ICP | イプロスものづくり

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

独自技術を採用したガラス加工用レーザー装置

PR高速かつ正確なガラス微細加工が可能。加工時の応力を抑えて、マイクロクラ…

『LPKF Vitrion M 5000 Gen2』は、独自に開発した「LIDEプロセス」を採用し、±5μm以下の高精度でガラス微細加工が可能なレーザーシステムです。加工時の応力を最小限に抑え、チッピングやマイクロクラックの発生を防止。アドバンストパッケージングで標準使用される150×150mmから 510×515mmまでの大型パネルに対応し、基板のサイズや形状に合わせて柔軟に対...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

ICP エッチング装置

ヨーロッパ発の技術から生まれた汎用性の高い装置！

8"工程用Pishowシリーズ：・Pishow：シリコン、金属、化合物半導体など、様々な材料に対応可能；幅広く温度の工程に対応可能；エッチングの速度と均一性を精密制御； BOSOH工程に対応可能・Pishow A： HEMT工程のソリューションを提供、SiNx、TiN、pGaN、AlGaN層の特別処理が可能； pGaNの高エッチング選択比を実現、AlGaN層に低損失制...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

ICPメタルエッチング装置

Al系やCrなどの金属膜の微細パターンのエッチングに対応！デモ機常設！…

『ICPメタルエッチング装置』は、先端薄膜プロセスに対応した金属膜対応の高密度プラズマエッチング装置です。半導体、MEMSなどの汎用デバイスだけでなく露光用マスクや金属基板の表面処理などの...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

ICP・ICP/MS用消耗品　トーチ・ネブライザーなど

ICP・ICP/MS用消耗品のOEM製品。高品質な製品をお求めやす…

世界最大級のICP、ICP/MSの消耗品製造メーカーと直接取引を行い、コーン、ネブライザー、トーチ、ポンプチューブ、スプレーチャンバーなど様々なアイテムを低価格でご提供しております。各メーカーに純正供給している製品...

メーカー・取り扱い企業：中部科学機器株式会社

酸分解システム　ヒートブロック　MultiCube 48

ICP、原子吸光分析用のマルチキューブ 48は、酸分解専用のヒートブ…

ルは金属塊が極めて少なく、サンプルの外部コンタミネーションの危険がありません。 Multicube 48バイアルは、溶液の計量、分解、分解溶液の保管に使用できる他、F-AAS、GF-AAS、ICP-OES、又はICP-MSによる金属分析を行う前に適量のサンプルを充填してオートサンプラーに装填するためのメスフラスコとしても使用できます。温度などDigital表示も可能なコントローラーによる前...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

サビレックス　PFA非沸騰式酸浄化システム DST-1000

ICP-MSによる微量金属分析に使用する1ppbグレードの酸を非沸騰式…

非沸騰式酸浄化システムDSTシリーズは、ICP-MSによる微量金属分析に使用する1ppbグレードの酸を非沸騰式蒸留により前準備段階で10pptグレードに高純度化。高純度酸の調達コストを削減します。フッ酸（HF）、硝酸（HNO3）、塩酸（HCl...

メーカー・取り扱い企業：東栄株式会社

汎用簡易高圧ガス供給装置『簡易高圧ガスマニホールド』

ボンベスタンドに圧力調整、供給機能をプラスワン！保安向上、安全確保に！

結管で行いますので、安全、簡単に容器交換が可能。圧力調整器を落として故障されるリスクからも解放されました。シリンダーキャビネットの計装用N2やガス供給元との配管距離を縮めたい GC、ICP等の分析装置へのガス供給用などにも適します。現在ご使用のボンベスタンドに追加改造することもでき、ご希望に応じて個別設計対応もいたしますので、ご相談ください。【特長】 ■1本立...

メーカー・取り扱い企業：日酸TANAKA株式会社産業機器事業部

微量元素分析用超純水装置 Milli-Q IQ 7000シリーズ

ICP-MS（極微量元素分析）、半導体洗浄用完全水銀フリー超純水製…

極微量元素分析、半導体洗浄等には高純度の超純水が必要です。 Milli-Q IQ 7000およびMilli-Q IQ 7005/10/15 微量元素分析タイプは、ICP-MSによる極微量元素分析に適した分析用水を精製します。精製ユニットでの超純水精製に加え、Milli-Q IQ Element により極微量の金属を極限まで除去。これにより、水由来のバック...

