リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

セラミック基板用　ウエット装置

セラミック基板用のウエット処理装置です。 サーマルプリンタヘッドのフ…

小さな基板に対応したコンパクトな製造装置です。 サーマルプリンタヘッド（TPH）基板の 電極パターンを形成するフォトエッチングライン、 あるいはチップ抵抗基板用のめっき装置をご紹介します。 製造実績に基づき標準的な設備仕様も カタログで紹介しています。 基本的には顧客要望に基づくオーダーメイドの設備ですから 使用基材、処理工程に合せて柔軟な対応が可能です。 お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 進和工業株式会社 本社工場

加熱ヘッド

加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した加熱…

加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した厚膜ヒーターによる加熱ヘッドです。 DC24Vで駆動できるため、AC100V～２４０V駆動の加熱ローラと比べて、セット組み込みが容易で安全です。高温を常にキープしている加熱ローラと異なり、加熱ヘッドは必要なときのみ温度を上昇させるオンデマンド加熱で省エネです。 また、カードが一定間隔で連続通過する場合でも、カードが通過するときの...

メーカー・取り扱い企業： ハヤシレピック株式会社 第３事業部

卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）