機能膜 | イプロスものづくり

PRUVライトを使った2Dコーティング剤検査装置。独自開発AIを使った気泡…

『Sonar』は、弊社が持つ画像処理検査技術とUVライト＋RG照明を組み合わせたコンフォーマルコーティング剤検査装置です。コーティング領域の全面検査とコーティング不可領域の任意検査に加え、自社開発AI技術を使った気泡検出機能が標準装備されています。また、レーザー変位センサを使った膜厚測定（オプション）を搭載することでワーク毎のコーティング厚のバラつきを記録することが可能になります。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ジュッツジャパン

フッ素膜【フッ素薄膜処理における真空蒸着法とスプレー法の違い】

PR各処理方法のメリット・デメリットを分かりやすく紹介した資料進呈。受託加…

本資料では、ガラスや金属に撥水性・撥油性・防汚性・離型性などを付与できるフッ素薄膜処理について、真空蒸着法とスプレー法の違いを説明しています。フッ素薄膜処理は、基材の形状やコストなどの条件に応じた処理方法の選定が求められます。フッ素薄膜処理をご検討中の方は、ぜひ本資料をご覧ください。【掲載内容】・フッ素薄膜処理とは・真空蒸着法、スプレー法とは・真空蒸着法...

メーカー・取り扱い企業：株式会社カツラヤマテクノロジー T&K事業部

高性能枚葉式常圧CVD(APCVD)装置 (A200V)

少量・多品種向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　枚葉式…

A200Vは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・犠牲膜等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした枚葉式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・絶縁膜・拡散/インプラマスクの成膜に好適　・枚葉式Face-down成膜による低パーティクル成膜　・密閉式チャンバーによる高い安全性と成膜安定性　・ウェハ反り矯正機能（特許取得済）によるSiCウェハ対応　...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

BS-80011BPG 高密度プラズマ発生用内蔵形プラズマ銃

学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます

ズマ発生用内蔵形プラズマ銃は、真空チャンバー内に設置し、高密度プラズマを発生させるプラズマ源です。真空蒸着と組み合わせたプラズマアシスト蒸着 (イオンプレーティング) 法により、光学薄膜や保護膜、機能膜などの膜特性を向上させることができます。また基板のクリーニングや表面改質にも有効です。〇特長・低電圧・大電流の高密度な直流プラズマにより、ガス分子や蒸発粒子を高効率にイオン化・反応性蒸着可...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

多機能スパッタリング装置【MiniLab-S060】

コンパクト、60ℓ容積チャンバーにスパッタ・蒸着・EB・アニールなどの…

Φ2inchカソード x 4基搭載同時成膜：3元同時成膜（RF500W or DC850W）+ HiPIMS（PulseDC 5KW） x 1 プラズマリレーSWでHMI画面より自在に4カソードへの電源分配・配置設定の変更が可能 MFC x 3系統（Ar, O2, N2）反応性スパッタリング RIEエッチングステージRF300W（メインチャンバー） + <30Wソフトエッチング（LLチャ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX800V)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・最大100枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～8インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

回路形成材料　電子部品、ウェハーレベルパッケージ工程エッチング液

ウェハーレベルＣＳＰや精密電子部品をはじめとするあらゆる分野で

ウェハーレベルＣＳＰや精密電子部品をはじめとするあらゆる分野でのウエットエッチング剤です。各種機能を有したエッチング剤、ソフトエッチング剤、ハーフエッチング剤なども取りそろえています。銅再配線工程や素子電極形成等に各種金属膜のエッチング液を提供しています。詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...【特長】 ○ウェハーレベルＣＳＰや精密電子部品をはじめとするあらゆる分野で...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ADEKA

スプレーコーターによる機能膜形成加工サービス

機能薄膜コーティングのソリューションを提案。　　　　　　　　　　　～薄…

投資を省ける。・長年の弊社データベースで難しい諸条件が容易に設定可能。・開発や新プロセスの問題解決をコンサルタント。・必要に応じ、ニーズにフィットしたカスタム装置提案も可能。・特殊機能膜の塗布加工サービス（薄膜形成試作・開発支援）を提案。・薄膜プロセスの総合的研究開発の受託も可能。・特殊機能膜の液調合から提案し、薄膜形成可能。・稀少材料が１cc からでも塗布試作は可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エーシングテクノロジーズ湘南藤沢研究所　

高生産性連続式常圧CVD(APCVD)装置 (AMAX1200)