メーカー・取り扱い企業：メルク株式会社ライフサイエンス（シグマアルドリッチジャパン合同会社）

【標準物質ユーザーへ】分析用冷凍・凍結粉砕機（フリーザーミル）

【文献で紹介されました！】PFAS含有サンプル、樹脂、プラスティック、…

冷凍粉砕機とは ◾️液体窒素を使うため、難しいサンプルも粉砕（繊維系、ゴム系など） ◾️ポリカーボネイト筒に試料投入→液体窒素と試料が触れることはない【分析現場で多数採用実績】 ICP分析の溶解前処理、DNA/RNA抽出前処理等に多数採用頂いております。採用実績としては、ICP分析の溶解前処理、DNA/RNA抽出前処理には文献で紹介されるなど多数採用されております。 ...

メーカー・取り扱い企業：西進商事株式会社

マイクロウェーブ試料分解装置　speedwave XPERT

ICP-OES,ICP-MS,原子吸光分析の前処理に！ルーチンから…

マイクロウェーブ試料分解はルーチン分析や研究開発ラボにおいて信頼性の高い元素分析を行うための前処理技術です。 speedwave XPERT は有機・無機サンプルにおいて信頼性、安全性、操作性に優れたユニバーサルで使用できるマイクロウェーブ試料分解装置です。【高分解力】 ■マイクロウェーブ出力2,000W ■円形デザインによる均一なマイクロウェーブ加熱 ■光学センサーによる分解作...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アナリティクイエナジャパン

ホローカソードソース『HCS』

プロセス適合のために電極間隔を自由に調整可能！低放電電圧で穏やかな処理…

と、電極プレートの下に非常に強力で明るいプラズマが生まれます。シンプルでスケーリング可能な設計で頑丈の挙動および簡単なカスタマイズを実現。高密度プラズマの処理に関して、CCPおよびICPに匹敵し、コストはICPより低廉です。【特長】 ■ホローカソード設計、基板に依存しない ■高い電子密度とイオン化効率がラジカルの高密度を促進 ■表面クリーニング、活性化、エッチン...

メーカー・取り扱い企業：フォンアルデンヌジャパン株式会社

マイクロ波前処理装置の原理と上手な使い方

元素分析時などの前処理としてマイクロ波は、時間を節約し、工程を効率的に…

無機サンプルのマトリックスを完全に破壊または溶解し、サンプル全体を溶解させることができます。続いて、元素または種の濃度は、AAS（原子吸光分析）、MIP-OES（マイクロ波誘導プラズマ発光分析）、ICP-OES（誘導結合プラズマ発光分析）、ICP-MS（誘導結合プラズマ質量分析）[2]などの適切な分析技術を使用して決定できます。酸分解に最も一般的に使用される酸とその典型的な濃度は以下の通りで...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

次世代ICPMS用超純水装置『PURELAB Chorus 1』

超高感度「TQ ICP-MS」に好適な超純水を提供！標準カートリッジで…

半導体分野など次世代ICPMSでの超高感度元素分析で必要な超純水。その分析には微量元素を徹底的に除いた分析用超純水が必要です。エルガ・ラボウォーターの『PURELAB Chorus 1 Analytical Resea...

メーカー・取り扱い企業：ヴェオリア・ジェネッツ株式会社エルガ・ラボウォーター事業部

サビレックス　PFAブロックバス用試験管

PFAブロックバス用試験管はICP微量元素分析の前処理分解作業において…

サビレックスのPFAブロックバス用試験管は、ICP微量元素分析の前処理分解作業において、ブロックバスに適合するよう設計されています。熱伝導性向上のため壁面を薄く精密に成形しています。捻子蓋付のブロックバス用試験管は分解装置にかけた試料をそのまま安...

