• 長尺マシニングセンタ 【2~6mの長尺加工に適した4タイプ】 製品画像

    長尺マシニングセンタ 【2~6mの長尺加工に適した4タイプ】

    PR通常のマシニングセンタよりも段取りが格段にし易い!長尺材加工に適したマ…

    長尺マシニングセンタとは、長尺材(2m〜6m)に特化し、切削加工(フライス削り、穴あけ、ねじ立て)するマシニングセンタです。4タイプありますので用途に合わせてお選びいただけます。 ■ILMシリーズ(主軸:BT40) ツールマガジンをコラムに内蔵、工具交換は左右任意の位置で可能な特にアルミ長尺材加工に適した高剛性マシンです。 ■ILSシリーズ(主軸:BT50) ツールマガジンをコラム...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社イワシタ

  • プリント基板/半導体パッケージ基板用めっき薬品のご紹介 製品画像

    プリント基板/半導体パッケージ基板用めっき薬品のご紹介

    PR【JPCAShow2024】半導体ウエハ、パッケージ基板、フレキシブル…

    奥野製薬工業は、東京ビッグサイト(東京国際展示場)で、2024年6月12日(水)~6月14日(金)に開催されますJPCA Show 2024に出展いたします。 電子機器の普及とともに急速に発展するプリント基板/半導体パッケージ基板。 その高性能化、多機能化に貢献する表面処理薬品とプロセスをご提案します。 その他新技術として、封止樹脂との高い密着性を有する高信頼性粒状銅めっき、リチウムデンドライ...

    メーカー・取り扱い企業: 奥野製薬工業株式会社 大阪・放出、東京、名古屋など

  • 超高精度6軸アライメントステージ「RSTZシリーズ」 製品画像

    超高精度6軸アライメントステージ「RSTZシリーズ」

    X-Y-Z-θx-θy-θzの全方向において、高精度アライメント(ター…

    従来の「RSTアライナー」の駆動ユニットにダブルクサビ方式を使用したパラレルリンク機構を採用したことで、昇降、チルト駆動も1台で実現。 【特長】 ■6軸駆動でも低床を維持。 ■駆動ユニットを、バランスのとれた正三角形に配置することで高い追従性を実現。 ■高剛性クロスローラガイド搭載により、高耐荷重仕様。(貼り合わせ時の加圧も問題なし) ■駆...

    メーカー・取り扱い企業: 神津精機株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』 製品画像

    研究開発用スパタ装置『HSK602VTA』

    省スペース化を実現!同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装…

    『HSK602VTA』は、6基の小型カソードが個別のシャッターと電源を 持ち、同時放電による合金膜や積層膜の形成に最適なスパタ装置です。 リボルバー式4サンプルホルダーを装備しており、一度の真空引きで...

    メーカー・取り扱い企業: 有限会社ハヤマ

  • 【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】スパッタリングソース

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用RF&DCスパッタリングソース

    ーに固定することができることから、取り付け/取り外しの際に工具を必要としません。 反応性スパッタにも対応するので、酸化物や窒化物の成膜も可能です。 HEXでは最大3台、HEX-Lでは最大6台の成膜ソースを取り付けることができるので、多層膜や化合物膜を成膜することが可能です。...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 8インチスパッタコーター SC-708シリーズ 製品画像

    8インチスパッタコーター SC-708シリーズ

    大型サンプルの全面コーティングに最適なイオンコーターです。4~8インチ…

    M観察または分析用大型試料のチャージアップ防止用として、また、一度に多くのサンプルの成膜処理を行ないたい場合に最適なスパッタコーターです。 【特徴】 〇サンプルサイズや数量に応じて、4、5、6、7、8と1インチ単位で選択が可能です。 〇コーティングモード/エッチングモード搭載 〇スパッタ薄膜作製はもちろん、マイクロチャネル流路形成時のPDMS表面処理にも対応 ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    niLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 空気式高速多針タガネ『JT-16』 製品画像

    空気式高速多針タガネ『JT-16

    940gのシリーズ最軽量!ニードル交換も簡単な新型ジェットタガネ誕生!

    『JT-16』は、日東工器社製のジェットタガネシーリズ軽量タイプ。 本体質量940gの空気式高速多針タガネです。 当製品は、グリップはφ34で握りやすく、ニードルが広がりにくい設計。 セフティバンドを...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テラダ 機工部

  • スパッタリング装置『MiniLab-026』 製品画像

    スパッタリング装置『MiniLab-026

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • マルチチャンバスパッタリング装置 製品画像

    マルチチャンバスパッタリング装置

    20年以上の歴史を誇る実績のラインナップ。R&Dから量産までハイエンド…

    搬送室を中心としたクラスター型スパッタリング装置。 基板搬送もベア及びトレイ(サセプター)も標準対応。矩形・小径・不定形 多くの基板に積極対応。 最大8インチ及び8インチ相当の矩形基板に対応。6角形タイプと4角形タイプの2機種を標準ラインナップ。 半導体以外の用途にも半導体の性能とクリーンネスを実現。 次世代開発用スパッタリング装置...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】 製品画像

