セラミックス製 構造部品【ミクロンオーダーにも対応可能】

新東独自の成形技術「浸透Vプロセス」で大型形状品や複雑形状部品の一体成…

浸透Ｖプロセスは、鋳造で用いられている「Vプロセス法」をセラミックスの成形に応用した技術で、 大型で複雑形状の部品をセラミックスで高品質に製作できる鋳込み成形技術です。 セラミックスの特性を活かし、半導体、FPD、電子部品をはじめとした製造／検査装置の部品から 超精密測定器具など、様々な分野で高い評価を得ています。 お客様の用途や課題に合わせ、材質選定からご提案いたします。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 新東Vセラックス株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE） ＜基板ローディング＞ 〇真空クラスタツールによる完全自動ロード 〇カセットからバッチへのローディング 〇オプションSMIFステーシ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

イオンプレーティング成膜

50種類以上もの薄膜コーティングを1個からでも対応可能！宇宙開発技術か…

イオンプレーティング法は、真空蒸着法の発展型です。 真空蒸着法と同じように、膜にしたい材料を真空中で蒸発（あるいは昇華）させ、ガラスやシリコンウエハーなどの基板上に堆積させます。 イオンプレーティング法の特徴は、蒸発粒子をプラズマ中を通過させることで、プラスの電荷を帯びさせ、 基板側にマイナスの電荷を印加することで、蒸発粒子を引き付けて基板上に堆積させて、薄膜を形成する方法です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

ALD装置（原子層堆積装置）『P-300B』

高品質のALD膜を作り出す！MEMS機器の生産や3Dオブジェクトの成膜…

最小1桁秒までのサイクルタイムでバッチ処理が可能 　・AI2O3、SiO2、Ta2O5、HFO2、ZnO、TiO2、ZrO2、AIN、TiN およびメタル 　・<1% 1σバッチ内不均一性 （Al2O3、WIW、WTW、B2B、49点、5mm EE） ■基板の装着 　・空気圧式リフトによるマニュアルローディング 　・半自動のリニアローディング 　・産業用ロボットによるローディング ■...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

レーザー加工機　『カスタマイズ可』『サンプル加工無償実施』

お客様の要望に合わせたレーザー発振器を選択し、さまざまなレーザー加工用…

【イメージは動画をご覧ください】 お客様の要望に合わせたレーザー発振器を選択し、さまざまなレーザー加工用途に対応！経験豊富な技術スタッフがレーザに関する相談に随時受付します。サンプル加工無償で実施。 【実績多数】 当社では、「レーザー」を用いた微細・精密加工用途の開発用及び量産用レーザー加工機の販売実績が多数あります。特にチップ抵抗機アルミナセラミックス用レーザ加工機は、300台以上の導...

メーカー・取り扱い企業： 西進商事株式会社

ファインセラミックスの材質選定いたします。

用途や使用条件に合わせてファインセラミックスの材質選定をいたします。 …

ことが可能です。 ただし一般の樹脂や金属に比べれば硬くて脆く欠けやすいため、加工性は悪く、加工時間も長くなります。 エンジニアリングセラミックは以下のようなものがあります。 ・アルミナ（Al2O3） ・窒化ケイ素（Si3N4） ・ジルコニア（ZrO2） ・炭化ケイ素（SiC） ・窒化アルミ（AlN） ・ムライト ・コージライト ・ステアタイト ・多孔質セラミック マ...

メーカー・取り扱い企業： ユタカ産業株式会社 本社・工場

原子層堆積装置 「ALD-Series」

複雑な形状の基板への成膜に最適で、低温成膜で樹脂基板にも対応します。ま…

ALD（Atomic Layer Deposition）とは原子層堆積法という単原子層を1サイクルで成膜する手法で、サイクルを繰り返すことにより薄膜を形成します。 一原子層レベルの均一なレイヤーコントロールが可能となり、高品質かつ段差被覆性の高い薄膜を形成する事が可能です。 【特徴】 ○複雑な形状の基板への成膜に最適 ○低温成膜で樹脂基板にも対応 ○ガスバリア性に優れた薄膜が得られる...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空