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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型!優れた放熱性とハイレベルな防…
『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラピュタインターナショナル
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高強度薄型タイプ! 薄いシートでも切れ難く破れ難い構造です!
コーンポリマーとセラミックスの混合材を使用。 ●標準色はライトブルーとなっております。 ●難燃性は、認証基準として(UL)UL94-V0規格準拠。 ●環境対策として、RoHS指令準拠 高密度実装されるエレクトロニクス機器を、熱という大敵から守り、故障や誤作動を低減させます。その柔らかな材質は加工し易く、幅広い製品にご使用いただけます。 【詳しくは、お問い合わせ、カタログをダウン...
メーカー・取り扱い企業: 丸紅エレネクスト株式会社
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3次元での流体計測になります。
による再構成までさまざまなルーチンに対応 - カメラ2台からボリューム計測が可能 - GPUの使用による高速処理 - 現在の Version 7 ではトラッキングコードのアップデートにより、高密度のシーディング粒子に対する短時間での計測が可能になります。 - 弊社面内PIVシステムからのアップグレードにも対応...
メーカー・取り扱い企業: ダンテック・ダイナミクス株式会社
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優れた熱伝導率で高い効果を発揮します!
、安定した物性を持続。 ・シロキサン含有量を低減。 ・取付作業の容易な保護フィルムを使用。 ・熱源の形状に合わせて、カッティング納品。 ・難燃性に優れております。(UL94V-0) 高密度実装されるエレクトロニクス機器を、熱という大敵から守り、故障や誤作動を低減させます。その柔らかな材質は加工し易く、幅広い製品にご使用いただけます。 【詳しくは、お問い合わせ、カタログをダウン...
メーカー・取り扱い企業: 丸紅エレネクスト株式会社
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