リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

ホール洗浄機「RM-8」

コストパフォーマンスに優れたエアー洗浄機 ブラシと高圧エアーを使用し…

高圧エアーとブラシの併用で、基板の表面と穴の中を洗浄する装置です。 基板表面の凹凸の中のゴミを高圧エアーとブラシで除去します。 デモ機もご用意しておりますので、お気軽にお問合せください。 【RM-8特長】 ●強力な洗浄能力 高効率のエアノズルを上下に取り付け、ワークの表裏両面から洗浄します。 また除塵と吸引を併用することによって除去した異物の再付着を防止します。 ●ワーク表面洗浄...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社レヨーン工業