メーカー・取り扱い企業：東栄株式会社

ロールtoロール連続成膜装置

樹脂フイルムへのバリア性プラズマ成膜などに好適！技術資料無料進呈いたし…

『ロールtoロール連続成膜装置』は、中間層を必要としないプラズマイオン注入成膜法により、各種フィルム素材に機能性成膜が可能な装置です。独自のICPプラズマによる高速成膜機能フイルムの製造が可能。樹脂フイルムへのバリア性プラズマ成膜をはじめ、金属箔への導電耐食性プラズマ成膜、繊維素材への抗菌性プラズマ成膜などに適しております。 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社イトー

ポータブル全反射蛍光X線分析装置「OURSTEX200TX」

ICP・原子吸光装置レベルの高感度！極微量分析ができる全反射蛍光Ｘ線分…

格の全反射蛍光X線装置です！京都大学大学院工学研究科　河合潤教授による発案をアワーズテック社が製品化しました。【特長】 ●極微量分析に好適！　 ●本体総重量わずか8kg！ ●ICP・原子吸光装置に匹敵する高感度分析が可能。 ●SDD(シリコン・ドリフト・ディテクタ)検出器を搭載！【用途例】 ◎井戸水や河川の検査に　 ◎土壌や玩具からの溶出水分析に ◎食品・医...

メーカー・取り扱い企業：アワーズテック株式会社

DEENA2を用いた乳製品における酸分解自動前処理法について

乳及び乳製品の成分規格等に関する省令及び食品、添加物等の規格基準に…

は、酸分解において煩雑な試薬添加操作があり非常に手間である。また、硫酸や硝酸の酸試薬の使用により、人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴う。その為、酸添加等自動前処理装置DEENA2 を用いて、ICP₋OES やICP/MS 等へ供する試料前処理について、作業の自動化行った。 ■酸添加加熱前処理 ■試薬添加 ■放冷 ■メスアップ ■人への酸への暴露の防止 ※詳しくはPDF資...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

【技術資料】DEENA2作業環境測定分析での混酸による自動前処理

DEENA2 を用いた作業環境測定分析における、混酸（塩酸:硝酸:純水…

解において煩雑な試薬添加操作があり非常に手間です。また、塩酸や硝酸の酸試薬の人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置「DEENA3」を用いて、ICP/OESやICP/MSへ供する試料前処理について、作業の自動化行いました。【掲載内容】 ■概要 ■キーワード ■使用装置 ■使用試薬 ■分析フロー ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

サビレックス　PFA分解容器/ダイジェスチョン容器(蓋別売)

PFA分解容器はICP微量元素分析法のマイクロウェーブなどでの前処理分…

サビレックスのPFA分解容器(ダイジェスチョン容器)は、ICP微量元素分析法のマイクロウェーブなどでの前処理分解用に設計されています。マイクロウェーブオーブン内に直接入れることが可能、外面平底の容器はホットプレートでの加熱にも適しています。専用蓋(別売)は耐...

メーカー・取り扱い企業：東栄株式会社

シリカ中の不純物分析におけるふっ酸・硝酸を用いた分解の検討

【技術資料進呈】酸分解前処理装置DEENAを用いた試薬前処理作業の自動…

煩雑な試薬添加操作があり非常に手間であります。また、ふっ化水素酸等の酸試薬の人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置DEENAを用いてICPやICP/MSへ供する試料前処理について、作業の自動化を行いました。【技術資料掲載内容】 ■1.概要 ■2.キーワード ■3.使用装置 ■4.使用試薬 ■5.分析フロー ...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

ネオケミカル株式会社岡山工場　保有設備

生産だけでなく実験も迅速対応可能！岡山工場の生産設備、分析機器をご紹介

迅速対応可能です。【分析機器一覧(一部)】 ■ガスクロマトグラフィー：20台 ■ガスクロマトグラフィー質量分析計：2台 ■イオンクロマトグラフィー：2台 ■HPLC：2台 ■ICP-MS-MS：1台 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：ネオケミカル株式会社本社

