ダイヤモンドライクカーボン膜（DLC）コーティング加工

PR金属から樹脂まで幅広く対応。金型や摺動部品の耐摩耗性向上に。メッキの代…

『PEKURIS COAT』は、当社独自のプラズマイオン注入成膜装置を使用し、 潤滑性に優れたDLC膜をワークに形成するコーティング加工です。 イオン注入効果により、高密着成膜が容易で、ステンレス鋼や工具鋼、 アルミ合金等にも成膜可能。また、低温での処理が可能で、 融点の低い樹脂やゴム、アルミなどにも対応しております。 DLCコーティングでお困りの方は、ぜひお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社栗田製作所 本社・京都事業部

無停電電源装置『KE-0520シリーズ』常時インバータ給電UPS

PR対象機器に絞った瞬停対策に！三相AC200V 5ｋVAの小容量を実現！…

『KE-0500シリーズ』は、三相200V/5kVAの小容量を実現した 常時インバータ給電方式のUPS（無停電電源装置）です。 工場全体ではなく、重要な機械・設備のみに導入するなど ターゲットを絞った瞬停対策が行えます。 また蓄電デバイスに「EDLC」を選ぶことで、従来の蓄電池では動作できなかった 零下などの低温環境下でもバックアップが可能な点も特長です。 【特長】 ■産...

メーカー・取り扱い企業： クズミ電子工業株式会社

リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置（HR-PVD）

誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ（IBD)装置です。　 ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得られた高密度なイオンをターゲットへのバイアス電圧印加によって加速させる画期的な方法により、高レートかつ直進性の...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

イオンビームエッチング・ミリング（IBE）装置

高レート・高信頼性を実現した生産用イオンビームミリング装置

AVP Technology社製イオンビームエッチング装置はICPイオンソースを搭載した高均一・高エッチングレート、かつ稼働再現性・安定性に優れた製造装置です。 他社IBE装置に較べ卓越した制御システムにより、製造設備に必須である安定...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

高電流密度イオンビーム型イオン銃

EUROVAC社製VARIAN型廉価版3keVイオン銃

ちによって運営されています。実用的、技術的、基礎的な研究課題の解決に向け、お客様をサポートする体制を整えています。1998年にEUROVAC社は、バリアン表面科学部門(米国/パロアルト)を買収し、イオン銃、電子銃、LEED、RHEED、CMAの製造をスウェーデンのストックホルムに移管し、製品、スペアパーツ、サービスサポート等を提供する製造メーカーとして信頼性の高い非常に優れた機器を低価格でご提供...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社テク

精密光学用イオンビームスパッター装置　IBS1400／1600

ビューラー・ライボルトオプティクスの真空IBS装置

ビューラー・ライボルトオプティクスが開発したイオンビームスパッター装置です。 搭載基板サイズは4x350mmもしくは最大600mm系の大型基板。可動式ターゲットタワー・RF220 イオン源・OMS5100を用いたダイレクトモニタリング方式にてプ...

メーカー・取り扱い企業： ビューラー株式会社

小型研究用　イオンビームスパッタリング装置

イオンソースを搭載した実験用装置　精密光学の超薄膜多層成膜に活用可能

OSIの「イオンビームスパッタリング装置」は、お客坂の使用ニーズに合わせてカスタマイズできるイオンソースを搭載した実験用装置です。Veeco社の SPECTOR 相等の能力を発揮します。 RFイオンソースをスパ...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

イオンビームスパッタリング装置

RFイオンソースを使用し、シングルステージまたはプラネタリーステージを…

いたします。 【装置特長】 ・プロセス動作圧10-2Pa台(10-4Torr台) 　高真空成膜可能 ・コンタミネーションが少ない ・無加熱成膜可能 ・高密度膜 ・反応性成膜可能 ・イオンビームアシスト追加可能 ・膜厚等の制御性良好...

