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81件 - メーカー・取り扱い企業
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284件 - カタログ
1807件
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PR独自設計のスクリューロータによりハードプロセスをこなす、万能ドライポン…
◆独自設計のスクリューロータにより、従来ドライポンプでは不向きとされていた凝固性ガス・粉体・生成物・液体などの吸引を含むハードプロセスにおいても安定した運転を実現します。 ●ZEROEDGEスクリュー 排出効率に優れ、堅牢性を重視した構造設計により、ハードプロセスにおいても安定した運転を可能にします。 ●メンテナンス性の追求【省コスト】 設置場所にて、容易に洗浄作業や分解作業ができ...
メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店
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今さら聞けない「Oリング」「パッキン」「ガスケット」の違いとは?
PR「シールにはどんな種類があるの?」「用途に合わせたシールの選び方がわか…
「Oリング」「パッキン」「ガスケット」などの機会要素は、まとめて「シール」というカテゴリに属しております。 「シール」は、内部に異物が入らないようにしたり、外部へ流体が漏れないようにするための部品や装置の総称のことを言います。 シール材は消耗品ではありますが、工場や日常生活において重要な役割を担っています。 誠和商会で取り扱うGMORS社のO-リング(EPDM材、シリコン材、NBR材)は、食品...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社誠和商会
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クロスライトの3次元マスク編集ツールMaskEditor
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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APSYSとFDTDを利用した感光デバイスのシミュレーション解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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デバイスシミュレーションにおける多体効果、エキシトン効果および不均一広…
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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InP基板上に多重量子井戸をもつマッハツェンダー型光変調器の物理モデル…
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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半極性のInGaN半導体レーザの解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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クロスライトのAPSYSによるFDTD計算
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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量子モデルおよび非局在輸送モデルによる解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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薄膜トランジスタの3次元解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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MOSFETの基板電流解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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CMOSイメージセンサー3D解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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多モード光干渉導波路半導体レーザの3次元解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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回路とデバイス混在のシミュレーション
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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2つの異なる表面構造を持つLEDのFDTD法解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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蛍光体をコーティングしたLEDの光線追跡シミュレーション解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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低電界移動度モデルの解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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半導体デバイス設計とクロスライトソフトウェアのTCADを利用例
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…
b, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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真空技術、プラズマ技術、薄膜技術、微細加工技術を用いる技術者のためのシ…
【対象となる産業と分野】 ■IT:光ファイバー、光導波路デバイス ■宇宙開発:スペースチャンバ、太陽電池 ■エネルギー:燃料電池、太陽光発電 ■半導体:低・高誘電率材料、シリコン、化合物半導体 ■電子:LCD・PDP・有機EL、ディスプレイ、光ディスク 他 ■食品/飲料:耐腐食、低酸素透過膜パッケージ ■金属:表面改質、DLC、硬化、金属加工 ■窯業:ファインセラ...
メーカー・取り扱い企業: ペガサスソフトウェア株式会社
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LEDの多重量子障壁の有無比較のためのツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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GPUによるFDTD計算の処理速度の向上
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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実用的な3次元シミュレーションへのアプローチの方法
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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Intel(R) eDRAM の詳細にわたる構造解析レポートです
ICの中での最高のパフォーマンスを持つバージョンはGT3eです。 【特徴】 ■GT3e:メタル9層、22nm TriGate トランジスタテクノロジで埋込型DRAMも構成されている ■シリコンソース・ドレインがNMOSトランジスタに使われ、SiGe が PMOS トランジスタに使われている 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: テックインサイツジャパン株式会社(TechInsights)
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レポート ValleyView Atom Z3740 Soc
Intel Atom 23740 プロセッサーの詳細な構造解析レポート…
【特徴】 ■23740は9層メタル、デュアル・ゲートダイエレクトリック、22nm Socプロセスで製造されている ■デバイス:最小90nmピッチのHKMG FinFETトランジスタ ■シリコン拡散層部分:NMOSトランジスタに使われ、SiGeがPMOSトランジスタに使われる 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...
メーカー・取り扱い企業: テックインサイツジャパン株式会社(TechInsights)
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フラッシュメモリーの 詳細なメモリー構造解析レポート
m ノード MLC NAND フラッシュメモリー) の詳細構造解析です。 本デバイスは 3 層メタル構造プロセス (第 1、2 金属層: W、第 3 金属層:Al)、ポリサイド製制御ゲート、ポリシリコン製の浮遊ゲートを使用して製造されています。メモリーアレイは、32nm のビット線ピッチおよび 38nm のワード線ピッチを特徴としています。 エアギャップが採用されており、隣接セル間のクロストー...
メーカー・取り扱い企業: テックインサイツジャパン株式会社(TechInsights)
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多層構造のプリント基板の電磁界解析にもっとも実績のあるプログラム
多層構造のプリント基板の電磁界解析を行います。 絶縁体はガラエポ、テフロンはもちろん、磁性体や、シリコンなど導体は導電率だけでなく超高周波でのパラメータや高温超伝導のキネティックインダクタンスも含みます。 周波数は10MHz程度から100GHz程度まで利用できます。...
