パルスジェット集塵機向けバルブ『PVシリーズ』＜PV12が追加＞

PRフィルターの払落し効果向上とメンテナンス頻度を軽減。既設配管の再利用O…

『PVシリーズ』は、エアの切り替え部に「スプール」を採用し、 バルブ自体の長寿命化とフィルターの払落し効果向上を実現する パルスジェット式集塵機向けのバルブです。 「4-WAYパイロット弁」採用により安定した動作を実現し、 高速応答による効率的なパルスエアーで高い払落し効果を実現。 純正ベースの他、専用アダプタにて既存の配管をそのまま利用できます。 今回、大流量ダイヤフラムバル...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社エアープレシジョン

精密機器用チタン製ねじ

PRチタン製ねじで軽量化を提案いたします！ 鋼に比べ約60%の密度のため、…

チタン製ねじで軽量化を提案いたします！ 鋼に比べ約60%の密度のため、△40％の軽量化を実現します。 チタン製品は高強度、高耐食、高温耐性、且つ人体との相性が良いことから、 航空宇宙、医療機器、軍需品、化学工業、海洋設備、歯科用器具幅広く使用されております。 ※製品詳細は、下記「PDFダウンロード」よりカタログをご覧ください。...※製品詳細は、「PDFダウンロード」よりカタログをご覧ください...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ユニオン精密

スパッタリング装置FHR.Star100-Tetra-Co

FHR Star.100-Tetra CoはMEMSや高機能光学製品向…

が搭載されており、このシャッターを制御することで成膜コントロールすることが可能です。また、ソースと基板の距離も制御が可能です。これらの制御はプログラムによりオートコントロールされることで最適な成膜を実現しています。 主用途：MEMS製品や高機能光学製品製造 寸法 (L×W×H)： 2.3 m× 1.3 m × 2.1 m 重量(ロードロック付の場合) ：1,700 - 2,000 k...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

次世代基板向け導体層形成 PVD装置

中真空域でのスパッタリング技術を使用し世界で初めて銅ダイレク成膜 によ…

■ 真空プロセスにも関わらず無電解めっきなど従来工法同等以上の生産性を実現 ■ HCDによる高い改質効果とめっきシード層などに適合した導体層膜形成が可能 ■ 高アスペクト比のTHや小径ブラインドビアへの導体層形成が可能 ■ Conventional PVD装置に比べ圧倒的...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サーマプレシジョン

FHR.Roll.1600-FCCLスパッタリング装置

FCCL（フレキシブル銅張積層板）製造用高スループットロール to ロ…

ール to ロール型スパッタリング装置です。 特徴 １．装置構成の自由度が高い ２．高い温度安定性 ３．適正なシード層形成 ４．オプションでクロームフリーの接着層が可能 ５．高剥離強度を実現 詳しくはお問合せください。...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

大気非暴露型多元スパッタ装置

硫化物対応も可　薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット～成膜…

。有償にて成膜テストに対応 実績豊富な研究開発用スパッタ装置の基本仕様を踏襲、小径ターゲットを使用し大面積（φ１８０）への成膜が可能。 基板加熱ヒーターと基板水冷機構を標準装備し幅広い成膜条件を実現。 強磁性体カソードや同時スパッタ、ロードロック機構など豊富なオプションを揃えており幅広いハードへの要求に個別対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

表面処理用多目的スパッタリング装置 STV6301型

立体形状部品や外周全面や平板基板の両面、立体形状の成膜に特化した表面処…

外周全面に成膜可能な基板機構と複数の目的を想定した成膜機構（カソード）を装備したスパッタリング装置。 冶金用途やハードコーディングで実績豊富で信頼性の高い機構と最新の成膜技術で従来に無い表面処理を実現。 独自機構でコップやタンブラーなどの凹形状の内面にも成膜を可能とし...

メーカー・取り扱い企業： 神港精機株式会社 東京支店

ロードロック方式スパッタリング装置 「SPH-2500-II」

膜厚分布：トレー内 ±1.2％、トレー間 ±1.5％を達成しました。

来装置の特徴を受け継ぎつつ最新のテクノロジーを採用し、あらゆる面で従来機を超える性能を達成致しました。 【特徴】 ○外形：W1200×D2500×H1440設置面積はそのままに大幅に低背化を実現 ○カソードを改良することによりターゲット使用効率が４４％まで大幅にUP ○ラック＆ピニオン方式を採用しローラーの滑りなどによる搬送不具合を解消 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社昭和真空