大気中微小粒子状物質（PM2.5）成分測定用マイクロ波前処理装置

大気分析、環境分析センターに最適。環境省環境調査研修所でのピーエム2.…

5.PM2.5・有害大気分析で用いる実際の試料処理メソッド 6.いつものメソッドで試料が分解しない、新規メソッド作成時の分解不良の時の対策 7.アントンパール社のご紹介と装置のご紹介　ICPの前処理として、酸分解→濃縮までがスムーズに、安全に行えることが大切です。分析の精度や問題は、分析装置の問題とは限りません。前処理装置の向上や、適切な仕様を選択し、適切なサポートを受けることで処理...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

黒金化成株式会社　設備紹介

さまざまなニーズに合わせ｢多品種少量から量産まで｣様々なモノづくりに対…

型20～42インチの遠心分離機をはじめ、真空棚段の乾燥機、泡鐘式の精留塔、クリーンミルの粉砕機などを保有。その他分析機器として、紫外分光光度計、赤外分光光度計、原子吸光分光光度計、ICP-AES分析装置なども備えております。【保有設備】 ■反応装置 ■遠心分離機 ■乾燥機 ■真空蒸留器 ■精留塔 ■粉砕機 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお...

メーカー・取り扱い企業：黒金化成株式会社本社

冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』【レンタル取次ぎ】

液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の　高精度を両立 ■液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応 ...

メーカー・取り扱い企業：ニッシン産業株式会社

マイクロウェーブ試料調整装置 Multiwave 5000

複雑で処理が面倒なサンプルでも簡単に前処理が可能！1台で分解・溶出・溶…

ICP分析や、原子吸光分析（AAS)の前処理におけるマイクロ波酸分解法は、高温高圧の密閉容器の中で酸分解を行うために安全を確保するための仕組みが不可欠です。 Multiwave 5000は全容器の圧力/温度制御および強制空冷による急速空冷により、高いレベルで性能と安全を両立しているため、未経験の試料でも安心して分解を行うことができます。国内で流通しているマイクロウェーブとしては珍しい、第三者機関ETL...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

真空機器関連商品　EBEP処理装置＜FAP-EB/2D＞

CVD、エッチング、表面改質のプロセスに最適です。

エッチング、表面改質のプロセスに最適です。低圧力領域においてエネルギー可変電子ビームにより、プロセスガスを高効率に解離、電離を行なうことができ、高密度の活性種を生成することが可能。CCPプラズマ、ICPプラズマでは達成できないプラズマ状態を生成し、様々な材料の精密成膜、エッチング、表面改質ができます。φ100mmの酸化物、金属、樹脂等の成膜、表面改質に対応。ステージ加熟（Max500℃）、バイア...

メーカー・取り扱い企業：株式会社片桐エンジニアリング

理化学分析

異物、成分、構造解析などに関する理化学の分析を行います

【分析装置】 ■元素、組成分析・CHN、原子吸光、ICP発光、・ICP/MS、IC、TOC、蛍光X線 ■化合物の構造解析と同定・GC、GC/MS、Py-GC/MS、HPLC、LC/MS、・FT-IR、ラマン分光、NMR、UV、XRD ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社クレハ分析センター

メッキ・カチオン電着塗装サービス

時代の変化とニーズを的確にとらえたメッキ(ベーキング処理)・カチオン電…

農機具部品を中心とした、メッキ(ベーキング処理)・カチオン電着塗装を行っております。メッキ処理する品物ごとに合わせた適切な環境づくりを行っており、中でもメッキ品質を向上させるため、ICP発光分光分析装置(ICP-AES)を導入してのメッキ液の管理を行っています。これにより液中の不純物の有無や、有害物質が混ざっていないかなどを細かに分析しております。【強み】...