量産向け　NSG(SiO2)/PSG/BPSG膜成膜用　高生産性　連続…

「AMAX」シリーズは、層間絶縁膜・パッシベーション膜(保護膜)・エピタキシャル(Epitaxial)ウェハ用バックシール等のシリコン酸化膜(SiO2膜)の成膜を目的とした、連続式常圧CVD装置(APCVD装置)です。【特徴】　・～56枚/hの高生産性 (対応ウェハサイズ: ～12インチ) 　・真空・プラズマ不要 (熱CVD) 　・SiCトレー採用による重金属汚染(メタルコンタミネ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社渡辺商行

厚膜塗布に高粘度専用スピンコーター！自動ポリイミド塗布装置

～10000cP程度の高粘度ポリイミドを均一に塗布する高粘度専用スピン…

【特徴】・高価な薬液の吐出量を高精度ポンプにて制御・均一良く塗るためのカップ構造（密閉式、回転カップ式）・少量で塗り広げるプロセスのノウハウ・少量生産に対応したシリンダ対応ディスペンサーも搭載可能（オプション）・高粘度材料で難しいEBR（エッジリンス）機能高粘度ポリイミドをスピン塗布する装置です。高粘度対応ポンプ及び、薬液温調システムを搭載し、高粘度ポリイミドをムラ無く...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

逆浸透膜純水装置　AQLIA　NEOシリーズ

イニシャルコスト、ランニングコスト激減！　逆浸透膜方式の純水装置

AQLIA NEOシリーズは、イニシャルコスト、ランニングコストが市価の５０％になるように、目標を設定した高精度の純水装置です。独自の逆浸透膜方式により、有機・無機物質などの様々な不純物を除去し、高品質の純水を造水します。《特長》 ■独自のシステム基板(PNET2008)で使い勝手がさらに改善！ ■動作タイミングの任意設定機能。　 PCでのプログラミングが不要で、現場で簡単に操...

メーカー・取り扱い企業：株式会社プライムネット

アークフィラメント式イオンプレーティング装置　

緻密な酸化膜厚膜（～１０μｍ）を高速形成。新開発イオン化機構搭載　Ｃ…

緻密で耐プラズマ性の高いイットリア膜やＳｉＣ膜を高速形成。高密度プラズマによる反応性プロセスによりCVDより低温で溶射法より緻密な膜質を実現。半導体関連部品にも応用可能なクリーンな成膜プロセスを実現。 PVD法のため装置のメンテナンスも容易で低コスト。絶縁膜（酸化膜・炭化膜）を高速形成。緻密な厚膜を高速形成。従来型のイオンプレーティング法の弱点を克服。新たな表面機能を生み出す用途...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

自動フォトレジスト塗布装置（スピンコーター）Coater

レジスト膜の面内均一性やウエハ間の平均膜厚の差が少ないコーターです。低…

ロボット搬送による全自動レジスト塗布装置です。高均一性、省薬液、複数薬液使用可能な仕様です。低粘度～高粘度レジストまで要求仕様に合わせてカスタムいたします。ポジ・ネガレジスト、ポリイミド、SOG、WAX、シリコーンなど、多彩な薬液に実績があります。 Si（シリコン）、GaAs、InP、GaN、SiC、サファイア、セラミック、SiO2（ガラス）など多数の基板搬送実績もあります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

SUSS MicroTec社製インクジェット塗布装置『LP50』

半導体、PCB、プリンテッドエレクトロニクス向け、卓上型インクジェット…

SUSS MicroTec社製の卓上型インクジェット塗布装置『LP50』は、目的に応じて柔軟にプリントヘッドを選定できるよう設計された多機能で高精度な製品です。（Fujifilm、KonicaMinolta、Xaar、Canon製ヘッドに対応しています）エポキシ樹脂、ポリイミド、アクリル樹脂やUV硬化樹脂等のダイレクト塗布、ウェハへのレジストやパッシベーション膜の塗布、AgやC...

メーカー・取り扱い企業：兼松ＰＷＳ株式会社

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】　様々なご提案！

【膜種、方式にとらわれないコーティングの全方位提案！】

こんなお困りごとはありませんか？課題、用途に適した膜種、方式を提案【湿式、乾式(CVD、PVD、溶射、その他】 ●「装置部材の長寿命化」「生産消耗部材の長寿命化」のテーマがある　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●部材そのものの切替にはコストやリスクがありコーティングを検討したい　　　　　　　　　　　　　↓↓↓↓↓↓↓↓↓↓ ●コーティングメーカーが...

