真空計（バラトロン真空計）

150℃/200℃対応！バイオ医薬品製造に最適な隔膜式真空計。

サへの堆積を防止することにより、ドリフトを低減し精確で長期安定性を持つ圧力測定を実現します。 150℃もしくは200℃の温度制御を選択できる631Bは、メタルエッチング、ナイトライドCVD、ALDなど、厳しい条件の半導体製造プロセス用真空計としての用途の他、バクテリア増殖を防止する目的で蒸気を用いる、凍結乾燥装置、滅菌装置などのバイオ製薬プロセスに最適です。特徴 ●最小フルスケー...

メーカー・取り扱い企業：日本エム・ケー・エス株式会社