メーカー・取り扱い企業：株式会社大塚金属

プラズマ成膜及びエッチング装置『FLARIONシリーズ』

プラズマアシストリアクティブ成膜可能！インテグレーション用オプションな…

『FLARIONシリーズ』は、プラズマ成膜及びエッチング装置です。 PLUMシリーズのシームレスICPによるプラズマアシストリアクティブ成膜が可能。また、基板回転機構、バイアス機構やプログラム制御された軸動作機構の搭載が可能で、カスタマイズやインテグレーション用オプションに対応して...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ハイテック・システムズ

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：P...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

【生産終了】 Multiwave 3000

マルチウェーブ3000型は生産終了となっております。後継機種はMult…

【後継機種のご案内】 ICP分析や、原子吸光分析（AAS)の前処理におけるマイクロ波酸分解法は、高温高圧の密閉容器の中で酸分解を行うために安全を確保するための仕組みが不可欠です。 Multiwave 5000は全容器の圧力...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン

【粒子/分子】フィールド・フロー・フラクショネーション（FFF）

カラムで分離が難しい超高分子やナノ粒子を分離分析が行える装置です。

ー、ナノ粒子の同時分離分析が可能です。 ■ナノメディシン、抗体、ナノ粒子、高分子、食品、環境など幅広い　アプリケーションがございます。 ■様々な検出器(RI、ELSD、UV、MALS、Visc、ICP-MS、DLS）を　オンラインで接続可能です。 ■フラクションコレクターにて分離ピークの分取が可能です。 ※詳しくはお問い合わせいただくか、PDFをダウンロードしてご覧ください。...

メーカー・取り扱い企業：旭テクネイオン株式会社

株式会社知場プラント　事業紹介

機器メンテナンスから分析機器等の販売まで幅広くご提案いたします

【業務内容】 ■工事グループ　・プラント工事　・機器メンテナンス・据付工事　・機器・鋼構造物の製作 ■営業部：取扱商材　・ICP-MS 　・ICP 　・原子吸光々度計　他 ■システム開発事業部　・ソフトとハードのトータルシステムの開発　・制御・測定・診断装置の開発　・オリジナル制御装置設計・製作　他 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社知場プラント

【高圧ガス取締法の適用不要】水素吸蔵合金キャニスター

試験的に水素を使用したい企業様必見！軽量、省スペースで設置場所を選びま…

■　容器内の圧力は常温で1MPa未満で、約0.2MPaを維持します。 ■　容器の耐圧は10MPa以上に設計されています。 ■　毎分200 mL以下の流量（常温で）を得ることができます。　　ICP-MSのコリジョンガスとして用いた場合には、毎分5 mL使用で、580時間連続使用できます。 ■　水素貯蔵合金は2,000回の再充填使用が可能です。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社IAS Inc. IAS Inc.

サビレックス　PFA標準バイアル

ICP-MS分析の前処理に最適、容量3〜60mlまで幅広いラインナップ…

低温から高温まで幅広い耐熱性(〜260℃) です。ふた付き・ふた無しを選択可能です。内底・外底の形状を選択可能（丸底・平底・円すい底など）です。外面平底バイアルはホットプレートの上に置いて加熱可能です。肉厚は2mm、バイアルはオートクレーブ滅菌が可能です。...●容量3〜60mlまで幅広いラインナップ ●低温から高温まで幅広い耐熱性(〜260℃) ●ふた付き・ふた無しを選...

メーカー・取り扱い企業：東栄株式会社

ラボ用粉砕器　ミキサーB-400

【数量限定・特別価格】簡単＆安全にサンプルの前処理を最適化！

「ミキサーB-400」は、試料に熱変性を与えにくい短時間粉砕が可能な製品です。 2枚の高速回転刃の働きにより、サンプルの粉砕と混合を同時に行うことが可能。セラミック刃は、ICPや原子吸光等の元素分析の前処理粉砕に好適です。 2024年11月末まで、数量限定の特別価格で販売いたします。詳細はぜひお問い合わせください。【特徴】 ■100g以下のサンプルを...

メーカー・取り扱い企業：日本ビュッヒ株式会社

半導体関連フッ素樹脂製品 / サビレックスPFA製品

アメリカと日本をはじめ世界の半導体業界で実績。卓越した信頼性と純度…

脂製品の需要が増加しています。サビレックス社のPFA製品は高純度バージンPFA樹脂から製造されており、化学的に不活性で不純物溶出が無く高純度薬液を厳格かつ安全に保管する各種PFA容器をはじめ、ICP-MSのサンプル薬液の保管や前準備の溶解作業に用いられるPFAバイアル、1ppbグレードの塩酸・硝酸・フッ酸を全自動かつ非沸騰で静かに蒸留することで10pptグレードに浄化する酸浄化装置など、半導...