    蒸着/スパッタ・デュアルチャンバーシステム【MiniLab】

    2台の薄膜実験装置をロードロック機構で連結。異なる成膜装置(スパッタ、…

    【装置構成事例】 1. MiniLab-E080A(蒸着装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・EB蒸着:7ccるつぼ x 6 ・抵抗加熱蒸着 x 2 ・有機蒸着限 x 2 2. MiniLab-S060A(スパッタリング装置) ・基板サイズ:Φ8inch ・Φ2"マグネトロンカソード x 4源同時スパッタ ・...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • R%D用マルチチャンバスパッタリング装置 製品画像

    R%D用マルチチャンバスパッタリング装置

    R&Dやニッチプロセスへの対応に特化 量産用装置では困難な少量生産や試…

    8インチまでの標準径ウェハと6インチ□までの矩形基板に対応したフレキシブル対応が特徴。小径ウェハや不定形基板には専用搬送トレイで基板搬送や成膜が可能。 メタル成膜においてはウェハプロセスの配線・電極膜・薄膜磁気デバイスのセンサ...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

  • 【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】HEX用サンプルステージ

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用サンプルステージ | 固定、回転、回…

    ことは、正しい成膜方法を選択することと同じくらい重要です。サンプルステージの特性は均一性やモルフォロジー、膜組成に影響を与えます。 HEXでは最大直径4インチのサンプル、HEX-Lでは最大直径6インチのサンプルに対応します。標準の固定サンプルステージの他に、回転、回転加熱、回転水冷サンプルステージが用意されています。...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • 【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃ 製品画像

    【ホットステージ】超高温基板加熱ステージ Max1800℃

    超高温基板加熱ステージに、基板昇降・回転、RF/DC基板バイアスの全て…

    半導体、電子基板、真空薄膜プロセス装置・研究開発用【超高温基板加熱機構】 対応基板サイズ:Φ2〜6inch 真空(UHV対応可能)・不活性ガス・O2・各種プロセス反応性ガス雰囲気等でご仕様いただけます。(詳細別途協議)...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 多層膜スパッタリング装置『S600』 製品画像

    多層膜スパッタリング装置『S600』

    ヒーターステージ(1000℃)搭載!開発工程~量産工程まで様々な用途へ…

    『S600』は、多層・積層成膜プロセスの改善により電子部品の品質強化と 生産性向上に貢献する多層膜スパッタリング装置です。 高品質・高精度な成膜によりデバイス品質の向上。高スループット、 生産歩...

    メーカー・取り扱い企業: パナソニック プロダクションエンジニアリング株式会社

  • 【マグネトロンスパッタリングカソード】 製品画像

    【マグネトロンスパッタリングカソード】

    不純物なく金属・絶縁物等を堆積するRF, DC, パルスDC対応高効率…

    【主仕様】 ■RF, DC, パルスDC対応 ■ターゲット厚さ:1/16"〜1/4" ■N型同軸コネクター接続 ■水冷式:4ℓ/min, 0.35Mpa Φ6mmチューブ接続 ■ケース材質:SUS304 ■ターゲットクランプ材質:Al, or SUS304 ■...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • アルミ精密切削加工/大阪・フィリール株式会社 製品画像

    アルミ精密切削加工/大阪・フィリール株式会社

    A5056/旋盤加工/アルミ加工【コストダウンはフィリール株式会社にお…

    -=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=-=- フィリール株式会社  営業部 出水 義一 (demizu yoshikazu) 〒570-0043 大阪府守口市南寺方東通6丁目11-12 TEL:06-7493-8864 FAX:06-7493-8871 携帯:070-3885-7735 E-mail:demizu@fi-real.com ホームページ:htt...

    メーカー・取り扱い企業: フィリール株式会社 本社

  • R&D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中 製品画像

    R&D用スパッタ装置『QAMシリーズ』※ユーザーボイス進呈中

    「サンプル作業時間が1/3になった!」。コンパクト設計で自動化も推進。…

    ットの磁場の影響を最小限に抑制。 注)※1:LTS:Long Throw Sputter ・UHV対応(QAM-4のみ) ベーカブル対応の各機器を使用することで成膜室の到達圧力を1×10-6Pa(※2)以下に対応可能。 注)※2:Oリングシール構造を採用し、従来のメタルシールにより格段にメンテナンス性を向上 ※詳しくは資料をダウンロードしてご覧ください。製品に関するお問い合わせ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.

  • コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200 製品画像

    コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-3200

    単一基板に数100条件の組成分布を形成。有効成膜エリアは1辺25mmの…

    【特長】 ■2元・3元のコンビナトリアル組成傾斜成膜に対応 ■有効成膜エリア:1辺25mmの正三角形 ■2インチ・マグネトロン・スパッタカソード3基搭載 ■RF・DC電源を各3組最大6基搭載可能 ■LabView によるレシピ編集と全自動コンビナトリアル成膜 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせください。...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット

  • Roll to Roll Sputtering System 製品画像

    Roll to Roll Sputtering System

    Flexible Display用など機能性Film製造用Coatin…

    • System Type : 2 Drum ( Max. 12 Dual Cathode )             1 Drum ( Max. 6 Dual Cathode ) • Substrate : Flexible • Target : Depends on products •...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SUKWON

  • 【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源 製品画像

    【多目的真空蒸着装置】抵抗加熱蒸着源

    多目的真空蒸着装置HEXシステム用抵抗加熱蒸着源

    います。また、冷却水配管はクイックリリースコネクターにより接続されています。そのため、材料の補充やボート/フィラメントの交換を素早く行うことが可能です。 HEXでは最大5台、HEX-Lでは最大6台のTESソースを取り付けることができます。また、スパッタソースFission、電子ビーム蒸着源TAUおよび有機蒸着源ORCAと組み合わせて使用することができます。...

