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    シース外径Φ1.8mmのシーズヒーター『細径シーズヒーター』

    PRシース外径φ1.8mmにより自由で複雑な曲げ、巻き加工が容易に。様々な…

    一般的にΦ1.8mmなどのシース外径の細いヒーターは”マイクロヒーター”と 呼ばれます。”マイクロヒーター”は直線状の発熱線が使われているのが特徴 です。 弊社の『細径シーズヒーター』は、マイクロヒーターとほぼ同じシース外径 でありながら、コイル状に巻かれた発熱線を使用しています。そのため、 発熱線の仕様によってさまざまな抵抗値を選べるので、ご希望に合わせた ヒーター長、容量の細径...

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    メーカー・取り扱い企業: 新熱工業株式会社 本社

  • 開発支援・試作・受託生産 製品画像

    開発支援・試作・受託生産

    PRクリーン環境と高精度装置で機能性フィルムを製造、お客様仕様のカスタムフ…

    お客様仕様のフィルム開発・受託生産を支援する『カスタムメイドシステム』 企画・開発・量産まで対応します。当社のフィルム加工技術をご利用ください。 試作スケールに合わせた装置でフィルム製造を行います。 ・ミニスケール200mm幅の小型テスト押出機での検討・少量試作 ・ミディアム~フルスケール(600mm~1300mm幅)の量産機...○ 押出実績樹脂  PC、COP、COC、PET、PBT...

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    メーカー・取り扱い企業: 五洋紙工株式会社

  • 2相バイポーラマイクロステップドライバ 「PMB212C」 製品画像

    2相バイポーラマイクロステップドライバ 「PMB212C」

    2相バイポーラマイクロステップドライバ 「PMB212C」

    バイポーラ方式の2相モータドライバ「PMB212C」はマイクロステップの理屈通りの滑らかな回転で、 お客様より「予想以上の使い安さ!」とお褒めの言葉を頂き好評です。 【特長】 ●バイポーラ1.2A/相RMS出力 ●1/1〜最高1/50まで21種類...

    メーカー・取り扱い企業: ピー・ピー・エス有限会社

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    マスクレスアライナー『uMLA』(マイクロ・エム・エル・エー)

    テーブルトップサイズのオートフォーカス付きマスクレスアライナー

    ブルトップシステムのマスクレスアライナー µMLAは、最先端のマスクレステクノロジーを特徴としており、微細構造を必要とする全ての研究開発領域に適したエントリーレベルの描画装置です。典型的な用途は、マイクロフルイディクス、マイクロオプティクス、センサー、MEMS、および材料科学です。 µMLA(マイクロ・エム・エル・エー)はこれまでの卓上型直描装置よりも経済的でカスタマイズ可能な柔軟性に優れた最新式...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

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    レーザー直接描画装置『DWL 66+』

    研究開発向け高性能レーザーリソグラフィ装置

    『DWL 66+』は、研究開発用途および小ロット生産やマスク作成やマスクレス露光に適した、高解像度のレーザー直接描画装置です。 マイクロストラクチャの製作と分析に必要な機能を、標準システムとして 装備。 処理能力が高く、また、対応範囲も広いため、MEMSやマイクロ光学など マイクロストラクチャ製作が必要なアプリケーション...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • マイクロデバイス製造関連装置 製品画像

    マイクロデバイス製造関連装置

    全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップ

    半導体をはじめとする各種デバイス、センサーなどの露光工程に用いられる、研究開発から中小ロット製造用に最適な片面マスクアライナー、カセットtoカセット搬送システムを搭載し、全自動全面一括露光が可能なオートアライナー装置をラインアップしました。...半導体をはじめとする各種デバイス、センサーなどの露光工程に用いられる、研究開発から中小ロット製造用に最適な片面マスクアライナー、カセットtoカセット搬送シ...

    メーカー・取り扱い企業: ウシオライティング株式会社

  • SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4 製品画像

    SUSS MicroTec 手動マスクアライナMJB4

    最大4インチ角基板対応 手動露光機

    ズースマイクロテックMJB4は最大4インチ角基板まで対応可能な手動式マスクアライナ(露光装置)です。 シンプルな操作性、高精度アライメント、高い露光解像性が特徴です。 研究開発用途以外に少量生産用途でもご使...

    メーカー・取り扱い企業: 兼松PWS株式会社

  • レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ 製品画像

    レーザー描画装置『DWL 2000 GS』シリーズ

    高速高解像度レーザー露光装置

    『DWL 2000 GS』は、グレイスケールリソグラフィーに適した、柔軟性のある高速高解像度レーザー描画装置です。グレイスケールリソグラフィーは伝統的なバイナリリソグラフィーと異なり、マイクロレンズやブレーズド回折格子のようなスロープパターンをレジスト上に再現する技術です。 『DWL 2000 GS』シリーズは最大描画エリアが200x200mm²もしくは400x400mm²あり、...

    メーカー・取り扱い企業: ハイデルベルグ・インストルメンツ株式会社

  • 5相マイクロステップモータドライバ 「5D03M」 製品画像

    5相マイクロステップモータドライバ 「5D03M」

    5相マイクロステップモータドライバ 「5D03M」

    【特長】 ●最大出力電流0.75A/相 ●最高1/100まで25種類の高分割マイクロステップにより滑らか回転 ●DC15〜36Vの広い電源電圧範囲 ●5本リードモータに対応...

    メーカー・取り扱い企業: ピー・ピー・エス有限会社

  • 2相マイクロステップモータドライバ「2D14M」 製品画像

    2相マイクロステップモータドライバ「2D14M」

    2相マイクロステップモータドライバ「2D14M」

    【特長】 ●超小型・軽量・低価格 ●最高1/60まで22種類の高分割マイクロステップにより非常に滑らかに回転 ●シンプルな回路構成による高信頼性 ●取り付け方向が自由...

    メーカー・取り扱い企業: ピー・ピー・エス有限会社

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