メーカー・取り扱い企業： アールエムテック株式会社

イオンビームスパッタ装置『scia Coat 200/500』

最大5(220mm径)又は4(300mm径)ターゲット搭載！イオンビー…

『scia Coat 200/500』は、最大200mmウエハ基板又は 300mm×500mm基板対応の製品です。 プロセスは、イオンビームスパッタリング(IBS)、 イオンビームエッチング(IBE)、デュアルイオンビーム スパッタリング(DIBS)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談ください。 【特...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

されるLiDAR用途など、多層化と高再現性が求められる高機能光学フィルターの安定生産に力を発揮します。 ・シリンダー型カソードによる、ターゲット消耗による膜質変化の影響を廃した製膜 ・リアクティブイオンソース搭載による、酸化膜の安定成膜 ・最大４基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

表面処理装置　スパッタ用イオン銃　「40C1型」

表面処理装置　スパッタ用イオン銃

試料表面をクリーニングするためのコンパクトで簡便なイオン銃です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

リモートイオンソース型 HR-PVDスパッタリングモジュール

指向性成膜を実現し、リアクティブスパッタリングも可能な高イオン電流ヘリ…

AVP Technology社製 HR-PVDスパッタリングモジュール ・ヘリコンプラズマイオンソースを用いたリモートプラズマソースによりICPソースと比べ高いイオン化効率を実現しています。 ・傾斜角方向からの優れた直進性により、膜厚均一性およびステップカバレッジにおいても優れた結果を得てい...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置　リモートプラズマソースの開発…

PlasmaQuest社 ヘリコン型 高密度イオンソースの開発販売、及び 応用製品の開発販売で25年の歴史を持つ優良企業です。 グリッドレスで高密度なプラズマを発生させるヘリコンプラズマソースは、多くの装置メーカーにOEM供給を続けていおります。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

マグネトロンスパッタコーター　SC-701MC

イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 フルオートマチック…

軽量コンパクトながら高い再現性をもつデスクトップスパッタコーター 【特徴】 ○イオンダメージを軽減するマグネトロンカソード採用 ○マグネトロンカソードが、質の高い薄膜作製に貢献 ○排気 → コーティング → 大気開放までフルオート ○電極用のスパッタ薄膜が手軽にコーティング...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

SiC半導体製造用機能部品

2000℃以上のSiCプロセスに対応可能な単結晶成長およびCVD用部品…

Momentiveの『タンタルカーバイドコーティング』は、SiC単結晶成長炉、エピタキシャル装置の部品として多くの実績を有しており、『静電チャック』はSiやSiC半導体プロセスの高温イオン注入、スパッタリング工程で使用されています。 【特長】 ■タンタルカーバイド ・超高温（2000℃以上）での使用が可能 ・複雑な形状にも対応できる優れた被覆性 ■静電チャック ・1...

メーカー・取り扱い企業： モメンティブ・テクノロジーズ・ジャパン株式会社

水素フリーDLCコーティング装置（高密度スパッタＡＤＭＳ装置）

　独自技術で従来に無い水素フリーDLC膜を形成（水素含有量１％以下）優…

で導電性カーボン薄膜の形成にも対応。バイオ用途から新エネルギーまで幅広い分野で用途を開拓しています。 新開発アーク放電式マグネトロンカソードによる低電圧・低圧力プラズマは成膜だけでなく基板表面のイオン窒化やエッチングにも応用されており、成膜前処理、下地硬化からコーティングまで高品質一貫処理。 本装置（アーク放電式マグネトロンスパッタリング装置）の水素フリーDLC膜（ADMSーCN膜）は今まで...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

コンパクト！同時蒸着！高拡張性！『真空蒸着装置・HEXシリーズ』

ブロックを組み立てるように自由自在に構成を変更可能な多目的真空蒸着装置…

時成膜に対応 ◆サンプル回転、加熱、水冷に対応 ◆膜厚計を搭載可能 ◆設置面積60cm x 60cmのコンパクト設計 ◆優れた拡張性およびメンテナンス性 ◆グローブボックス対応（リチウムイオン電池など） 詳しくは＜PDFダウンロード＞よりカタログをご覧ください。 ご不明な点がございましたら、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

メンテナンス・リサーチ株式会社　会社案内

真空装置のサポート・真空プロセス製品を広くご紹介しております。

【取り扱い製品】 ○イオンビームエッチング ○イオンビームスパッタリング ○イオンスパッタリング ○インライン型スパッタリング装置 ○光学薄膜成膜装置 ○ガスクラスターイオンビーム装置 ○加速中性原子ビーム装置...

