リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

コリオリ式マスフローコントローラ/メータ　Quantimシリーズ

PRコリオリ式微小流量の測定と制御の業界標準！幅広い流量レンジで液体・ガス…

『Quantimシリーズ』は、微小流量のガス/流体測定や制御において、高い 精度とゼロ安定性を実現するコリオリ式マスフローコントローラ/メータです。 特許取得済みのコリオリ式センサは、流体のタイプやプロセス変動に関係なく、 低流量の測定が可能。 その結果、条件が変化する場合でも、精度、安定性、繰り返し性、再現性の 高いマスフロー測定と制御を実現し、卓越したパフォーマンスを提供しま...

メーカー・取り扱い企業： ITWジャパン株式会社

マイコン制御式 プリント基板用エッチングマシーン　ES-800M

マイコン制御により、短時間で高品質のエッチングを実現

両面をスピード処理できる、シャワー式小形半自動式のエッチングマシーン...主な仕様 処理工程：投入→エッチング→絞り→水洗槽 処理最大幅：330mm 処理最小長さ：100mm 搬送部ローラーピッチ：45mm チャンバー長：400mm（スプレー有効長300mm） エッチング液最大液量：40リットル エッチング液：塩化第二鉄　40ボーメ（サンハヤト製　H-20L指定） エッチング液フィ...

メーカー・取り扱い企業： サンハヤト株式会社

Druck 半導体製造装置向け圧力計測ソリューション

半導体製造装置やサブシステムの圧力校正試験にPACEシリーズを導入しま…

【SEMICON JAPAN2022 Hall2 総合ゾーン＃2134に出展決定】 流体制御に欠かせないPACE圧力コントローラの校正デモが体験できます！高速圧力制御を実感しませんか？ 【生産ラインの圧力校正試験に圧力コントローラ PACE】 ■高精度、長期安定性、高速反応性と３拍...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

Druck 半導体アプリケーション用圧力センサ

半導体製造装置の流量制御に必要な高精度の圧力センサ各種。モジュールのカ…

【SEMICON JAPAN2021に出展いたしました】 多くのお客様にブースにお寄りいただきありがとうございました。 【半導体製造装置の流体制御に】 半導体製造工程においてはプロセスガスの高精度な流量制御が不可欠です。厳しい条件下で高いパフォーマンスを発揮する各種圧力センサ、カスタマイズできるモジュール機能などをご提供しております。 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理 ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ICP エッチング装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

8"工程用Pishowシリーズ： ・Pishow： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・Pishow A： HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能； pGaNの高エッチング選択比を実現、A...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

中大物向け1200×1100×650ｍｍ5軸制御型立型MCを保有

最大加工サイズφ1000×500、工程集約による短納期対応、複数面アプ…

設備紹介 　・D800Z【5軸制御型立型MC】　1台 　　　移動量：1200×1100×650ｍｍ　メーカー：牧野フライス 　...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社三栄精機工業

イオンビームトリミング装置『scia Trim 200』

メカニカルクランプ又は静電チャック対応！サブナノメーターエッチング機構

『scia Trim 200』は、高精度・高スループットによる 膜厚エッチング制御のイオンビームトリミング装置です。 最大200mmウエハ基板対応しており、歩留改善。 また、プロセスはイオンビームトリミング(IBT)となっております。 ご用命の際は、お気軽にご相談く...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ハイテック・システムズ

スパッタリング装置『MiniLab（ミニラボ）シリーズ』

モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

ドライエッチング装置

RIEモードとDPモードの切り替えが可能！特殊表面処理によるメタルコン…

【仕様（抜粋）】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 　・低真空プロセス：MBP+DP 　・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ■制御操作 　・制御：PLC 　・操作：タッチパネルまたはPC ■データロギング：外部メモリまたはPC ■基板搬送：大気または...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

Aera FC-DR980　デジタルマスフローコントローラ

優れた汎用性を備え、多くのシステムに対応する先進のデジタルMFC/MF…

既存の主な制御方式および通信方式に合わせて使用するため、様々な出力形態に応じてアナログまたはデジタル制御を行います。本製品には、お客様のご要望に応じて、シングルガスモデル、マルチガス・マルチレンジモデルをご用意し...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