シリンジ、薬液容器などの医療品や自動車にも対応！「DLC成膜」

スパッタリングで硬度なDLC（ダイヤモンドライクカーボン）を成膜し、医…

とでArイオン及びCfluxのイオン化が促進され、 DLC膜においてC-C結合を容易に形成することができます。 その結果、HIPIMS電源を使用することなく、高硬度で平滑度の高いDLC形成を実現化しました。 また、表面処理も不要なため、品質面も良く、時間工数も削減可能です。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

R&D用スパッタ装置 QAMシリーズ

各種研究開発、材料開発等に幅広く対応できる成膜装置。多様性・拡張性を持…

各種研究開発、材料開発等の小規模実験用途から要求される様々な機能に対して、アルバックの豊富な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のＲ&Ｄ装置。 【特徴】 ○低圧力プロセス ○多元同時/多積層膜スパッタ成膜 ○良好な膜厚分布 ○LTSの採用 ○磁性体薄膜への対応 ○フロントアクセス 詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...【成膜室】 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

High-Rate Depo. 圧電膜形成スパッタリング装置

半導体、MEMS、電子部品等に！単結晶エピタキシャルバッファ層から圧電…

。 また発光分析システムによるプラズマ分析とフィードバック制御により、 高速かつ安定したリアクティブスパッタ成膜が可能。 当社独自の急速昇降温基板加熱機構を搭載しており、基板温度900℃を実現します。 【特長】 ■圧電に寄与する軸長を最大限に長くするDeposition構造 ■当社独自のスパッタカソードを搭載 ■ムービングマグネットにも対応し全面エロージョンが可能 ■トレイ...

メーカー・取り扱い企業： ジャパンクリエイト株式会社

バイアススパッタリング装置『SPR-014-B』

良好な絶縁膜形成を実現するバイアススパッタリング装置！

『SPR-014-B』 は、基板側にバイアスを印加しながら スパッタリングを行い、絶縁層用の成膜が可能なロードロック式 バイアススパッタリング装置です。 ピンホール密度が低く、良好なステップカバレージ性を備えた 良好な絶縁膜形成ができます。 【特長】 ■低いピンホール密度 ■良好なステップカバレージ性 ■次の電極層に有利な平坦性 　・排気系はドライポンプと磁気浮上型TMP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社日本シード研究所

アルミ精密切削加工／大阪・フィリール株式会社

A5056／旋盤加工／アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

低温バレル型ALD成膜装置　CVA-B series

低温ALD装置とバレル機構の融合

自社開発のバレル機構による均一撹拌とバラつきのない膜厚・膜質を実現 ・粉体材料や極小部品表面に均一に高品質な成膜が可能 ・平面ではないワーク形状や他の方法では成膜できなかった材料などにも技術応用可能 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クリエイティブコーティングス

Plasma Quest Limited 企業紹介

リモートソース型イオンビームスパッタ装置　リモートプラズマソースの開発…

ーカーにOEM供給を続けていおります。 その高品位なプラズマソースをイオン源として、ターゲットにバイアス印加を行う画期的な手法「HiTUS」システムにより、様々な条件やターゲットを用いてのスパッタを実現しています。 従来のマグネトロンスパッタ装置では困難とされる高磁性ターゲットや高誘電ターゲットのスパッタ、金属とセラミックなどの異種ターゲットを同時に用いるCo-スパッタなど、多用途での運用を可能と...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

小型ウェブコーター(ロールＴＯロール）

実験用の小型成膜装置。ＰＥＴ等のフィルムに成膜します。

T等のフィルムにスパッタにより成膜します。 タッチパネルによる操作で非常に簡単にご使用頂けます。 実験用に小型に設計しており、研究室等に最適です。 高品質ながら、社内一貫生産により低価格を実現しております。 お気軽にお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社富士アールアンドディー

枚葉式スパッタリング装置

電波透過膜を高品質に実現する枚葉式スパッタリング装置です。

特長 ■減衰率の低い電波透過膜（不連続膜） ■枚葉式だから自動化が容易 ■国内トップシェアの実績...先進運転システムに適したミリ波レーダー用エンブレムやドアハンドルの成膜に採用されています。 ご要望・ご予算等どうぞお気軽にご相談ください。 ※詳しくはカタログをダウンロード、もしくはお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業： 芝浦メカトロニクス株式会社

R＆D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

「サンプル作業時間が1/3になった！」。コンパクト設計で自動化も推進。…

な成膜技術と経験をもとに、幅広く対応できる低価格のスパッタ装置です。 約1Pa～0.1Paまでの放電維持圧力範囲を持ち、従来より低圧力でスパッタ成膜が可能。 従来に比べ更なる小型化、自動化を実現したうえに、磁性ターゲットにも対応しています。 さらに、20mm角基板対応の『S-QAMシリーズ』も新登場！ 研究開発現場での使い勝手を最優先に配慮した新モデルとなっています。 ★ただ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アルバック／ULVAC, Inc.

