リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【新登場】サーマル インターフェース マテリアル アナライザー

実製品に近い状況で50μm以下の薄膜でのTIM熱伝導率、熱抵抗率、界面…

測定試料(ゲル状液体、シート、固体）は円柱もしくは四角柱の熱伝導率既知(アルミもしくは銅)の2つの金属テストヘッド間で測定します。 試料中の温度勾配ΔTと熱流Qを計測し、その実行熱抵抗Rtheffが求まります。 試料を加圧しながら厚みを変更し、計測を繰り返すことにより、試料の熱伝導率(W/m・K)、熱抵抗率(mm²・K/W）、界面熱抵抗率(mm²・K/W)を下記の計算式、グラフより求めることが...

メーカー・取り扱い企業： 松尾産業株式会社 東京支店