メーカー・取り扱い企業：ナラサキ産業株式会社メカトロソリューション部　機能材料課

ウェハプロセス用真空蒸着装置

膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現！高品質の電極膜を安定して形…

『ウェハプロセス用真空蒸着装置』は、6インチまでのウェハへの電極膜形成に対応したバッチタイプ蒸着装置です。ディスクリートIC、化合物IC、MEMSデバイスの量産用途に豊富な実績を持っています。膜厚均一性に優れた成膜機構と高速排気を実現するオイルフリー排気系により高品質の電極膜を安定して形成が可能。量産用途の蒸着装置として高い稼働率を誇ります。【特長】 ■信頼性...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

短時間剥離！手動リフトオフ装置（マニュアル機）Lift-off

短時間剥離！当社独自の特殊ノズルによる高圧ジェットで、枚葉による高速処…

研究開発用途で活躍するマニュアルリフトオフ装置をご紹介します！アセトンや専用剥離液で一晩浸漬した後に超音波やスプレーでリフトオフをするような長時間工程を短くできます。当社独自の特殊ノズルを使用した高圧ジェットにより、枚葉による高速処理・高剥離力を実現し、薬液の使用量も削減できます。さらに、弊社独自の温調膨潤と高圧ジェットの組み合わせで処理時間を24時間→3minに減らした事...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

スパッタ成膜ユニット

マグネトロンスパッタ源と基板回転機構を装備したスパッタ成膜ユニット【特徴】 ○優れた膜厚分布を実現 ○DCスパッタリング、RFスパッタリングを切り替えて　使用する事が可能 ○2種類のスパッタ源を搭載することにより、異なった膜種を成膜可能 ○逆スパッタ機能搭載により、基板のクリーニング・エッチングが可能 ○ツーモーションシャッター採用によりコンタミおよび発塵を防止 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メープル

スプレーコーター　立体レジスト塗布装置 DC110/DC210

MEMSデバイス及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ー！

スプレーコーター　立体レジスト塗布装置 DC110/DC210は、はMEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコー夕ーです。微細粒子化が可能なスプレーノズルにより、サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できます。スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール、トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能です。塗布...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ナノテック

【納入事例】地方独立行政法人大阪産業技術研究所様

多層膜の作成を自動で実行することが可能なスパッタ装置の納入事例をご紹介…

地方独立行政法人大阪産業技術研究所様に、マグネトロンスパッタリング装置を納入した事例を紹介させていただきます。今回納入しました装置は、当社の「MS-3C100L型」で、スパッタ室、ロードロック室(LL室)、真空排気系、ガス導入系、電源系、基板温度制御系および PCと制御装置からなる操作・制御系により構成。スパッタ室には、ターゲットを取り付けるカソードが3元搭載されており、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大阪真空機器製作所

ナノスピードディップコーター　ND-0407-S5

ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!！

ワークの2軸、θ角制御で、ワークの角度調整、斜め引上げを可能にした超低速ディップコート(ディップコーティング)装置です。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質に超低速のナノ単位の速度 (1nmごとの可変)にてディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。ナノレベルの膜厚形成、オパール膜、粒子配列、結晶生成等に適しています。操作はタッチパネル方式を採用。2軸同期、1...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ

成膜関連製品　TELEMARK 真空蒸着用コンポーネント

蒸着用電子銃など真空蒸着のことならお任せください。

VISTA株式会社は、TELEMARK製の電子銃や水晶膜厚モニターなど多彩なラインアップで取り揃えております。 TELEMARK社の電子銃は、超高真空対応型、高真空汎用型、シングルポケット、回転型、直線型、ルツボ容積4ccから1500ccまで、最大ビームパワー3kWから15kWまでと、豊富で幅広い製品群を用意しております。また、蒸着装置の水分を効果的に取り除くことは、真空蒸着にとって必須の課...

メーカー・取り扱い企業： VISTA株式会社

SDR型巻取式スパッタリング装置（RｔｏＲタイプスパッタ装置）

サンプルテスト対応中　フィルム・金属箔に成膜、フレキシブルデバイスや先…

ＦＰＣに代表されるフレキシブル電子デバイスの量産に実績対応。社内デモ機によるプロセスサポートにより各種の個別要求に確実に対応。一般的な樹脂フィルムだけでなく金属箔を含む幅広い基板に実績独自開発による高使用率カソードと実績豊富な搬送機構により安定した稼動を実現。プラズマ前処理電極や磁性材用カソード、基板加熱用メインロールなど豊富なオプション機構を揃えており多目的なフィルム連続処理装置とし...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

BS-60610BDS ボンバード蒸着源

ハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応

日本電子株式会社 BS-60610BDS ボンバード蒸着源は、電子ビームボンバード間接加熱法を利用した真空蒸着源です。従来機種 (BS-60310BDS) にビームスキャン機能を増設したことによりハイレート対応、厚膜成膜、大型装置対応等の特長が得られます。〇特長・ライナー大容量化。・ハイレート化・大型装置対応。・厚膜対応。赤外用途への対応も可能・レート安定化・低ダメージ・低欠陥...