メーカー・取り扱い企業：東栄株式会社

HCD型高密度プラズマエッチング装置

シンプルな機構で高密度プラズマを実現。ウェハから１ｍ□基板まで対応。Ｓ…

従来型の容量結合型プラズマエッチング装置にくらべ一桁高い密度のプラズマを実現。高周波アンテナや磁石を使用せず、電極構造のみの工夫によって高精度エッチングが可能。従来型のエッチング装置（CCP型・ICP型）とのハード上の互換性も高く低コスト・高い信頼、稼働率の実現に寄与。ウェハレベルの基板だけでなく大型基板のエッチングにも対応可能基板の大型化にスムースに対応可能な新型高密度プラズマエッチ...

メーカー・取り扱い企業：神港精機株式会社東京支店

各種セル・ガラス製品加工

特殊セルや各種ガラス製品の特注対応致します。

特注対応可能な製品 ■ 各種セル ■ ICPトーチ ■ 非沸騰式蒸留器 ■ バーナー加工 ■ 半導体ライン用パーツ ■ マシニング加工 ■ 段シール加工 ■ ガラス-金属接合 ■ 封入加工 ■ ネサ処理ガラス（透明電導性薄膜...

メーカー・取り扱い企業：ケイエルブイ株式会社

卓上型サーマル式 / プラズマ支援原子層堆積（ALD）装置

Arradiance社製卓上型ALD装置　卓上型ながらプラズマユニット…

造物、カーボンナノチューブ（CNT）やグラフェンにも成膜可能。酸化膜以外にも窒化物、PtやRuの金属の成膜も対応。 4系統のマスフロー制御プラズマ・ガス入力を備えた300W空冷ダイレクトICPプラズマヘッド最大300°Cまで調整可能なリアクター(反応器)温度低蒸気圧用の材料供給加圧アシスト機能付き試料ステージは直径200mm基板まで選択可能 450℃加熱ステージも選択可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社エイチ・ティー・エル HTL（エイチティーエル）

めっき処理　受託サービス

少量での試作、研究開発のめっきサンプル作成をお手伝いします！

ださい。【特長】 ■高い技術と豊富な経験　・高アスペクト比Viaの埋め込みめっき技術を確立しました ■早急な分析と検証が可能　・膜厚測定、断面観察（SEM）、組成分析（EDX、ICP）など ■各種めっきおよび各種基板に対応　・対応できる基板サイズがありますので、担当者にご相談ください ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日立パワーソリューションズ

PEM 水素発生装置『HG PRO』

コンパクトで素敵なデザイン。積み重ねも可能です

【用途】 ■GC、GC-MSのキャリアガス ■FID、FPDなどのGC検出器燃焼ガス ■反応ガス、ICP-MSコリジョンガス、THA、ガスセンシング ■燃料電池に使用するメタルハイドライドタンクの補充 ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか、お気軽にお問い合わせください。...

メーカー・取り扱い企業：ジャスコエンジニアリング株式会社

プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！

【仕様】 ■サイズ：W4000mm×D2000mm×2000mm ■プラズマソース：ICP、RFバイアス ■ガス種：SiH4、O2、N2、HMDSO、NF3 ■ウエハサイズ：～φ12インチ（FOUP対応） ■成膜速度：～300nm/min ※詳しくはPDFをダウンロードしていただくか...

メーカー・取り扱い企業：株式会社セルバック

【資料】JUNIOR/Big Kahunaのご提案

生産性が5倍に！JUNIOR/Big Kahuna導入のインパクトなど…

（水性、有機、製剤ビヒクル） -塩、多形体、共結晶 -有機合成スクリーニング -触媒スクリーニング -反応最適化と動態プロファイリング -粉砕試験、強制分解試験 -含量均一性試験 -ICP発光分析の前処理自動化 -固体分散スクリーニング -マイクロスケール溶解速度評価 -液体製剤開発のための溶解性試験 -パウダーフローのキャラクタリゼーション ※詳しくはPDF資料をご...

