フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

Enovasense Field Sensor

PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した 高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。 本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約１１万点を同時に測定できるエリアセンサです。 不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長 　・非接触で下記が測定できます。 　　　☆不透明体の厚みマッピング...

メーカー・取り扱い企業： プレシテック・ジャパン株式会社

スピンタイプ洗浄装置WULFシリーズ「高精細フォトマスク対応」

機能水を使用したスピン洗浄ユニットを装備！RCA洗浄液に変わる洗浄液・…

弊社グループ会社の洗浄装置はフォトマスク／レチクル製品のハイクリーン化と歩留向上に寄与し、より完成度の高い製品の生産にご協力致します。 【特徴】 　・ハイクリーン化と歩留向上に貢献 　・検出限界レベルまで有機物・金属イオ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社渡辺商行

フォトマスク洗浄装置｜PDP・大判フォトマスク用 TW-1000

スモールサイズからラージサイズまで、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を1台で…

テクノビジョンのフォトマスク洗浄装置は、スクラブ洗浄・リンス・乾燥を一台で行いフォトマスクに付着したゴミや汚れを洗浄するマスククリーナーです。 弊社では多様なお客様からのご要望にお応えするため、スモールサイズからラージ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

UV-LED光源！半導体製造用自動露光装置|マスクアライナー

光源を水銀ランプからLEDへ置き換えた露光装置です。 自動平行調整、…

当製品は、UV-LED光源搭載の自動一括等倍露光装置（マスクアライナー）です。 弊社の特徴として、フォトマスクとウエハを完全非接触でステージとマスクの自動平行調整が行えます。 超精密UVW駆動ステージを搭載し高性能画像処理を行う事で フォトマスクとウエハのアライメントも正確に行います。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』

クラス100以下の清浄度を保持するタイプや、大型ガラス基板対応など品揃…

当社ではお客様のニーズや仕様に合わせて基板搬送用のケースを製作する 『フォトマスク・有機EL用　基板搬送ケースの製作サービス』を提供しています。 基板を効率良く収納できる「アルポリケース」をはじめ、 クラス100以下の清浄度を保持する「クリーンケース」、 ガラス...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ディー・アール・エス（DRS)

フォトマスク洗浄装置（セミオート）

シリーズ累計200台以上のロングセラ機種です。

資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 枚葉式洗浄装置、塗布・現象装置、基板洗浄装置、スピン洗浄装置、半導体製造装置、半導体、レジスト剥離装置、メガソニック、洗浄装置、レジスト、フォトレジスト、フォトリソ工程、マスク洗浄装置、ウエハ洗浄装置...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

多光子励起光造形装置『MPF-330』

材料が熱的な損傷を受けない！フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形…

『MPF-330』は、フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置です。 750～900nmの超短パルスレーザー光を励起光源として用いることにより、 紫外～可視領域に吸収を持つ物質の2光子励起が可能です。 従来の高出力レーザーによる光造形より高空間分解能で、 ナノスケールの光造形ができます。 【特長】 ■フェムト秒レーザーを用いた多光子励起光造形装置 ■紫外～可視領域に...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社フォトサイエンス

LED光源マスクレス露光装置　DL-1000シリーズ

世界で初めて最小画素1μm（オプション：0.5um対応可能）の自由度の…

D-light DL-1000シリーズは、レジストの三次元加工を容易に実現できる機能を搭載したフォトマスクが不要なマスクレス露光装置です。 本装置は、グレースケールデータを効率的に作成・変更できるソフトウエアとDMD（Digital Micromirror Device）に転送されたグレースケ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノシステムソリューションズ

マニュアル露光装置

顕微鏡オート移動など､生産性､使い勝手に優れたアライナ

2インチウエハ対応のマニュアル露光装置です｡ オペレータがマニュアルでウエハをセットする露光装置です｡4インチのガラスマスクを使用し､フォトマスクとウエハのアライメントマークを顕微鏡で撮像､モニタに写しだされた画像を見ながらの位置合わせと､露光ギャップ設定を行うことで､露光が可能です｡ なお､露光スイッチを押すと自動で顕微鏡が退避､...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

