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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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【中古】 オムニエースIII RA2800 日本アビオニクス
中古計測器:電気計測/絶縁抵抗/信号発生/電力測定:記録 データ 情報…
です。 ●仕様(カタログより)・32ch(16スロット)+本体ロジック16入力・メモリ容量:1Mワード/ch(チャネル1ch使用時 32Mワード)・紙送速度:50mm/sから1mm/min サーマルヘッドによる感熱記録 ・サンプリング速度:MAX2μs(500kS/s)から・記録装置:40G HDD・USB(USBポート使用)・I/F:LAN(100BASE-T)・USB(ストレージデバイス用...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社メジャー
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