リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【中古】オムニエース３　RA2800A　日本アビオニクス

中古計測器:電気計測／絶縁抵抗／信号発生／電力測定:物理 理化学 分析…

A2800Aシリーズ 32ch(16スロット)+本体ロジック16入力 ・メモリ容量:1MW/ch(チャネル1ch使用時32MW) ・ペンレコーダ:紙送速度:50mm/sから1mm/min(サーマルヘッドによる感熱記録) ・記録装置:40GB HDD，USBメモリ ・I/F:LAN(10/100BASE-T)...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社メジャー