ソフトエッチング装置【nanoETCH】＜30W低出力

＜30W（制御精度10mW）低出力RFエッチングによる、精細でダメー…

【nanoETCH（ナノエッチ）】Model. ETCH5A ＜30W（制御精度10mA）低出力RFエッチングによる、精細でダメージレスなエッチング処理を実現。 2010年グラフェン発見でノーベル賞受賞者率いる マンチェスター大学グラフェン研究グループとの共同開発製品。...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

GaAsエッチング装置

自動で薬液を調合してエッチング槽に必要量投入！シーケンサ制御方式を採用…

エッチング槽に必要量投入します。 【主な仕様】 ■被加熱物：GaAs（ガリウムと砒素）ブロック ■カセット：PTFE専用カセット ■搬送機：自動ロボット搬送（サーボモーター駆動） ■制御方式：シーケンサ制御 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ダン科学

ICPプラズマエッチング装置『SERIO』

平滑なエッチング面と高い加工精度を実現！サンプルテスト対応いたします！

を搭載し、平滑なエッチング面と高い 加工精度を実現。スキャロップの無い平滑なエッチングが可能で、 ナノインプリントモールドの作成に適しています。 平滑なエッチング側面、加工面の垂直性、開口部の角度制御などナノイン プリントモールドに必要な多くのプロセス性能を備えています。 【特長】 ■スキャロップの無い平滑なエッチング側面 ■高いSi深掘り時の垂直性（90°±2°） ■エッチングテーパー角の制...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

セトラ社　ウルトラクリーン圧力センサ　モデル２２４シリーズ

特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサ

セトラ社のモデル２２４は特殊ガスのモニターと制御用に開発されたウルトラクリーンセンサです。 　モデル２２４はパージ効果の高い流線型のセンサチャンバを持ち、ガスの流れによる瞬時の温度変化の条件下でも優れた安定性を実現するように設計されています。...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

【エッチング銘板の事例】工業用パネル L型

シカル加工にも対応！制御パネルをステンレスにエッチング加工した事例をご…

工業用機器に使用される制御パネルをステンレスにエッチング加工した事例を ご紹介いたします。 加工を施した後、プレスブレーキにて曲げ加工します。 またシカル加工にも対応します。 ご用命の際は、お気軽にお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社重森産業社

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

この画期的な技術プラットフォームは、従来の技術と比べて、応答性、ガス流量安定性、計測精度を向上させるとともに、リアルタイムプロセス制御において優れた性能を発揮します。その優れた流量安定性により、チャンバ間のプロセス再現性が向上し、生産歩留まりを改善します。 PI-980シリーズは、従来型のサーマル式の構造に、圧力センサ、温度セン...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

マイクロ波イオン源　EMIS-221C

）の使用により、イオン加速が可能 　（ラジカル源、プラズマ源としての使用も可能） ○マイクロ波は同軸ケーブルにて供給されるため 　面倒な導波管接続が不要 ○シーケンサやパソコンによる外部制御が可能 ●その他機能や詳細については、カタログダウンロード下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： アリオス株式会社

Aera Transformer　デジタルマスフローコントローラ

コスト削減に寄与する汎用性に優れたMFC

することによって、歩留まりの改善、生産性の向上、ならびにコストの削減に寄与貢献します。 新センサー・バルブ技術、フィールドで実績のある基幹部品、ならびに高速デジタル回路を搭載して、精密なガスフロー制御を実現します。優れた信頼性と卓越した応答性、正確性、再現性を誇り、汎用性に富んだ、お客様が重点を置く価値や機能に合ったシングルガス対応ならびにマルチガス・マルチレンジ対応MFCを取り揃えています。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

【エッチング装置/アッシング装置部品の保護膜に】Y5O4 F7膜

Y5O4 F7膜は表面フッ素量変化が小さいのでエッチング装置のエージン…

イオンアシスト蒸着法によるY5O4 F7膜は、Y2O3とYF3を2元同時蒸着で成膜速度を独立に制御して成膜されています。したがって、組成を自由に制御できますので結晶構造も選択が可能です。フッ素量を変化させ、最適なY5O4 F7膜を形成させています。...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー

連続式熱処理炉

均一な温度での電子部品の連続熱処理に！多品種・小ロットにも対応した熱処…

【仕様】 ■常用温度：100～200℃（300℃MAX） ■昇温時間：15min（RT～300℃） ■温度分布：±2℃（温度安定時） ■熱電対：Kタイプ ■温度制御：温度調節計（PID制御） ■加熱方式：熱風循環方式、パイプヒーター ■搬送速度：30～50mm/min ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 大村技研株式会社

アッシング装置

エッチング、アッシング及びイオンクリーニングを可能とする汎用性に優れた…

【仕様】 ■基板サイズ：最大φ12インチ ■プラズマソース：CCP型 ■真空排気 ・低真空プロセス：MBP+DP ・高真空プロセス：TMP+DP ■圧力制御：APC制御 ■プロセスガス：F系、Cl2、Ar、O2、他 ※PDF資料も合わせてご覧ください。 ※お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

プリント基板製造装置　現像・エッチング・剥離ライン

ファイン用ノズル配列とオシレーションシステムにより均一な面精度が出せる

ングは独立圧調でさらに高精度です。板厚50μmのワークが安定して流せます。有効幅は600mm 、搬送速度は1.0～7.0m/min（常用3.5m/min）、現像・エッチング・剥離ポンプはインバーター制御です。 詳しくはお問い合わせ、もしくはカタログをご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社二宮システム

小型マルチスピンプロセッサー　エッチング・洗浄・現像

スキャン時には周速制御による均一性向上も可能！従来より多数の御使用を戴…

チング、リンス、乾燥と一連のパターニング処理を 従来型のSpinにて行う装置のご紹介です。 基板品種により現像､エッチングの処理時スプレー又はパドルの レシピ選択ができ、スキャン時には周速制御による均一性向上も可能。 本機は低コストで、従来より多数の御使用を戴き実績も豊富ですが、 循環再利用のプロセスには2チャンバーでの対応が必要となります。 廃液・排水、排気のきちんとした...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ソフエンジニアリング

インライン　ECV型フッ素樹脂製薬液ヒーター

ECV型フッ素樹脂製薬液ヒーター

●接液部がＰＦＡでできており、全ての薬品に使用できます。 　アルカリ、溶剤ＯＫ。 ●ヒーター表面温度を低く設計しており、温度劣化の激しい薬液に最適。 ●設置場所を選ばないコンパクト設計。 ●制御電源は安価なＳＳＲ駆動でＯＫ。高価な位相制御は不要。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社セラ

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

化合物半導体プロセス用　ICPエッチング装置

）電極の 　採用により、大面積に対して高い選択比と高精度で均一性に優れた 　エッチングが可能 ○低バイアス（-100V以下）での低ダメージプロセスが可能 ○基板ステージおよび反応室内壁の温度制御により、安定した条件での 　エッチングが可能 ○ロードロック室にもターボ分子ポンプを採用し、より安定したプロセスを提供...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

スパッタリング装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

ムシェル式 ◉ 19inchシングル式ラックに全てを収納 ◉ 抵抗加熱蒸着源（最大4源）、有機蒸着源（最大4源）、又はΦ2"マグネトロン（最大3基）、基板加熱ステージなどを搭載 ◉ 高精度膜厚制御 ◉ ターボ分子ポンプ+ロータリーポンプ（ドライポンプオプション） ◉ グローブボックス連結仕様（*要仕様協議） ◉ 豊富なオプション：基板加熱/冷却, 回転, 特型基板ホルダ, etc.. ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Druck 半導体製品の圧力校正試験の自動化に

半導体製造装置やMEMS圧力センサの計測試験/ライン検査に圧力コントロ…

ませんか？試験を自動化することで生産コストが各段に削減できます。生産ラインの拡張の機会にぜひご相談ください。 ■複数チャンネルの圧力計測・校正に：圧力コントローラ PACE シリーズ ■圧力制御スピード：他社製品の最大5.5倍 ■ポータブルに使うなら：圧力計のDPI800、DPI705Eシリーズ ※イプロスにご登録されている個人情報は、弊社正規代理店にも共有させていただき、ご連...

