実験・研究開発用途 受託成膜サービス『ALD（原子層堆積）装置』

ご要望のプリカーサによる各種サンプルへの成膜をお手伝い。ライブデモ、パ…

え致します。 ★サービスの詳細を知りたい方、ご依頼を検討されている方は 　お気軽に下記「お問い合わせ」ボタンより、ご連絡ください。 【特長】 ■各種酸化膜・窒化膜の成膜が可能 （Al2O3、TiO2、ZrO2、HfO2、RuO2、SiO2、TiN 等） ■小チップからパイプ、フィルム等、300mmの大きさまで対応可能 ■当社の技術者がレシピ製作やパラメータ設定のサポート ■...

メーカー・取り扱い企業： ワッティー株式会社

クラスター装置『Morpher』

デバイス量産へ、優れたプロセス品質、信頼性、高スループットを提供！

3 ＜一般的なプロセス＞ 〇1桁秒～のサイクルタイム可能なバッチプロセス 〇Al2O3、SiO2、Ta2O5、HfO2、ZnO、TiO2、ZrO2、メタル 〇バッチ1％未満の1σ不均一性（Al2O3、WIW、WTW、B2B、49 pts、5mm EE） ＜基板ローディング＞ 〇真空クラスタツールによる完全自動ロード 〇カセットからバッチへのローディング 〇オプションSMIFステーシ...

メーカー・取り扱い企業： PICOSUN JAPAN株式会社

卓上型サーマル式 / プラズマ支援 原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

テーブルトップのコンパクトサイズALD装置ながら原子レベルレイヤーの成膜が可能。プラズマユニットを装備したPEALD装置もございます。 直径200mm、高さ25mmまでの構造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。 酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド 最...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

原子層堆積（ALD）装置

豊富なプロセスレシピを持ちながらも非常に小型な原子層堆積装置

コンパクトな卓上型ALD。 半導体デバイス、有機太陽電池、ナノワイヤー、量子ドットなどへの成膜により、表面保護や改質など様々なデバイス開発にご使用いただけます。 プロセスはALD・CVDの材料開発拠点で開発されたもの。 順次レシピを増やしてゆき、新規のプロセス開発も承っております。...設置面積：48x48cm 基板サイズ： 最大4インチ プレカーサー材料：５系統 方式：ホットウォール...

メーカー・取り扱い企業： ALDジャパン株式会社

表面処理『サンアルテック（SAN-ALTEC）』

特殊アルミ合金層でボルトに優れた特性を付与！増し締めに耐える素材強度を…

『サンアルテック』は塩害対策、焼付、かじり防止、耐高温酸化腐食を 主な目的としたアルミ＋鉄の合金層を生成させる表面処理です。 その再表面は酸化皮膜（Al2O3）で覆われており、 科学的に安定しているため高い耐食性を有します。 当処理を施したボルトは、素材での強度を維持し、増し締めによる 軸力増加に充分耐えられるため、安心してご利用いただけま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三和鉄工