Aera PI-980　プレッシャーインセンシティブＭＦＣ

明日のプロセスニーズに応える次世代PI技術

FC技術は、統合診断機能に加え、フィールドですでに実績のある当社のD980シリーズ製品のプラットフォームと組み合わせたことで、装置稼働時間を向上させるとともに、迅速かつ容易なトラブルシューティングを実現します。...

メーカー・取り扱い企業： 日立Astemo＆ナガノ株式会社

【多目的真空蒸着装置】有機蒸着源

多目的真空蒸着装置HEXシステム用有機蒸着源

す。 ORCAをインストールすることで、HEXシステムを有機物蒸着装置として使用できます。ORCAソースはルツボを積極的に冷却しています。加熱と冷却のバランスにより、優れた温度安定性と制御性を実現しています。 ルツボは熱伝導率の高い材質で作られていることから、蒸着レートに悪影響をおよぼすホットスポットが発生しません。アルミナ製やグラファイト製ライナーも用意されています。 ルツボの...

メーカー・取り扱い企業： テガサイエンス株式会社

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』

不活性ガス雰囲気中で基板・ターゲットの交換ができる、研究開発用小型スパ…

『SSP2500G グローブボックス付きスパッタ装置』は、不活性ガス雰囲気中で基板交換およびターゲット交換ができる、高品質と低価格を実現した研究開発用小型スパッタ装置です。 小型ながら2インチカードを2基備え、真空を破らずにターゲット基板間の距離を変えることが可能で、基板を加熱しながら回転成膜することができます。また、前面ハッ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社菅製作所

Batch Type Sputtering System

一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式

Batch Type Sputtering Systemは一つのチャンバーに基板を搭載して生産する方式で多くのコスト削減が実現できます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＵＫＷＯＮ

独自技術のスパッタリング成膜でハイレベルなDLC成膜を実現！

DLC成膜(膜質:ta-C領域, 表面粗度Ra0.16nm, 透過率：…

とでArイオン及びCfluxのイオン化が促進され、 DLC膜においてC-C結合を容易に形成することができます。 その結果、HIPIMS電源を使用することなく、高硬度で平滑度の高いDLC形成を実現化しました。 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 京浜ラムテック株式会社

【アルミ旋盤加工・アルミ精密切削】

旋盤加工／アルミ加工／精密部品加工

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【切削加工・アルミ加工】

切削加工/金属加工

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

【部品加工サービス】

アルミ切削／アルミ加工／アルミ機械加工

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

真空蒸着装置『MiniLab-026』

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

研究・開発実験用　RFスパッタ装置

実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

た小型RFスパッタ装置 【特徴】 ○試料サイズに合わせた3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、４、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応　⇒　積層薄膜作製を実現 〇多彩なオプションをご用意 　　基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc. ...

メーカー・取り扱い企業： サンユー電子株式会社

□■□【MiniLab-026】フレキシブル薄膜実験装置□■□

小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

必要最小限のモジュール・コントローラをPlug&Play感覚で19"コンパクトラックに組込む事により無駄が無く、小型省スペース・シンプル操作・ハイコストパフォーマンスを実現した、フレキシブルR&D用薄膜実験装置です。 マグネトロンスパッタ（最大3源）もしくは抵抗加熱蒸着（金属源 最大4、有機材料x4）に対応します、又基板加熱ステージを設置しアニール装置、プラズマエッ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

【アルミ精密部品】プレート

半導体製造装置のアルミ精密部品　大阪　【コストダウンはフィリール株式会…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

A5052精密切削／丸物／旋盤／大阪

CNC旋盤加工・アルミ精密切削・半導体製造装置部品【コストダウンはフィ…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社

アルミ精密切削【半導体製造装置部品】フィリール株式会社へ

アルミ切削／A5052／旋盤加工／大阪【コストダウンはフィリール株式会…

　フィリール株式会社　本社 ベトナム(ホーチミン)　フィリールベトナム工場 【特長】 ■国内工場での徹底した検査、品質管理 ■表面処理は、国内での対応 ■安定品質をリーズナブルな価格で実現 ■各週航空便使用により短納期の対応 ■各種証明書の発行もOK ■１個から量産まで対応 ◆熱処理 高周波、パーカー、窒化 タフトライド、焼入全般 ◆表面処理 無電解ニッケル、各種...

メーカー・取り扱い企業： フィリール株式会社 本社