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25件 - メーカー・取り扱い企業
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PR各種圧縮ガスから不純な水分を除去するドライヤー
各種ガスドライヤーは、圧縮ガスから水蒸気を連続的に分離するように設計されているため、圧力下露点温度を低下させます。 【効果一例】 二酸化炭素は不活性ガスであり、湿度のレベルによっては腐食性が高くなる可能性があります。 したがって、圧縮二酸化炭素ドライヤー(CO2ドライヤー)は通常、特定のプロジェクト要求を満たすためにカスタムメイドされます。 動作圧力、温度、要求される圧力下露点温度、湿度レベル...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社旭ケミカルス
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PR無色透明で無臭!純度99.8%、水分20ppm、蒸発残分100ppmの…
『R32』は、通常の温度、気圧下では安定した冷媒ガスです。 比重は0.960g/cm3(25℃)で、沸点は-51.7℃となっており、 通常の条件では有害な反応は起こりません。 また、不凝縮ガスは1.5%で、酸分はNDの製品です。 ご要望の際はお気軽にお問い合わせください。 【物理的及び化学的性質】 ■物理的状態:液化ガス ■色:無色透明 ■沸点:-51.7℃ ■引火点...
メーカー・取り扱い企業: アオホンケミカルジャパン株式会社
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Class 1のクリーンな環境で複数枚のウェハを加熱処理 最大450…
特許技術のラミナーフロー方式 YES PBシリーズのチャンバーは上部にガス発生プレナム、下部の吸引プレナムがついており、 加熱されたガス(通常N2)はウェハに対して平行に流れます。 平行層流(ラミナーフロー)は加熱プロセスによってウェハ表面に発生したパーティクルを...
メーカー・取り扱い企業: ハイソル株式会社
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必要な機能だけを気軽に使えるエントリーモデル(ユニテンプジャパン株式会…
UniTemp社の温度コントロールの高性能さはそのままに、 リフローに必要な機能だけを搭載した手軽にお使い頂けるモデルです。 コンパクトで設置も簡単です。 ■最大到達温度250℃ ■窒素ガスパージ可能 ■16ステップの温度プログラムが設定可能 ■対象物の熱容量を自動計算してコントロールするので、 設定通りに温度制御。繰返し精度も高く、オーバーシュートも殆どゼロ ■高い均熱性...
メーカー・取り扱い企業: 日精株式会社 本社
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高真空でも大気圧でも均一加熱、安定加熱 乾燥・脱ガス・ベーキング・ア…
800mm□×800mmH/バッチの大量処理が可能な多用途対応の真空オーブン。 高真空処理・真空置換後の不活性大気圧処理、低真空ガスフロー処理、複数の処理モードを1台で実現。 高真空中の均一加熱で脱ガス・ベーキング。 低真空・ガスフロー雰囲気で脱泡・脱脂・真空乾燥。 真空置換後の不活性雰囲気で部品・成形品 高速加熱アニール...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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用例;EVバッテリー開発(発生水素をオンライで計測)水素ジェット・ター…
水素ガス限定、膜交換不要、メンテ・校正不要、自動校正、インライン用、OEM向け、水素検知、水素濃度計測、水素ガス分析、水素ジェット燃料BTU計測、水素ガスタービン混合比オンライン計測、FCV排気管内水素計測...
メーカー・取り扱い企業: TRANS-PAC SALES CORP
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最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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急速昇降温が特徴の小型熱処理装置。有機基板の乾燥・脱ガス・ベーキングな…
実績豊富な真空半田付装置の基本構成を応用。半田付用の熱板加熱で高速熱処理。 高密度実装基板・プリント板の成膜前の脱ガス・乾燥。セラミックス材料の乾燥など多用途に最適。 太陽電池セルの低温べ―クや薄膜のアニールにも有効でインライン化にも対応。...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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光ファイバの線引炉やガラス化炉で30年の実績がある加熱炉・加熱システム…
ボンヒータ/カーボン系成形断熱材 (3)炉体構造:水冷ジャケット (4)炉体材質:ステンレス (5)温度制御:放射温度計(制御範囲1,700℃ー2,500℃) (6)加熱雰囲気:減圧・不活性ガス (7)真空排気:10^(-2)台以下(超高真空は対象外) (8)ガス供給系・真空排気系・冷却水系:要求機能・炉体設計による。 (9)運転モード:待機、昇温、運転、真空引など。要求による。 ...