メーカー・取り扱い企業： 日本ベーカーヒューズ株式会社＆ベーカーヒューズ・エナジージャパン株式会社　 （旧）GEセンシング＆インスペクション・テクノロジーズ株式会社　＆　GEエナジー・ジャパン株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対応…

す。 【ドライエッチング機種（一例）】 Pishowシリーズ： ■シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能 ■幅広い温度の工程に対応可能 ■エッチングの速度と均一性を精密制御 ■BOSOH工程に対応可能 【成膜機種（一例）】 Shale Cシリーズ： ■ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） ■低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 ■プラズマに...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

【Sonaer】ソニア社製低流量型超音波スプレーノズル

2mmlit/min以下の流量噴霧が可能に！

ノズルはフラットとワイドスプレーチップの2種類があります。 これらのノズルはピンポイントスプレーシェーパーで粒子の焦点を合わせ、溶液の無駄を省くことに理想的です。 これらのノズルでコーティング制御が可能となり、薄くて均一な塗布を必要とする用途に簡単に適応することができます。 このノズルは軽量で、ロボットコーティングシステムでの使用に魅力的です。 ノズルは軽量の黒いアルミ製ケース(特注)ま...

メーカー・取り扱い企業： ティックコーポレーション株式会社

Ion Beam Delayering装置/半導体物理解析

半導体故障解析 歩留まり解析 リバースエンジニアリング マイクロ…

難なため、デバイスの遅延処理アプリケーションにはビームベースの技術が出現しています。Ion Beam Delayering（イオンビームディレイヤイング）では、大面積の試料作製が可能であり、正確かつ制御された物理解析の処理プロセスを実現することができます。...

メーカー・取り扱い企業： 伯東株式会社 本社

TAB・COF製造装置

有効パターンエリアを大きくとる事が可能であり、材料の有効活用ができます

『TAB・COF製造装置』は、連続搬送方式で製品リール巻出に同期して、 ライン搬送に影響を与えず巻取ができます。 テンションコントローラーで製品巻出リールの回転速度を一定に制御。 巻出部テンションは製品幅により可変しますが96mm幅では、100g以下での 搬送が可能です。 またタクト搬送方式では、ニップローラー送り又は、1軸ロボットで チャックして送る方法で行...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社SETO ENGINEERING 守谷事業所

ドライエッチング装置

MRAM用ドライエッチング装置！

RIE、IBE、PECVDチャンバーを一つの真空制御装置に統合など各種カスタマイズも対応可能。 ご要望・お見積もりなど、お気軽にご相談ください。...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

真空センサ『730シリーズ』

コンパクトサイズでローコスト。半導体製造ラインなどで活躍。静電容量型

静電容量の変化を検知して、 リニアな直流電圧信号に変換し出力します。 温度補償範囲が広く耐圧性能に優れるため、様々な用途に使用でき、 太陽光パネル、半導体、石油化学など幅広い分野のプロセス制御で 重要な真空圧力範囲の測定に活躍します。 【特長】 ■極めて低いノイズ影響 ■接ガス部にインコネルを採用 ■CEマーク対応／RoHS準拠 ■接続継手の選択が可能 ※『730シ...

メーカー・取り扱い企業： エア・ウォーター・メカトロニクス株式会社　ST事業部

プラズマエッチング装置「ＥＸＡＭ」サンプルテスト受付中

コンパクトなバッチタイプでサブミクロンのエッチングに対応、サンプルテス…

標準仕様 ステージ寸法：２５０ｍｍ□　エッチング方式：ＲＩＥ　ＣＦ系ガス標準 シンプルな機構でＲＩＥ／ＤＰモード切替可能 ステージ温度制御（水冷／加熱）選択可能　 ステージ寸法大型化（最大５００ｍｍ□）対応可能　...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