フォトマスク洗浄装置｜簡易型マスク洗浄装置TWC-302

「スクラブ洗浄＋リンス」＆「Hot純水乾燥」の2槽式簡易型マスク洗浄装…

マスクに付着した1μm以上のパーティクルを除去する簡易型のマスク洗浄装置。 2槽式のマスク洗浄装置で、1槽目で専用ブラシによるスクラブ洗浄と リンスを行い、2槽目ではホット純水乾燥を行う簡易型のマスク洗浄装置です 1層目のスクラブ洗浄において、専用薬液による洗浄もオプションとして提供しております。専用薬液を使用すると、レジスト残渣を除去することも可能になります。...■主な特長 ・ワーク...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ

「株式会社コシブ精密　『薄膜製品』　総合カタログ」のご案内です。 ■□■掲載内容■□■ 　 ■レーザー直接描画装置スタンダードスケール ■フォトマスク ■ロータリーエンコーダスリット板 ■光学レチクル ■薄膜生産設備 ●その他詳細については、カタログをダウンロードもしくはお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社コシブ精密 長野工場

オート式露光装置

190WPHの高スループットを実現したマスクアライナ

の複合サーチを行うオートアライメントを採用しました｡また､安定した視認性を実現するために､顕微鏡のハロゲン照明は画像処理により､照度減衰もフィードバックする新機構も搭載しています｡ オペレータはフォトマスクとウエハをセットし､あらかじめ記憶されている露光レシピを選択するだけで､ウエハ搬送からフォトマスクとの位置合わせ､露光までをオートで行うことから､オペレータや使用経験に依存しない､安定した精...

メーカー・取り扱い企業： ウシオライティング株式会社

マスクレス露光装置「MXシリーズ」

半導体製造等の露光工程における、開発/納期の短縮とコスト削減に貢献しま…

半導体製造工程・マイクロセンサー（加速度センサー、圧力センサー、温度センサー、ガスセンサー）製造工程・プリント基板製造工程における露光技術では、フォトマスクを使用し、それを基盤に転写する方式が主流です。 一方、マスクレス露光装置「MXシリーズ」は、DMD（デジタル・マイクロミラー・デバイス）を用いた独自のポイントアレイ方式で、CADデータから...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社大日本科研

マスクレス露光装置『 ME-120F』

最大12インチウエハに対応！汎用CAD対応の直接描画なので、フォトマス…

◆直接描画でフォトリソの課題を解消 マスクレス露光装置は、DMD(Digital Micromirror Device)により、ワークに直接描画を行う装置です。 フォトマスクの製作に必要とされていた莫大な費用と...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ピーエムティー 本社・工場

【高品質・高性能】『スピンスクラブ洗浄装置シリーズ』のご紹介！

量産向け新型【自動スクラブ洗浄装置】と、シリーズ累計200台以上の【フ…

「Final洗浄」等に好適！ 　◆「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等々 　　豊富なオプションに対応可能です。 　◆各種カスタマイズにも対応します。 《２》【フォトマスク洗浄装置】 　◆マスクサイズに応じてのシリーズ対応した装置です。 　◆シリーズ累計200台以上のロングセラー機種です。 　◆国内マスクでは業界シェア90％以上の豊富な実績！ 　◆デバ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

小型LED直接描画装置『マイクロライターML Family』

卓上小型！高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置

で 高速にパターン試作を可能にするマスクレスなLED直接描画装置です。 マスクレスで少量のパターンの試作を手早く可能にし、パターン作製時に 毎回必要なマスク作製の手間を省きます。 フォトレジストに直接LEDで描画することが可能です。 【特長】 ■卓上小型（底部面積70cm×60cm） ■高速でパターン試作を可能 ■毎回必要なマスク作製の手間を省く ■フォトレジストに...

