リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

薄膜コーティング装置（スプレーコーター）IS型

長年の試作コーティング技術＆データベースで、お客様のニーズにお応えでき…

ィング装置（スプレーコータ）はウエット式スプレー粒子を積層する薄膜形成装置であり、凹凸のあるサブストレート、立体形状（３D）デバイスに容易に塗布することが出来ます。 フォトレジスト塗布によりサーマルヘッド、水晶デバイス、センサーなどに応用されています。弊社では長年の塗布試作サービスや研究支援の実績と経験があり、そのノウハウを盛込んだスプレーコーター（薄膜コーティング装置）はご好評をいただいてお...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エーシングテクノロジーズ 湘南藤沢研究所