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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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PR高温環境100℃まで対応可能な電源一体型!優れた放熱性とハイレベルな防…
『RLS-FLN-100シリーズ』は、100℃の高温耐性を有し、防塵、防湿、防水、 防爆機能に優れ、過酷な高温環境下でも安定的に動作する耐熱LED照明です。 電源・ドライバー等は別置きではなく全てランプと一体で、同一高温環境下で 使用可能。モジュール化した照明デザインを採用し、各モジュールの熱は お互いに影響しません。 また、ハウジングおよびヒートシンクには、放熱性と耐食性に優れ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ラピュタインターナショナル
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耐薬品性に優れたオール樹脂製小型フィルター
) ●使用圧力範囲:max.0.87Mpa ●使用温度範囲:max.60℃ ●材質 本体:ポリプロピレン フィルター:高分子量ポリエチレン(気孔径30μm) 高密度ポリエチレン(気孔径70μm) ポリプロプレン(気孔径150μm) ...
メーカー・取り扱い企業: サンワ・エンタープライズ株式会社
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交換が容易なフォトレジストのPOUフィルター
【主な仕様】 除粒子径: 0.01, 0.02, 0.05, 0.1, 0.2 µm 材 質: フィルター 超高分子量ポリエチレン(疎水性) サポート 高密度ポリエチレン ハウジング 高密度ポリエチレン 最高使用温度: 40 ºC ホールドアップ容積: ≦ 55 cc...
メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社
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サブミクロンの高精度加工技術と測定技術
ックスとは】 当社シャープペンシルで培った混練、押出成形、焼成といったコア技術を利用したユニークなセラミック製品です。 独自開発の押出成形設備と焼成ノウハウにより緻密に成形し、均質に焼成された高密度・高強度・高純度のセラミックスです。 さらに二次加を加えることにより、内外径に高精度(ミクロンオーダー)の寸法精度と表面の平滑面(サブミクロンオーダー)の面粗度が提供可能です。 その他詳細...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロットコーポレーション
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鮮やかな色を表現する研磨技術
ラミックス】 当社シャープペンシルで培った混練、押出成形、焼成といったコア技術を利用したユニークなセラミック製品です。 独自開発の押出成形設備と焼成ノウハウにより緻密に成形し、均質に焼成された高密度・高強度・高純度のセラミックスです。 さらに二次加を加えることにより、内外径に高精度(ミクロンオーダー)の寸法精度と表面の平滑面(サブミクロンオーダー)の面粗度が提供可能です。 ●その他詳...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社パイロットコーポレーション
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3次元的網目構造を織り成す多孔質体を作り出す成型法です。
【高分子多孔体詳細】 ○グレード記号 EL →材質:低密度ポリエチレン 空孔率35~40% ○グレード記号 EH →材質:高密度ポリエチレン 空孔率35~38% ○グレード記号 G →材質:超高分子量ポリエチレン 空孔率38~40% ○グレード記号 P →材質:ポリプロピレン 空孔率35~38% ○グレード記号 ...
メーカー・取り扱い企業: スペイシーケミカル株式会社 営業部
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1つのユニットで純水中の金属不純物と粒子の両方を除去
60℃) 粒子除去膜 20 nm: 親水性ポリスルフォン 0.05, 0.1µm: 親水性超高分子量ポリエチレン イオン交換メディア ポリエチレン コア、スリーブ、サポート 高密度ポリエチレン O-リング 被覆フッ素ゴム(E-FKM)ほか HTシリーズ (~80℃) 粒子除去膜 親水性ポリスルフォン イオン交換メディア ポリエチレン コア、スリーブ、サポート ...
メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社
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多本数カートリッジハウジング、一台で大流量に対応出来ます。
きます。 ●SYS特許の仕切板設計、カートリッジの羅列をより精密に、上から圧力かかる時カートリッジも歪みません。 ●手締押え板ナットを用いて、無工具でカートリッジの交換を行えます。 ●厚くて高密度のO-リングを用いて、カバー開け閉めするときも落ちない。 ●台湾唯一国産エコ設備品質賞受賞、安心安全の品質をお届けします。 ...
メーカー・取り扱い企業: シンヤンシン工業(SYS)株式会社
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20 nm、0.05 μmの粒子除去が可能な溶剤処理用フィルター(疎水…
【仕様】 ■材質 ・メンブレン:PTFE (疎水性*) ・サポート、コア、スリーブ:高密度ポリエチレン(HDPE) ・O-リング:被覆フッ素ゴム(E-FKM)、被覆シリコーン(E-SIL) ■孔径:20 nm、0.05 μm ■適合カートリッジ ・コード0 (AS568-2...
メーカー・取り扱い企業: 日本インテグリス合同会社
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