フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できる フッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。 フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた 処理方法の選定が求められます。 フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。 【掲載内容】 ・フッ素薄膜処理とは ・真空蒸着法、スプレー法とは ・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

プラズマを用いた官能基修飾による表面改質で新たな機能を提供

PR難めっき樹脂・難接着樹脂へ「非粗化による直接めっき」や「接着剤レス直接…

弊社改質技術では、基材表面へ官能基を強固に結合して付与することで、 一般的なプラズマ表面処理（有機物除去、一時的な親水性の向上など）ではできない表面改質処理を提供できます。 【特長】 ○低誘電材および難めっき材への非粗化直接めっき技術 　フッ素樹脂、LCP、COP、ポリイミド樹脂などへ非粗化でシード層が介在しない直接銅めっきが可能 ○難接着材の非粗化接着剤レス・直接接着技術 　各種フッ素樹脂、...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

半導体レーザ・光デバイス用3Dシミュレーター　PICS3D

新たにクロスライト社のFDFDが加わり、FDTDより計算がかなり速く高…

＜主な特徴＞ ■共振器方向の効果が重要なデバイスの設計・解析に適しています ■モード結合理論と多層膜光学理論によりDFB,DBR,VCSELのような回折格子を 含むレーザダイオードが計算可能 ＜多様な物理モデルや機能＞ ■ウェーブガイド・グレーティングの結合係数（１次、２次のグレーティング） ■縦方向のキャリア密度分布、主・副縦モードについての光学利得と光強度 ■２次グレーテ...

メーカー・取り扱い企業： クロスライトソフトウェアインク日本支社

シミュレーションソフトウェア『gPROMS Process』

プロセス開発・プラント最適設計、運転最適化検討に！石油、ガス、化学業界…

プラント設計・機器サイジング、プロセス検討や運転最適化において 既存のプロセスシミュレータは、数値解を求めるための収束性の良さや 対応できるプロセスの制約、プロセスモデルのカスタマイズ（モデルの拡張性）等の点でまだまだ改良の余地があるとPSEは考えています。 より高度で付加価値の高いプロセスプラントの設計、最適化検討のニーズに応える為に開発された、プロセスシミュレーションソフトウェアが『...

メーカー・取り扱い企業： シーメンス株式会社 gPROMS ポートフォリオ

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）

初期形状はトレンチ、ホールで与えることが可能！基板、堆積膜の経時変化を…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM3D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 セル法特有のシャープな境界面は用いず、固体層占有率による勾配から 入射角を決定し、入射角依存の鏡面反射確率、反応確率に適用。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能です。 ...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）

イオン注入、あるいはスパッタリング現象そのものに関する計算を行うことが…

『動的モンテカルロシミュレーションソフトウェア（SASAMAL）』は、 2体衝突近似に基づくモンテカルロ法によるシミュレーションコードです。 アモルファスターゲットに高エネルギーのイオンが入射した際の スパッタリング率、スパッタリング原子の放出角度分布・エネルギー分布、 入射粒子の後方散乱する割合・角度分布・エネルギー分布、イオンの ターゲットへの侵入深さ（Depth Profile...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

pドーピング窒化系シミュレータ

GaNおよびIII族窒化物にpドーピングを行うプロセス解析ツール

有機金属気相成長法(MOCVD)のプロセスシミュレーターPROCOMシミュレーションでp-タイプ伝導率の問題に取組む。膜成長中のMg取込みをコントロールするのが重要。シミュレーションは複雑なドーピングプロセスおよびMOCVDプロセスの最適化を補助。異なるタイプのアクセプターも本ソフトウェアによってシミュレーション可能。...＜主な特徴＞ ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフト...

メーカー・取り扱い企業： クロスライトソフトウェアインク日本支社

シミュレーションソフトウェア『PEGASUS』

真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシ…

『PEGASUS』は、装置メーカ、材料メーカそしてデバイスメーカにおいて真空技術を 利用した開発、製造に携わる技術者のためのシミュレーションソフトウェアです。 機能が異なる複数のモジュールで構成されおり、一つあるいは複数のモジュールを 組み合わせて使用することで、お客さまの要求に応じたシミュレーションを行うことができます。 IT、宇宙開発、エネルギー、半導体など幅広い産業・分野を対...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）

PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能…

『表面形状・シミュレーション・モジュール（FPSM2D）』は、 粒子モンテカルロ法により、基板表面での様々な反応を考慮し、 基板、堆積膜の経時変化を計算するモジュールです。 PVD、プラズマCVD、そしてエッチングなどどのような反応にも対応可能。 入射粒子情報（粒子フラックス、入射エネルギー・角度分布）はPEGASUS 気相モジュール、PEGASUS表面科学系モジュールからの出力...

メーカー・取り扱い企業： ペガサスソフトウェア株式会社

【解析事例】CVDエッチングプロセス最適条件の探索

最適条件の探索に！多次元表示チャートの活用事例をご紹介！

詳細化学反応解析プログラムCHEMKINと連成した、 エッチングプロセス最適条件の探索事例をご紹介します。 問題設定としては、原料ガス供給量SCCM、酸素濃度を変化させ、 出口C2F6濃度、CF4濃度がそれぞれ最小となり、 エッチング速度最大(膜生成速度最小）となる操作点を探索しました。 計算の結果、具体的にC2F6濃度とエッチング速度はトレードオフの関係になる ことが明確とな...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社IDAJ