メーカー・取り扱い企業： 日本カンタム・デザイン株式会社

真空対応 位置決めテーブル ＜VT＞

真空対応 位置決めテーブル ＜VT＞

真空度（：到達 5×10-5Pa）対応の汎用型ＸＹ位置決めステージです。 【特長】 　◇真空対応ステッピングモータを採用（自社製） 　◇真空対応フォトセンサを採用（自社製） 　◇真空グリースの銘柄指定可、ノングリースも対応可 　◇汎用型のステージとの互換性が高く、大気→真空仕様への移行が 　　スムーズです。 　◇真空環境下以外でも、高温...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社メガトラスト MEGA-TECH Formations 豊玉事業所

超微細加工LIGAプロセスによるメタルパーツ，ポリマーパーツ

アスペクト比100も可能。高精度･高アスペクト比のマイクロパーツ，サブ…

セス工程: 1. X線マスクの作製 電子ビームまたはレーザーリソグラフィによる高精度のX線マスクを作製します。 2. レジストのX線リソグラフィ (Lithographie) 基板上のフォトレジストにX線マスクの構造を転写します。 放射光の高品質なX線によって，高アスペクト比(100程度)，滑らかな側壁(<50 nm)，自由な横方向形状を持つレジスト構造が実現します。 例: X線...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ASICON

高速レーザー描画装置『VPG⁺ シリーズ』

高速パターン・ジェネレータ

ンサー、MEMS、先端パッケージング、LED生産、ライフサイエンス、および微細加工を必要とするの分野にお役立て頂けます。 【特長】 ■高分解能 ■高画質 ■高速なスループット ■高速フォトマスク生産に最適 ■どんな平面基板にも直接描画に対応可能 ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

自動両面露光装置

フィルム材料用 Roll To Roll 自動両面露光装置

■基板寸法 　・サイズ：(W)250～500×(L)250～600 mm 　・厚さ：0.045～0.25 mm ■光源：平行光ショートアークランプ　5.0Kw（ハイテック指定）×2 ■フォトマスク：高透過アクリル＋マスクフィルム　ガラスマスク ■露光管理：積算光量計 [整合部] ■整合方式：画像処理による ■CCDカメラ：2台又は4台 ■照明：LED 透過照明 ■整合...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部

チャッククリーニングウェハ(CCW)

生産用シリコンウェハと同様、自動搬送で流すだけで効果を発揮します。

リーニングウェハ(CCW)』についてご紹介します。 当技術は、チャック上のゴミ/パーティクルを除去。簡単な使用方法で ダミーウェハのロスの低減、装置ダウンタイムの削減を実現します。 フォトリソグラフィーのほか、エッチングやスパッタリングの プロセスにおいて効果が期待できます。 【特長】 ■チャックの表面形状に合わせた3D加工も可能 ■専用のメンテナンスシートでクリーニン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社協同インターナショナル

ブラシ洗浄からの置き換え！枚葉式ウエハ洗浄装置（スクラバー）

実績多数の高圧ジェットを採用したスクラバー。ソフトスプレーと組み合わせ…

力を実現し、薬液の使用量も削減できます。 ノズルは、高圧ジェット方式の他、2流体スプレー、1流体スプレー等の方式も選択可能ですし、組み合わせることも可能です。 ウエハ洗浄だけでなく、フォトマスクの洗浄でも実績があります。 また、DIP処理で問題となるパーティクルの再付着がありません。 使用薬液は純水ですが、仕様によってはNMP等の有機溶剤も 選定可能です。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

株式会社プレテック　会社案内

高周波・超音波洗浄を事業領域として産業と生活を支えるマザーツールを提供

る技術革新の中で、常に独自性のある先端技術開発企業というビジネスモデルを確立すべく、日々研究開発活動を推進しています。プレテックの提供する製品群は、半導体ウェハーメーカー、半導体デバイスメーカー、フォトマスクメーカー、液晶メーカー、プラスチックレンズメーカー、磁気ディスクメーカーといった製品メーカー向け洗浄装置（特注品）と、同業である洗浄装置メーカー向け洗浄機器（規格品）に大別されます。いずれも...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プレテック