メーカー・取り扱い企業： メンテナンス･リサーチ株式会社

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

RAM CATHODEは、ターゲットを4面対向式にすることで、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、硬度なta-C領域を得るには、...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

【多目的真空蒸着装置】電子ビーム蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用1源および4源電子ビーム蒸着源

出される熱電子を材料に加速衝突させることで加熱します。大型の電子ビーム蒸着源に見られるような、電子ビーム偏向マグネットは使用しません。 TAUソースの各ポケットには、蒸気中に含まれるわずかなイオンを検出するための、"フラックスモニタリングプレート"が標準で搭載されています。ここで検出されるイオン電流値は、蒸着レートと比例関係にあり、サブモノレイヤーの膜を精密に成長できるほど高感度です。 ...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

膜形成 　　・保磁力、分散性の向上 　　・参加劣化防止 　　・帯電防止 　全個体電池（結晶、ガラス、ガラスセラミックス） 　　・硫黄と水分の反応性での有毒ガス発生の課題解決 　　・低いイオン伝導率の課題解決 　固体酸化物型燃料電池（SOFC) 　　・高密度イオン伝導体の薄膜化 　　・多孔質ステンレス採用による低コスト化 　　・YSZ界面での対抗低減 　　 ※詳しくはお気軽...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

全自動イオンコーター　SC-701AT

SEM用試料作製に適した全自動イオンコーター

QUICK AUTO COATER SC-701ATは、真空排気からコーティング(エッチング)、大気解放までを自動で行なう全自動タイプのコーターです。 【特徴】 ○膜厚制御連動方式により、個人差の少ないコーティングが可能(良再現性)。 ○コーティング/エッチングモード搭載 〇デバイスの電極膜付けにも使用可能 ...【仕様】 〇ターゲットサイズ：φ49mm 〇適用可能ターゲット：A...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

スパッタリングの基礎知識

【技術資料を無料進呈】緻密で硬質な成膜が可能！自動車のミラーなどの生産…

ッタリングでは真空中にアルゴンガスを導入し、ターゲット材料にマイナスの 電圧を印加することで、蛍光灯でも使われているグロー放電を発生させます。 するとプラスの電荷を帯びてプラズマ化したアルゴンイオンは超高速（秒速約3.2km） でターゲット材料の表面に衝突し、ターゲット材料の粒子（原子・分子）を激しく 弾き飛ばします。 弾き飛んだ粒子は勢いよく基材の表面に付着し、それが堆積すること...

メーカー・取り扱い企業： デクセリアルズ株式会社

導電性カーボン薄膜形成装置（アーク放電スパッタリング装置）

導電性カーボン薄膜をスパッタリングで形成。低温（４００℃以下）で不活性…

独自開発アーク放電型マグネトロンカソードを多元装備。 導電性カーボン薄膜だけでなく各種反応膜（窒化膜・酸窒化膜）を形成可能 アーク放電型マグネトロンカソードにより成膜前に基板のイオンエッチングや窒化にも対応。 多元カソードをにより基板に合わせて密着層＋導電性カーボン膜の積層成膜。 同時スパッタによる導電性カーボン膜への金属の添加など新材料開発に対応。 実績豊富な基本チャ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

半導体、FPD、データ記憶装置、産業用真空機器、工業用コーティング等の市場では、CVD、PVD、エッチング、イオン注入、スパッタリング、熱酸化膜、光学ガラスコーティング、光ファイバー、表面処理、その他のコーティングプロセスを含め、非腐食性ガスを使用したアプリケーションが展開されています。 FC-R7700シ...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

表面処理装置　走査型イオン銃　「40E1型」

表面処理装置　走査型イオン銃

２段の射出レンズにより、イオンビームのスポット径が容易に調整できる収束型イオン銃です。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノポート

独自技術のスパッタリング成膜でハイレベルなDLC成膜を実現！

DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率：…

RAM CATHODE（4面対向式カソード）により、イオン化率を劇的に向上させ HIPIMS電源を使用せず、DCパルス電源でDLC（ta-C）の形成が可能 【従来のスパッタリング法】 カーボンのイオン化率が低い為、ta-C領域を得るには、HIP...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社