メーカー・取り扱い企業: 有限会社ソネット技研
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高出力ディスク&ファイバーレーザー測定!非接触ビームプロファイラーのご…
【仕様】 ■ビームサイズ:55µm - ~2.75mm ■インターフェース:GigEイーサネット ■センサタイプ:シリコンCCDカメラ ■パワーレンジ:~400W to >100kW ■推奨波長:980-1080nm ■入射/出射 最大ビーム径:12.5mm ■コンプライアンス:CE, UKCA, China...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社オフィールジャパン
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「コンペチタの新製品情報、技術力情報が欲しい」等のご要求はございません…
しい" こんなご要望が出た時、 半導体製品解析を御社の設計・開発エンジニアが担当していませんか? ぜひ当社へお任せください。優れた解析技術でお答えします。 【半導体製品】 ■シリコン半導体、化合物半導体 ■パワーデバイス、高周波デバイス、集積回路(~14nm)、 センシングデバイス、MEMS ■各種モジュール (高周波モジュール、パワーモジュール、センサーモジュ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社エルテック
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【動画】半導体デバイス用2D/3D解析・設計ソフトAPSYS
多種多様な材料や物理モデルを用意、様々な解析が可能な半導体デバイスシミ…
b, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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【動画】半導体レーザ用3Dデバイスシミュレーター PICS3D
モード、光学利得、光強度、スペクトル、キャリア分布、バンド、波動関数な…
b, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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薄膜太陽電池のデバイス解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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量子井戸(QW)と量子ドット(QD)構造の太陽電池のデバイス解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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フォトニック結晶LEDのデバイスモデリングと解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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【動画】半導体プロセス&デバイスシミュレータ「NovaTCAD」
2D/3Dのプロセスシミュレータとデバイスシミュレータを統合したクロス…
b, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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SiC MESFETの3次元デバイス解析ツール
<主な特徴> ■半導体デバイス用の汎用2D/3D有限要素解析・設計ソフトウェア ■半導体レーザを除くほとんど全てのデバイス設計・解析に適用可能 ■シリコン、化合物から成るデバイスの設計に用いることが可能 <多様な物理モデルや機能> ■電流-電圧(I-V)特性 ■ポテンシャル、電場、電流の2次元分布 ■流体力学モデルにおけるホット・キャリ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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【動画】PICS3D(Fabry-Perot Edition)
2次元に特化した半導体レーザ向けデバイスシミュレーションプログラム(旧…
b, InAs, InAlAs, InP, InGaAlAs, etc.) ■窒化物 (GaN, InGaN, AlGaN, c-GaN(六方晶), c-AlN(六方晶), etc.) ■シリコン (poly, SiGe, h-SiC(六方晶), a-Si(アモルファス), SiO2, etc.) ■金属 (metal(汎用), ITO, Cu, Ag, Fe, Zn, Cd, ...
メーカー・取り扱い企業: クロスライトソフトウェアインク日本支社
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20 nm HKMG Qualcomm Gobiの詳細構造解析です。
MDM9235 は、10 層のメタライゼーション(9-Cu、1-Al) を使用して TSMC により製造され、20 nm ノード、high-k メタルゲート (HKMG) トランジスターがバルクシリコン基板上にゲート長プロセスで製造されています。 90 nm の最小コンタクテッドゲートピッチが特長です。 【特徴】 ○重要なデザインとマニュファクチャリング革新の理解 ○適切な情報に基づ...
メーカー・取り扱い企業: テックインサイツジャパン株式会社(TechInsights)
PR
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特許取得Pef Prism疑似立体印刷
Ref Prism
智昌加工株式会社 -
脱墨・脱積層 - プラスチック・リサイクルの革新技術 -
KEYCYCLE DEINKING
双日マシナリー 株式会社 環境・生活産業システム本部 -
円筒内加工ブラシ(研削・バリ取り・仕上げ)「フレックスホーン」
円筒内の加工にお困りの方必見!ドリル・自動機どちらにも簡単取付…
株式会社ユーコー・コーポレーション 本社 -
高耐熱シリコン両面粘着シート『TACSIL F20』
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イーグローバレッジ株式会社 MI本部 -
【基礎知識】防爆仕様の撹拌脱泡機
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【展示会出展】SONY製センサ採用 InGaAsカメラシリーズ
400~1700nmの近赤外線領域に高い感度を有するInGaA…
株式会社アートレイ -
〈5/24接着粘着技術展2024出展〉ホットメルトロールコーター
ファストラボ室にて最大塗布幅1000mm対応のテスト機で試作可…
株式会社ファスト -
最小0.1mm!北京ワールドダイヤ 微細加工PCDマイクロドリル
直径0.1mm~2mmで半導体検査治具、拡散板、シャワーヘッド…
株式会社京二 本社、名阪営業所、南関東営業所、千葉営業所、北関東営業所、東北営業所、京二上海 -
Enovasense Field Sensor
高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレ…
プレシテック・ジャパン株式会社 -
VPI成形工程~B型セットから脱型~
材料ロス、工数、廃棄物などを大幅に削減!新しい成形法のご紹介
株式会社GRPジャパン