メーカー・取り扱い企業: プロセスD&Tラボ 千葉
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真空アニール装置
液晶ディスプレイの注入後の気泡や色ムラ等の不良を解消するための装置です。 注入前に加熱して真空引きすることにより、セル内部の水分や有機ガスを除去できるので、パネルの品質も向上させることが出来ます。内部ヒーターやファンの改良により、クリーン度の高い槽内環境を実現しました。 当社独自の技術により、真空加熱中の温度分布がよく、プロセス時間...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社協真エンジニアリング 本社
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真空蒸着装置『MiniLab-090』(グローブボックス用)
グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…
最大限活用できるスライド開閉式チャンバー、メンテナンス性を考慮した背面開閉ドアを採用。プロセス処理後の試料を大気・水分に露出せずグローブボックス内の管理された環境内で一貫した処理ができます。GB, ガス精製機はGBモデルの仕様を参照下さい。 ◉ 抵抗加熱蒸着源 x 最大4 ◉ 有機蒸着源 x 最大4 ◉ マグネトロンスパッタリングカソード x 4 ◉ 電子ビーム蒸着 ◉ ドライエッチング...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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ボイドレス半田付のスタンダード装置。車載用パワーデバイスモジュールを支…
急速昇降温機構と厳密な雰囲気制御機構を装備、半導体ウェハプロセスで実績のガス供給機構で安定した蟻酸野供給と管理を実現。 半田付室の前後に基板搬送機構を追加。ハイスループットと高いレベルのボイドレス半田付を両立。 基板・ライン構成・生産量に合わせて最適なハードを提供...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…
x 100mm(Φ4inch) ◉ PID温度コントロール:Eurotherm 2416プログラム温度調節計 ◉ 流量制御:±1%F.S. 0sccm 〜 100, or 1000sccm(ガス種による) ◉ ロータリーポンプ付属...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】
スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…
蒸着:抵抗加熱蒸着(最大2)、有機材料蒸着(最大4) ◉ 7"タッチパネル簡単操作 PLC自動プロセスコントロール ◉ APC自動圧力コントロール ◉ MFC搭載高精度プロセス制御 ◉ Arガス1系統(標準) + N2, O2 最大3系統まで増設 ◉ USB端子付 Windows PCに接続し、最大1000layer, 50filmのレシピを作成・保存。PCでデータロギング ◉ 他、多...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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化合物半導体の電極膜の合金化・低抵抗化に多用されている石英管タイプのア…
途に対応した縦型タイプ(ウェハ自動搬送機構付)と4インチ以下のウェハに対応した横型タイプの2機種をラインナップ。 目的に合わせて開閉型の加熱炉体や急冷用空冷ファンの装備が可能で、高真空排気系・O2ガス系・APC機構など多くのオプション類を揃えています。 真空及び不活性雰囲気中の処理を標準としており、オプションで還元雰囲気中での処理にも対応いたします。 高真空排気後の大気圧水素雰囲気処理により...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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豊富な実績を誇るベストセラータイプ、高温半田付やペースト焼成・金属粒子…
ベルト幅200mmの小型機から600mmの本格量産タイプまで対応。 加熱温度も常用350℃(最高450℃)の半田付タイプから最高900℃の多用途対応タイプまでラインナップ 雰囲気ガスもN2にも対応。 炉内クラス100以下のクリーンタイプもオプション対応 社内にデモ機も常設、初期テストからプロセスをサポート。 ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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コンパクト・省スペース・省エネルギー! 高性能 R&D用超高温実験炉
験室での超高温加熱実験、新素材開発などのさまざまな焼成実験を行うことができます。 ◆主な特徴◆ ・省スペース ・ロータリーポンプ、コンプレッサー付属 ・インターロック:断水警報、過昇温、ガス圧力低下 ◆基本仕様◆ ・電源仕様:AC200V 75A NFB 50/60HZ(C-500) ・Max2900℃(カーボン炉)、2400℃(メタル炉)、 ・プログラム温度調節計、C熱電対 ...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ■使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ■試料台サイズφ4inch〜φ8inch...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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生産の効率化、サイクルタイムの短縮が図れます。
水温:20~25℃ (但し運転中結露無き事) 流量:約0.66m3/hr (11L/min) ○所要空圧 供給圧:0.5~0.7MPa 設定圧:0.5MPa ○所要ガス (N2ガスリーク用) 供給圧:0.2MPa以上 設定圧:0.05~0.1MPa [性能] ○到達圧力 6.7×10-4Pa以下 (2槽排気) ○排気時間 ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社昭和真空
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基板加熱温度最高1000℃!基板表面加熱プロセス特有の元素抜けを軽減!
