リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

加熱ヘッド

加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した加熱…

加熱ヘッドHDR-0670はプラスチックカード幅54mmに対応した厚膜ヒーターによる加熱ヘッドです。 DC24Vで駆動できるため、AC100V～２４０V駆動の加熱ローラと比べて、セット組み込みが容易で安全です。高温を常にキープしている加熱ローラと異なり、加熱ヘッドは必要なときのみ温度を上昇させるオンデマンド加熱で省エネです。 また、カードが一定間隔で連続通過する場合でも、カードが通過するときの...

メーカー・取り扱い企業： ハヤシレピック株式会社 第３事業部