プラズマエッチャー【RIE.S-200A】レンタル始めました～♪

有機・無機問わず高いエッチング効果！ １週間～レンタル始めました～♪…

Siやカーボン膜の受託エッチング！ その他、半導体集積回路など微細回路を作製など様々な用途に お使い頂けます♪ 一週間～レンタル可能で研究開発をスピーディーにサポート致します！ 初回条件出しやデモ処理は無償対応。... 出力 MAX300W 周波数 13.56MHz 外形寸法 510(W) ×850(H)×760(D)mm 重量 約 85Kg　 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

ガラスエッチング装置【液晶ガラス基板】| NSCEng

液晶ガラス基板の薄肉加工ケミカル研磨の自動装置として、G6世代までの薄…

漬ディップ式」と「枚葉搬送スプレー式」の2種類あります。どちらも量産装置として数多くの実績がある装置です。 【当社装置の特徴】 ■狙い板厚±30μm規格でCpk1.33以上可能 ■自動板厚制御により1パス仕上げ可能 ■液再生システムにより低コスト実現 ■最新技術により厚さ30μmの搬送が可能 ■耐薬品性重視の設計だから装置が長持ち ■安全インターロック完備 ◇◆◇◆◇◆◇◆...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社NSC エンジニアリング本部

低振動・低騒音ペルチェチラーThermoRack800

レーザーの温度制御に最適！

ThermoRack800は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力700～900WのThermoRack800は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

Aera FC-R7700シリーズ　マスフローコントローラ

経済性に優れた高精度ラバーシール

・エラストマー（ゴム）シール ・VCR、VCO、Swagelok準拠の接続部 ・10sccm～200slmのフルスケール流量レンジ ・ノーマリ・クローズ型またはノーマリ・オープン型ソレノイド制御バルブ ・1x10-7Pa・m3/sec（He）以下の外部リークレート...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

CCPプラズマエッチング装置『CCP-T60M/B2M』

高精度かつ高信頼性の酸化膜微細加工！プロセスガスからラジカルを選択的に…

【その他の特長】 ■イオンエネルギーを高密度に制御するため2MHzを下部電極に印加（オプション） ■エッチング処理毎のクリーニング処理（O2）により、電極やチャンバー壁についた 　フロン系膜を除去 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社片桐エンジニアリング

Siウェハ厚み測定器「SIT-200」

シリコン基板の厚みを高感度でリアルタイム測定

Siウェハ厚み測定器は、精密に発振波長を制御された波長可変光源、集光センサー、受光器(PD)から構成されております。 集光センサーからの光を測定サンプルの表面および裏面で反射させ、再び集光センサーを通ってPDで干渉波を発生させてサンプル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルネアラボラトリ

LECTROPOL-5

様々な材料に適した10種類の研磨/エッチング条件を内蔵！短い研磨時間と…

『LECTROPOL-5』は、マイクロプロセッサの自動制御による材料微細構造 検査用試料の電解研磨と電解エッチングを行う製品です。 パラメーター値の調整を簡単にできるスキャン機能を装備。 ポリシングテーブルに試料を置き、事前設定された電圧の範...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ストルアス

『塩化第二鉄溶液電解再生システム』

安全でクリーンな塩化第二鉄エッチング液電解再生装置

クリーンな液の維持管理 の安定を実現した装置です。 特殊電極の採用により処理能力が向上。さらに、電解槽の増減により あらゆるエッチング操作に最適なシステムで対応可能です。 また、自動制御を行うことにより、運転中の煩わしい操作やメンテナンスは 不要になり、無人運転を可能にします。 【特長】 ■安全・クリーン&高効率 ■高能力&フレキシブル ■簡単操作&優れた経済性 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社長井製薬所

ドライエッチング装置・XeF2エッチング装置

XeF2エッチング装置

ィクションによる自立デバイスの破壊を抑制することが可能。 ●ウエットプロセスにおける前処理、後処理が不要。 ●ガスを断続的に流し、エッチングすることによりエッチングのスピードおよびガスの使用量の制御が容易。 ●プラズマを使用しないため、電界による素子へのダメージ（電子またはイオン衝撃）がない。 ●研究開発用途向けであるため、卓上型で非常にコンパクトな設計。 ●専用機であるため低価格。...