メーカー・取り扱い企業：アズサイエンス株式会社松本本社

マイクロスピードディップコーター　MD-0408-S8

速度可変域の広さで、当社装置人気度NO1ディップコーター

当社販売実績NO1のマイクロスピードディップコーター(ディップコーティング装置)です。速度の可変域は1μm/secから60mm/sec、1nm/secから1mm/secのモード切替式で大変にワイドで使い易い仕様となっています。ガラス、アクリル、銅箔、チューブ状の物質にディップコート(ディップコーティング)が可能なディップコーターです。分離膜生成、粒子配列、ナノレベルの膜厚、結晶形成に適して...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ＳＤＩ

立体レジスト塗布装置「スプレーコーター　DC110/DC210」

スピンナークラスの薄膜から超厚膜まで対応。膜厚は１μｍ～６００μｍまで…

MEMSデバイス、及び各種半導体研究用に開発されたスプレーコーター ...【特徴】 ○微細粒子化が可能なスプレーノズルにより　サブストレート上の傾斜面、台形や直角頂点部といった　従来のスピンナーで塗布が困難であった部分にも均一な膜を形成できる ○スピンナーでは実現が難しいキャビティ、ビアホール　トレンチ構造へのレジスト埋め込み塗布も可能 ○塗布膜厚は、スピンナークラスの薄...

メーカー・取り扱い企業：三明電子産業株式会社

RIBER社分子線エピタキシー（MBE）装置

パッシベーション用MBE装置は、レーザーファセットパッシベーション等の…

パッシベーション用MBE装置は、表面パッシベーションまたはレーザーファセットパッシベーションのために特別に設計された各種チャンバーで構成されております。表面やファセット面を保護するために、さまざまなコーティングを使用することが可能です。代表的な材料としてZnSe、SiN、酸化物等がある。構成例として、クリーニングとパッシベーションを行うレーザーの両端でデバイスホルダーを反転させる機能が含むチャ...

メーカー・取り扱い企業：伯東株式会社本社

ヒューズテクノネット　透明導電膜加湿ユニット

H2Ｏを加温気化し、マスフローコントローラーで流量制御し、エッチング装…

加湿タンク内でＮ2ガスをバブリング、マスフローコントローラーで安定制御、温調器でプロセスラインベーキング制御、各炉へ安定供給します。...【特徴】 ○タンク制御温度・・・・・・・・60～65℃（センサーPT100Ω） ○配管制御温度・・・・・・・・・70～75℃（センサーPT100Ω） ○タンク・配管温度異常・・・・110℃（センサーサーモスイッチ） ○Ｈ2Ｏタンク水位検知用に、H・Mレベ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

500℃温度サイクル用薄膜ストレス測定装置　FLX-2320-S

500℃温度サイクル用　薄膜ストレス測定装置　FLX-2320-S

室温から500℃までの温度範囲で非接触・非破壊にて薄膜ストレスを正確に測定することが可能な測定装置【特徴】 ○膜付けされた薄膜によって生じる基板の曲率半径の変化量を算出　曲率半径は、基板上を走査するレーザーの反射角度から計算されるため　膜付けの前後で曲率半径を測定し、その差を算出することにより　曲率半径の変化量（R）を求める ○測定チャンバー内の温度を自由に設定でき...

