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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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SUS410 高密度不導体被膜表面処理『ファインパシベート』
SUS410ドリルねじに最高クラスの耐食性を!腐食因子からねじの表面を…
SUS410でも綿密な耐酸化被膜を形成する、高密度不導体被膜表面処理 『ファインパシベート』をご紹介します。 パシベート処理の最適化により、ねじ表面に一般的な処理よりも クロム量の多い不導体被膜を形成。 高密度不導体被膜は、一般的...
メーカー・取り扱い企業: ケーエム精工株式会社
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