洗浄装置　ファインシリーズ洗浄ユニット 『ファインソニック』

各種ウェハーの基板洗浄や各種フォトマスク、磁気ディスク等の洗浄に最適

ファインシリーズ洗浄ユニット 『ファインソニック』は、サブミクロン以下のパーティクルを除去し、特殊型振動素子により効率よく音波を伝搬させ、ワークにダメージを与えません。多彩な周波数を選択可能（750/1000/1500/2000ｋHz）で、微細な出力調整ができ、1W刻みの安定した出力調整が可能です。最大出力がアップし、洗浄エリアの拡大が可能です。また、通信機能も強化され、発振器状態の監視、外部設定...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社プレテック

平井精密工業株式会社　事業紹介

豊富な実績と管理から生まれる品質。幅広い分野の期待にお応えし続けます！

平井精密工業株式会社は、フォトエッチング加工品、機械加工品、メッキ加工品、セラミック基板等の製造を行っている会社です。 長年にわたって培ってきた独自の加工技術は、半導体、LED、自動車、医療 など、あらゆる分野のモノづ...

メーカー・取り扱い企業： 平井精密工業株式会社

シャーレ搬送ロボット

医療、バイオ関連施設などの無菌室、クリーン環境下での搬送が可能

MPa以上）; リストブロック揺動用（0.3MPa以上） 質量 ロボット本体 約37kg コントローラ仕様 コントローラ型式 C5000Sシリーズ インタフェース RS232C, パラレルフォトI/O...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェーイーエル

半導体製造工程で使用する高精度位置決めステージ使用例

位置決めステージ選定でお悩みの方へ。どの工程でどんな位置決めステージが…

【掲載製品（一部）】 ■プローブカードの検査装置 ■フォトマスク製造装置 ■プローブ加工装置 ■表面形状測定システムDyvoce ・手動機　枚葉型 ・自動機　CtoC ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 神津精機株式会社

JCT1-0500ティーチングボックス

ロボットの教示作業時に使用し、エラーコードなどの読み取りが可能です。

33.3mm　20×8文字 (128×64ドット) コネクタ HR10-7P-6P(73)/ヒロセ電機製 非常停止ボタン A165E-S-03U　(赤色) OMRON製 非常停止用SW出力：フォトカプラ出力　UL508やEN418適用規格 デッドマンスイッチ A4E-B200HS OMRON製　3ポジション イネーブルスイッチ　UL508やANSI/RIA R15.06-1999適応規...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェーイーエル

ウェハー露光装置（マスクアライナー）

全自動タイプ(2～12inch 及び 角型等)ウェハー露光装置

概要 高精細露光に最適化た独自UV光学系とフォトマスクとウエハを高精度に平行出しできるメカニズムを採用 バキュームコンタクト，ソフトコンタクト，プロキシミティー迄対応した全自動露光装置　特注対応可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

SSY-11000

450mmウェーハ搬送システム

関節換算5kgf(チャック、ワーク含む） ツインアーム採用により、ウェーハ交換時間の短縮 壁掛けタイプ走行軸により、低パスラインを実現 動作モニター装備 制御方式：RS232C及びパラレルフォトI/O S字加減速制御によりウェーハを高速、高精度に搬送 被搬送物、装置レイアウトに合わせた最適チャックでの対応可能 チャック材質はCFRP、アルミニウム、セラミックス等各種対応可能 全軸...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェーイーエル

SWCR3160CS (防水対応）

3軸円筒座標型クリーンロボット

ングにより耐蝕性を確保 アーム関節部防水構造にVシール使用 部品の接合部はバイトンパッキンによりシール Z軸部防水構造にジャバラ使用 動作モニター装備 制御方式:RS232C及びパラレルフォトI/O 全軸2相ステッピングモータ使用 S字加減速制御によりウェーハを高速、高精度に搬送 ウェーハ保持:真空吸着、落し込み、エッジグリップチャック 被搬送物、装置レイアウトに合わせた最適チ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ジェーイーエル