メーカー・取り扱い企業：ライフィクスアナリティカル株式会社

エレクトロニクスの発展に貢献するOKUNOの技術をテーマに出展！

表面処理・めっきの技術相談窓口、奥野製薬工業が、半導体パッケージや実装…

ト基板用　硫酸銅めっき添加剤トップルチナHLS https://premium.ipros.jp/okuno/product/detail/2000810383/ ボイドフリー最終表面処理、ICP-COAプロセス https://premium.ipros.jp/okuno/product/detail/2000810398/...

メーカー・取り扱い企業：奥野製薬工業株式会社大阪・放出、東京、名古屋など

株式会社アサヒメッキ　会社案内

メッキ・表面処理のスペシャリスト！多種多様なお客様のご要望に対応します

【保有設備】 ■蛍光X線分析計 ■ICP発光分光分析装置 ■表面粗さ測定器 ■塩水噴霧試験装置 ■ベーキング炉 ■分光光度計 ■マイクロスコープ　　他 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アサヒメッキ

石田産業株式会社　事業紹介

金属表面処理分野の素材販売をとおして暮らしの輝きを支えます！

音波洗浄機　他 ■公害防止機器装置販売　・排水処理装置一式　・スクラバー　他 ■各種装置販売　・クリーンルーム　・プラズマ洗浄装置 ■分析装置　・原子吸光分析装置　・ICP発光分光分析装置 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業：石田産業株式会社福岡本社

精密洗浄サービスの4つの柱『評価分析技術』のご紹介

種分析機器を用いて母材保護に適した洗浄方法を選定！

【使用機器】 ■高真空デガス分析装置 ■レーザー3D測定器 ■表面パーティクル測定器 ■Heリーク　ディテクター ■SEM-EDS ■ICP-MS ■イオンクロマトグラフィー ■顕微鏡 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：クリテックサービス株式会社本社

有限会社インターリンク科学機器事業部

お探しの機器があるお客様・機器売却をお考えのお客様インターリンクは…

連機器　・培養装置・DNAシーケンサー・サーマルサイクラー・DNAチップ・　　フローサイトメーター・プレートリーダー・電気泳動装置等 ■分析機器関連　・HPLC・IC・GC・MS・ICP・AA・TA・FTIR・NMR・SEM等 ■理化学関連機器　・乾燥器・恒温器・振盪機・撹拌機・恒温水槽・恒温器・洗浄機・　　顕微鏡・遠心機・純水製造装置・ポンプ・マグネチックスターラー等...

メーカー・取り扱い企業：有限会社インターリンク科学機器事業部

【プラズマ処理装置】表面処理、スミア除去をご提案

アジア大手電子機器メーカーに実績多数！様々な分野での表面処理を提案しま…

【その他の特長（抜粋）】＜バッチ式デスミア装置＞ ■独自の電極構造・高密度プラズマ（ICP）により残渣を高効率除去・両面処理が可能 ■優れた均一性を実現・装置前後から反応ガスを出入れし、基板前後のエッチング差を抑制・電極部冷却機構により基板温度を制御・上昇を抑制 ■対応...

メーカー・取り扱い企業：株式会社日立ハイテク

クライオ・プラズマ・エッチング Takachi ICP Cryo

当社で取り扱う、極低温環境でのエッチング装置をご紹介いたします

当社で取り扱う、『Takachi ICP Cryo』をご紹介いたします。より異方性、高選択性が必要とされるエッチング工程で使用されます。【特長】 ■温度範囲：-150℃～＋350℃ ■ウエハサイズ：2"～8" ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