メーカー・取り扱い企業：ヤマト科学株式会社

スパッタ・蒸着源複合型薄膜装置【nanoPVD-ST15A】

真空蒸着（金属・有機蒸着源）、スパッタリングカソードの混在設置が可能な…

nanoPVD-ST15Aは、抵抗加熱蒸着源、有機蒸着源、Φ2inchマグネトロンスパッタリングカソードを同時に設置可能な複合型薄膜実験装置。ベンチトップサイズ・省スペース、限られたラボスペースを有効活用いただけます。顕微鏡用試料作成用コーターではありません、電子回路基板、電池、MEMS、新素材開発などの研究開発用途で求められる高品質な薄膜を作成することができます。ガス系統最大3系統（プロ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

フォトレジスト薄膜コーティング試作（薄膜試作・開発支援）

コーティング困難な凹凸デバイスへ、フォトレジストの薄膜塗布を可能とした…

【特長】・スプレーコータ装置の購入なしで、研究開発を進められる。・研究開発のスピードアップ。・無駄な開発投資を省くことができる。・長年の弊社データベースをもとに機能膜塗布をご提案。・開発や新プロセスの問題点をコンサル。・特殊機能膜の塗布加工サービス（薄膜形成試作・開発支援）をご提案。・特殊機能膜をコーティング液から調合し薄膜を形成することも可能。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エーシングテクノロジーズ湘南藤沢研究所　

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

凹凸面対応のフォトレジストスプレーコーター装置『IS型シリーズ』

半導体・MEMS・センサーデバイスに最適！　　　　　　　　　　　　 …

ことができる。・長年の弊社データベースにより難しい条件出しが容易に設定可能。・開発や新プロセスの問題点をコンサルティングします。・必要に応じ、必要な装置のご提案をいたします。・特殊機能膜の塗布加工サービス（薄膜形成試作）をご提案・薄膜プロセスの総合的研究開発の受託も可能・特殊機能膜をコーティング液から調合し薄膜を形成することも可能 ●詳しくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エーシングテクノロジーズ湘南藤沢研究所　

ヒューズテクノネット　燃料電池イオン膜評価機

Windowsパソコンでの操作がわかりやすい

燃料電池の電気的特性、ガスによる物理的特性、耐久特性の評価に最適です。改質器の評価も可能です。供給用加湿器ユニットは内臓（※単品販売可） ...【特徴】 ○Windowsパソコン操作がグラフィカルで分かりやすくなっています。 ○温度・圧力・流量・電圧・電流などのデータをパソコン画面上に表示し、データを記録、テキスト形式で保存できますのでデータ加工が可能です。 ○各運転パターンを設定することが...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ヒューズテクノネット

標準バッチタイプスパッタリング装置（ＳＲＶシリーズ）

多機能・コンパクト・フレキシブル対応、実績と信頼の標準型ラインナップ

コンパクトな筐体に３元のカソードを組み込んだ標準バッチタイプスパッタリングシリーズ。広い膜厚分布均一範囲と自動制御機構によって各種電子デバイスや関連材料の成膜工程をの基礎開発から量産までカバーします。多くの納入実績に支えられた成膜プロセスとオプションにより御要望を確実にサポートします。...シリーズは基本的に４インチカソード、６インチカソード、８インチカソードを装備したバッチタイプ（標準各３元...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

デスクトップクイックコーター「SC-701MkII」

SEM用試料の前処理用として最適！シリーズ最小のコンパクトコーターです…

「SC-701MkII」は、シリーズ最小のコンパクトコーターです。デバイスの電極膜付けにも使用可能で、シンプル＆イージーオペレーションです。イオンダメージを軽減する間欠スパッタ機能を標準搭載。試料ブロックを用いて簡単にT-S間距離を変更できます。 SEM用試料の前処理用として最適です。【特長】 ○シリーズ最小のコンパクトコーター ○低価格／小型軽量タイプ ○熱ダメージ防...

メーカー・取り扱い企業：サンユー電子株式会社

ＣＡＲＢＯＺＥＮハイブリッドＰＶＤシステム

製膜スピードＵＰ＆高い密着性！導入コストや維持費も低いＤＬＣコーティン…

『CARBOZEN　ハイブリッドPVDシステム』は、製膜スピードを飛躍的に向上させた新型DLCコーティング装置。優れた密着性が特長です。リニア・イオン・ソースとUBMスパッタ、FCVAソースの適切な組み合わせで、基材との密着性が高い、様々なDLC膜をコーティングすることができます。【特長】 ■装置とオペレーターのためのロック機能 ■MS Windows OSベースのソフトウェア...