置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応 することができる製品です。 加熱源はハロゲンランプ、昇温レートは最大150℃/secとなっており、 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体、MEMS、電子部品といった用途に使用できる装置で、基板表面の 高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能です。 【特長】 ■加熱プロセス特有の元素...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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アニール炉『Mini-BENCH-prism 超高温実験炉』
最高使用温度2000℃ セミオート制御 超高温実験炉(カーボン炉、…
◉最高使用温度 Max2000℃ ◉PLCセミオートコントロール 卓上型Mini-BENCHのセミオート制御式上位機種 「真空引き」「ガス置換」「ベント」の各工程を自動制御(ガス流量→ニードルバルブにて手動調整) ◉作業中の安全を確保 冷却水異常・チャンバー温度異常・過圧異常を監視SUS製 堅牢な水冷チャンバー、最高温度で連続使用...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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Max1000℃、MFC最大3系統、APC圧力制御、4"、又は6"基板…
ステージにより最高1000℃までの高温処理が可能です。チャンバー内にはヒートシールドが設置されインターロックにて安全を確保。マスフローコントローラは最大3系統まで増設が可能、精密に調整されたプロセスガス圧力での焼成作業が可能です(APC自動プロセス制御システムオプション)。 又、フロントビューポート、ドライスクロールポンプ、特殊基板ホルダー、熱電対増設、などオプションも豊富。 チャンバー内加熱...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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排熱回収型、低ランニングコスト、塗装用熱風乾燥機
●独自開発の熱交換システムによりガス燃費をコストダウン。炉内温度分布が良くより多くの塗装物を均一に仕上げます。また、豊富な酸素で塗料の機能を最大限引き出します。 ●クリーンルーム内設置可能...
メーカー・取り扱い企業: タクボエンジニアリング株式会社 東金テクニカルセンター
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アニール炉『MiniLab-WCF 超高温ウエハーアニール炉』
SiC3, TiC3コーティングヒーター採用:様々なプロセス環境に対応…
純度グラファイト:Φ6〜Φ8inch ・SiC3(炭化珪素)コーティング:Φ4〜Φ8inch ・TiC3(チタン・カーバイド)コーティング:Φ4〜Φ8inch ◉使用雰囲気: ・真空・不活性ガス(グラファイト) ・還元雰囲気(TiC3コーティング) ◉試料台サイズφ4inch〜φ8inch...
メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社
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トレイ搬送にも対応可能!優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現
『RTA装置』は、減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応できる 製品です。 基板表面の高速熱酸化、結晶化、アニーリング処理等が可能。 優れた基板温度分布およびガスフロー方式を実現します。 半導体をはじめ、MEMSや電子部品にご利用いただけます。 【特長】 ■減圧プロセスから加圧プロセス(0.9MPaG)まで対応可能 ■基板表面の高速熱酸化、結...
メーカー・取り扱い企業: ジャパンクリエイト株式会社
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