メーカー・取り扱い企業： サムコ株式会社

真空蒸着装置『MiniLab-080』

蒸着・スパッタ・EB等ご要望によりフレキシブルに構成可能。 高さ570…

仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源点（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ（Φ4inch用）…

℃（C/Cコンポジット） -3) Max1000℃（SICコーティング） ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(＜30W） システム主制御：'IntelliDep'制御システム Windows PC（又はTP HMI）インターフェイス 全ての操作を一箇所のHMI画面で一元管理...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-060】フレキシブル薄膜実験装置□■□

蒸着・スパッタ・EB・アニールなどの薄膜モジュールをご要望の構成で組み…

ションMiniLab-070（450 x 450 x 450） ・最大基板サイズ：Φ8inch ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・電子ビーム蒸着：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8） ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

□■□【MiniLab-090】フレキシブル薄膜実験装置□■□

グローブボックス収納可能 PVDフレキシブル薄膜実験装置 高さ570m…

仕様】 ・SUS304 80ℓ容積 400x400x570mm フロントローディングチャンバー ・ポンプ：ターボ分子ポンプ, ロータリーポンプ（ドライポンプも可） ・真空排気：真空/ベント自動制御 ・抵抗加熱蒸着：最大4源（Model. TE1～TE4蒸着源） ・有機蒸着：最大4源（Model. LTEC-1cc/5cc) ・EB電子ビーム蒸着源：7ccるつぼｘ６（又は4ccるつぼｘ8...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

Aera FC-R7800シリーズ　マスフローコントローラ

高精度・信頼性のメタルシールモデル

FC-R7800シリーズは、高精度の流量制御を行うだけでなく、 メタルシールによる優れた高い気密性を備え、主要なガス制御アプリケーションに適したシステムです。 業界標準またはAera独自の電気系接続部を選択できるため、利便性があり、既存の...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

実験用ドライエッチング、成膜装置

ヨーロッパ 発の技術から生まれた汎用性の高い装置！実験～量産に幅広く対…

・ドライエッチング機種 Pishowシリーズ： シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能； 幅広く温度の工程に対応可能； エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能 ・成膜機種 Shale Cシリーズ： ICP CVD（誘導結合プラズマCVD） 低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能 プラズマによる損傷を低減で...

メーカー・取り扱い企業： 日星産業株式会社

低振動・低騒音ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越え...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

ITOフィルムエッチング装置

一定値以上の負荷が掛からないようフィルムを搬送！高いスプレー効率を実現…

（透明導電性膜）フィルムの連続エッチングを行う製品です。 RtoR（ロールtoロール）でのフィルム搬送において、テンションの掛け過ぎは 基材の伸びの原因になります。 当社では中間に張力制御用の駆動を設け、一定値以上の負荷が掛からないよう フィルムを搬送。 搬送ロールの本数を必要最小限に抑え、搬送ロールによるスプレー噴出を 邪魔することなく噴出範囲を最大限確保することで、高い...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社トーア電子

レーザー装置に最適！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！ 消…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なのでささやきのような静粛性・低振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越え...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

消費電力大幅削減！ペルチェチラー『ThermoRack401』

低振動・低騒音・優れた温度安定性でレーザー装置の温度制御に最適！消費電…

ThermoRack401は、高い信頼性がありレーザーアプリケーションに 最適です。 　冷却能力400WのThermoRack400は室温付近でさえも±0.05℃の温度精度を維持します。駆動部はわずか２か所なのでささやきのような静粛性・無振動を実現して、先進的光学・レーザーのアプリケーションにて要求される温度コントロールに対応できます。コアとなる電子温調モジュールは200,000時間を越え...

メーカー・取り扱い企業： エムエス機器株式会社

【新製品開発事業部】航空機部品（エッチング）

エッチング処理（網）を施している航空機部品をご紹介！

1μmの制御・極少部品・難素材へのメッキの対応を行っている新製品開発 事業部の製品『航空機部品（エッチング）』をご紹介いたします。 素材は、アルミダイキャスト・アルミ材。 エッチング処理（網）を施して...

メーカー・取り扱い企業： 福井電化工業株式会社