メーカー・取り扱い企業：パーカー熱処理工業株式会社川崎事業所

枚葉式プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ－Σ」

ニッチプな要求に細やかに対応。ライトエッチング・アッシングを薄ウェハや…

薄ウェハ（１００μｍ以下）の自動枚葉搬送を実現したプラズマエッチング装置。マルチモードプラズマとステッププロセスで幅広いプロセスに対応自然酸化膜除去から厚膜レジストアッシング・クリーニング・ディスカムまで。ディスクリートＩＣ、パワーデバイス、化合物半導体・ＭＥＭＳなど多くのデバイスの量産現場で多様なプロセスで活躍中...３～８インチウェハ対応の大気搬送型ＣｔｏＣシステム。平行平板型ＲＩ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

燃料電池MEA用小型スプレーコーター

燃料電池・水分解触媒インクの塗布にコーティングの周辺技術と豊富なデータ…

することなく均一塗布可能。・少量でも循環可能。・塗布液は少量（１cc )でも塗布可能。・特殊竜巻式（スワール）微粒化法で良質な成膜が可能。・微粒子の積層方法（塗布条件）により多彩な機能膜の形成が可能。・ワークサイズは□150～1200mm程度の実績があります。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エーシングテクノロジーズ湘南藤沢研究所　

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

HEXシステムは、ユニークな『モジュール構造』が採用されています。六角柱の形状のチャンバーの、各面を構成するパネルを交換することで自由自在にポートの数や配置を変更することができます。そのため、研究の方向性の変化に応じて、まるでブロックを組み立てるような要領で、自分自身で簡単に構成変更や機能拡張を行うことができます。 HEXシステムは、ベンチトップシステムとUHVシ...

メーカー・取り扱い企業：テガサイエンス株式会社

3Dスプレーコーター　API-240-3DS

任意の３D形状に塗布できる3Dスプレーコーター。レーザースキャナーで基…

塗布サイズ 600mm x 400mm の当社標準機に3Dスキャナーと3D塗布機能を搭載したフラッグシップモデル。車載用パネルなど曲面ガラスへの塗布ニーズが増えている中で、任意の形状に精密に成膜することが可能なスプレーコーターです。...塗布サイズ：600mm x 400mm 塗布精度　：液供給の再現性　1%以下　、　膜厚均一性　±5-10%程度ヘッドスピード：最大1m/sec 塗布膜...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アピロス本社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積）低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

～微粒子を科学する～スプレーコーターによる薄膜形成試作・開発支援

機能薄膜コーティングの開発・試作を提案。　（コーティング装置を購入せず…

。・長年の弊社データベースを活用し、難しい諸条件が容易に設定可能。・開発や新プロセスの問題解決をコンサルタント。・生産に向けて、カスタマイズしたコーティング装置の提案も可能。・特殊機能膜の塗布加工サービス（薄膜形成試作・開発支援）を提案。・薄膜プロセスの総合的研究開発の受託も可能。・特殊機能膜の液調合から提案し、薄膜形成可能。・希少材料が１cc からでも塗布試作が可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エーシングテクノロジーズ湘南藤沢研究所　

固体ソースECRプラズマ成膜装置『AFTEX-2300』

低温で高い結晶性薄膜を得ることが可能！価格を抑えたプラズマ成膜装置

『AFTEX-2300』は低価格ながらマイクロ波分岐結合型ECRイオン源を搭載するとともに、ロードロック機構、ターボ分子ポンプを装備した高性能な固体ソースECRプラズマ成膜装置です。 10-30eVの低エネルギーに制御された高密度イオンの照射下で薄膜が成長するため、原子レベルの平滑性で緻密・高品質な薄膜が形成されます。イオンアシスト効果により、高温の加熱を行うことなく...

メーカー・取り扱い企業： JSWアフティ株式会社

自動レジスト現像装置（枚葉式）デベロッパー Developer

枚葉式のためプロセスの再現性が高く、薬液使用量も少なく済みます。品質向…

枚葉式フォトレジスト現像装置です。パドル現像、スプレー現像（1流体、2流体）など様々な現像プロセスに対応できます。薄型ウェハや角基板など多数実績がございます！また、厚膜レジスト現像～微細なパターンの現像まで幅広く対応できます。当製品は、枚葉式で現像、ベーク、クーリング機能を搭載（オプション：全面露光ユニット）マニュアル機～フルオート機まで生産量に合わせたライ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイ・エス・エイ・ピイ

改善成功事例　事例2　金属蒸着セル　KMDW-Cell

◆◇◆経緯◆◇◆ 従来使用している金属蒸着方法は、ボート式であり、金属膜を蒸着する際に、 100A以上もの大電流を印加している。ボート式は、初心者でも容易に蒸着可能であるが、大電流を使用することで、膜質に悪影響をもたらす要因と考えられる。また、蒸着の際の飛散量が激しく、チャンバー内のメンテナンスが頻繁に必要となり、綺麗な環境での使用は困難となっている。...◆◇◆対処法◆◇◆ ...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社