• 【加工事例】白色干渉顕微鏡による加工面の測定 製品画像

    【加工事例】白色干渉顕微鏡による加工面の測定

    PRmm単位を超える広い面内測定範囲!多結晶セラミックスとSiC単結晶の測…

    当社で新たに導入した、白色干渉顕微鏡による加工面の測定事例をご紹介します。 白色干渉顕微鏡は、光の干渉現象を利用して「表面形状」を計測、解析する 顕微鏡。測定対象材質を問わず、3D計測で面粗さ・線粗さに対応します。 多結晶セラミックスのワイヤースライス面からポリシング面の測定では、 スライス面Sa 0.8446 μm、ラッピング面Sa 0.2506 μm、ポリシング面 Sa 0....

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社新興製作所

  • 厚銅バスバー基板・コイル基板【銅厚3.0mmまで実績あり】 製品画像

    厚銅バスバー基板・コイル基板【銅厚3.0mmまで実績あり】

    PR大電流用途で使用されるバスバー・コイルを基板化することで高い絶縁性と工…

    重電や自動車業界で大電流用途として使用されているバスバー・コイルを基板化しました。 基板化したことで以下の効果が見込めます。 ・IGBTやSiCといったパワーデバイスの基板実装 ・基板実装後に装置への取付が可能→組立時の工数削減と誤配線の防止 ・基板化、配線の簡易化による省スペース化→装置全体の小型化 ・一般的に厚銅基板というと銅箔厚が200μ(0.2mm)以上の基板を指しますが...

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    メーカー・取り扱い企業: 共栄電資株式会社

  • 第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0 製品画像

    第一原理計算 材料シミュレーションmatelierPHASE/0

    第一原理計算による材料シミュレーション「matelier PHASE/…

    基づくパラメータは必要ありません。実験結果の解釈や、新規材料の物性値予測にもご活用いただけます。 【 主な解析対象 】 半導体(IV族、III-V族、窒化物、酸化物、シリサイド系;Si, SiC, GaN, Ga2O3, ZnOなど) / 誘電体(high-k, low-k、強誘電体、圧電体) / 磁性体(強磁性体、ハーフメタル) / 有機化合物(分子性結晶) / 金属(合金) / 鉱物...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アスムス

  • アスムスの材料シミュレーション受託解析サービス 製品画像

    アスムスの材料シミュレーション受託解析サービス

    アスムスは、原⼦スケールの材料シミュレーション解析サービスを提供してい…

    子状態解析 ワイドギャップ半導体酸化表面 / 二次電池電極-電解質界面 / アモルファス酸化物のXPS / 窒化物半導体の電子エネルギー損失分光(EELS) / 希土類磁石界面の磁気相互作用 / SiCらせん転位 / 鉄の水素脆化 / 電子スピン共鳴(ESR, EPR)のgテンソル ■構造探索 電子励起を考慮した構造最適化計算 / 成膜プロセスにおける分子吸着構造の解析 ■古典分子動力学 熱...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アスムス

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