    メーカー・取り扱い企業: テガサイエンス株式会社

  • サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート) 製品画像

    サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート)

    特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

    品仕様 1.真空度:1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃~500℃ 3.透過率:80%以上 4.波長範囲:200nm~4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7.磁性:無 ...

    メーカー・取り扱い企業: 日揚科技股份有限公司

  • 非侵襲的血糖モニタリング装置の世界市場レポート2023-2029 製品画像

    非侵襲的血糖モニタリング装置の世界市場レポート2023-2029

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    /25077/non-invasive-glucose-monitoring-device グローバル非侵襲的血糖モニタリング装置の市場は2021年の5097.3百万米ドルから2028年には25860百万米ドルに成長し、2022年から2028年の間にCAGRは25.8%になると予測されている。...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • レーザーアニーリング装置の世界市場の調査レポート 製品画像

    レーザーアニーリング装置の世界市場の調査レポート

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    2年まで、予測データは2023年から2029年までです。 ■レポートの詳細内容・無料サンプルお申込みはこちら https://www.yhresearch.co.jp/reports/279646/laser-annealing-machine グローバルレーザーアニーリング装置の市場は2022年の 百万米ドルから2029年には 百万米ドルに成長し、2023年から2029年の間にC...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • グラウトモニタの世界市場動向分析2023 YH Research 製品画像

    グラウトモニタの世界市場動向分析2023 YH Research

    『無料サンプル』を入手可能! 関連リンクから詳細をご覧になり、直接お申…

    シェアとランキング、販売量、売上、平均価格(2018~2023) 第4章:世界の主要生産地域、パーセントとCAGR(2018~2029) 第5章:産業チェーン、上流産業、中流産業、下流産業 第6章:製品別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR(2018~2029) 第7章:アプリケーション別の販売量、平均価格、売上、パーセントとCAGR(2018~2029) 第8章:地域別セグ...

    メーカー・取り扱い企業: YH Research株式会社

  • 多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】 製品画像

    多元マルチスパッタ装置【MiniLab-S125A】

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    連続多層膜、同時成膜(2〜6元同時成膜:RF, DCをHMIより自在に配置切替) 高出力RF, DC電源, パルスDC電源を独自の'プラズマ・スイッチング・リレー'モジュールでマルチカソードに自在に配置を組み合えることが可能...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420 製品画像

    コンビナトリアル・マグネトロンスパッタシステム CMS-6420

    1辺25mmトライアングルの有効エリア!単一基板に数百条件分の組成分布…

    『CMS-6420』は、PLD法では実現しにくかった成膜面積の拡大を図るべく 開発された6元コンビナトリアル・マグネトロンスパッタ装置です。 有効エリアは1辺25mmトライアングル。 4インチウエ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社コメット

  • 【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置 製品画像

    【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    niLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab(ミニラボ)シリーズ』

    モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

    niLabシリーズは、研究開発から小規模生産用途まで幅広く対応するハイコストパフォーマンスシステムです。 【スモールフットプリント・省スペース】 ・シングルラックタイプ(MiniLab-026):590(W) x 590(D)mm ・デュアルラックタイプ(MiniLab-060):1200(W) x 590(D)mm ・トリプルラックタイプ(MiniLab-125):1770(W) ...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 真空蒸着装置『MiniLab-026』 製品画像

    真空蒸着装置『MiniLab-026

    小型、省スペース! 研究開発に最適 蒸着・スパッタ・アニール等目的に合…

    装置、プラズマエッチングも製作可能。 グローブボックス収納タイプもございます(*要仕様協議)。 フレキシブルにカスタマイズが可能な豊富なオプション部品を揃えております。 ◉ 最大基板サイズ:Φ6inch ◉ 抵抗加熱蒸着源フィラメント、ルツボ、ボート式(最大4源) ◉ 有機蒸着ソース:1cc or 5cc ◉ Φ2inchマグネトロンカソード(最大3源) ◉ ドライエッチング ◉...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 研究・開発実験用 RFスパッタ装置 製品画像

    研究・開発実験用 RFスパッタ装置

    実験目的に合わせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

    金属薄膜はもちろん、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置 【特徴】 ○試料サイズに合わせた3種類のチャンバーをご用意 〇カソードサイズは2、4、6インチに対応 〇2インチカソードタイプは3源式にも対応 ⇒ 積層薄膜作製を実現 〇多彩なオプションをご用意   基板加熱ユニット/基板冷却ユニット/MFCユニット etc. ...

    • SVC-700RF?.jpg

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

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