リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

難めっき素材へのめっき

画期的！めっきが不可能、困難と言われる素材にめっきをするための技術開発

【特長（ガラスへのめっき）】 ■当社のめっき技術 ・めっきの密着性：15N/mm2以上 ・マスクレスでのパターン形成が可能（フォトリソグラフィー不要） ・湿式法を中心としたプロセス（スパッタ等のドライプロセス不要） ■独立パターンへの厚付けも可能 ■表面と裏面の色調が異なる処理条件により、裏面の色味を変化させることも可能 （Cu-Ni-Au めっき） ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業： オーエム産業株式会社 本社