【書籍】先端半導体製造プロセスの動向と微細化（No.2220）

PR【試読できます】－成膜技術、リソグラフィ、エッチング、CMP、洗浄－

書籍名：先端半導体製造プロセスの最新動向と微細化技術 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ★ムーアの法則の限界が叫ばれる中、微細化技術の開発はどこまで続くのか！ 　　新構造、新材料の適用が進む、先端半導体製造「前工程」の最新技術を網羅した一冊 －－－－－－－－－－－－－－－－－－－－－ ■　本書のポイント　1 ・EUVリソグラフィの最新動向とレジスト、マスク、光源の技術課題 ・これ...

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新規次世代パワー半導体の研究開発拠点を開所

PR低損失化、高耐圧化、小型化の面で優位性を持つ、GeO2半導体の製膜事業…

株式会社クオルテック(本社：大阪府堺市、以下「クオルテック」)は、 「滋賀県立テクノファクトリー」内に、新規半導体材料を使用した パワー半導体の製膜における研究開発拠点を開所しました。 開所式にはクオルテックが本研究開発に関して資本業務提携し、 「琵琶湖半導体構想(案)」を推進する立命館大学発ベンチャー、 Patentix株式会社(本社：滋賀県草津市)も出席し、開所式を行いました。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社クオルテック

革新的冷却技術　～メカニズムから素子・材料・システム開発まで～

省エネ化・低温室効果を期待できる新しい冷却技術とシステム開発の最新研究…

ムから素子・材料・システム開発まで～」 ■体裁：冊子：B5判 272頁／PDF版(CD or ダウンロード) ■定価：44,000円＋税 ■発行：エヌ・ティー・エス 序 章　冷却技術と次世代冷媒開発の未来展望 第1章　各種冷却メカニズム 第2章　冷却素子の開発 第3章　磁気冷凍材料/固体冷媒材料の開発 第4章　次世代低GWP冷媒の開発と業界動向 第5章　次世代冷却システムの...

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