【技術資料】DEENA2を用いたふっ化水素酸・硝酸での自動前処理

DEENA2を用いたシリカの分解における、ふっ化水素酸・硝酸を用いた自…

おいて煩雑な試薬添加操作があり非常に手間です。また、ふっ化水素酸等の酸試薬の人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置「DEENA2」を用いて、ICPやICP/MSへ供する試料前処理について、作業の自動化行いました。【掲載内容】 ■概要 ■DEENA2とは ■キーワード ■使用装置 ■検討方法 ※詳しくはPDF資料を...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

【技術資料】ふっ化水素酸・硝酸を使用した自動前処理

DEENA3を用いたシリカの分解における、ふっ化水素酸・硝酸を使用した…

おいて煩雑な試薬添加操作があり非常に手間です。また、ふっ化水素酸等の酸試薬の人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置「DEENA3」を用いて、ICP/OESやICP/MSへ供する試料前処理について、作業の自動化行いました。【掲載内容(抜粋)】 ■概要 ■キーワード ■使用装置 ■使用試薬 ※詳しくはPDF資料をご覧い...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

【技術資料】作業環境測定分析における、王水による自動前処理

DEENA3を用いた作業環境測定分析における、王水（硝酸：塩酸=1：3…

解において煩雑な試薬添加操作があり非常に手間です。また、塩酸や硝酸の酸試薬の人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置「DEENA3」を用いて、ICP/OESやICP/MSへ供する試料前処理について、作業の自動化行いました。【掲載内容】 ■概要 ■キーワード ■使用装置 ■使用試薬 ■分析フロー ※詳しくはPDF資料...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』【レンタル取次ぎ】

周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

す。冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

メーカー・取り扱い企業：ニッシン産業株式会社

冷却水循環装置『RKE3750B-V-G2』

周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現している大型水槽付チラーのご紹…

す。冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御。周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現しています。ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。【特長】 ■業界トップクラスの省エネ性能を実現 ■冷凍機・ファン・ポンプもインバーター制御 ■周囲温度範囲、液温度範囲のワイド化を実現 ...

メーカー・取り扱い企業：ニッシン産業株式会社

冷却水循環装置『RKE1500B1-V-G2』

液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応した水槽内蔵DCインバーターチ…

温度制御制度±0.1℃の高精度を両立した冷却水循環装置です。液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応。ファイバーレーザー、MRI、露光装置、高周波誘導加熱装置、プラズマ溶接機、ICP分析装置など機器の冷却、温度管理に適します。【特長】 ■30%以上の省エネと圧縮機回転制御方式で温度制御制度±0.1℃の　高精度を両立 ■液温制御範囲5～35℃と幅広い用途に対応 ...

メーカー・取り扱い企業：ニッシン産業株式会社

エルガ超純水装置選定ガイド

エルガの超純水装置の使用目的や水質、使用量別の機種選定方法をご紹介！

【使用目的や用途（水質）】 ■JIS K0557 A4レベルの水 ■無機分析（原子吸光・ICP・IC） ■有機分析（HPLC・TOC測定） ■ライフサイエンス研究用 ■分析装置接続用 ■微粒子フリー超純水 ■超高感度元素分析（ICP-MS・IC-MS） ■超高感度有機物分析（L...

メーカー・取り扱い企業：ヴェオリア・ジェネッツ株式会社エルガ・ラボウォーター事業部

【技術資料】前処理法について全自動前処理の検討

DEENA3を用いた、シュウ酸アンモニウム、硫酸及び硝酸を用いて分解を…

煩雑な試薬添加操作があり非常に手間です。また、硫酸や硝酸の酸試薬の使用により、人への曝露の問題もあり、分析には危険が伴います。その為、酸添加等自動前処理装置「DEENA3」を用いて、ICP₋OESやICP/MS等へ供する試料前処理について、作業の自動化行いました。【掲載内容(抜粋)】 ■概要 ■キーワード ■使用装置 ■使用試薬 ■分析フロー ※詳しくは...

メーカー・取り扱い企業：ビーエルテック株式会社

【生産終了】 Multiwave Pro

マルチウェーブプロは生産終了となっております。後継機種はMulti…

【後継機種のご案内】 ICP分析や、原子吸光分析（AAS)の前処理におけるマイクロ波酸分解法は、高温高圧の密閉容器の中で酸分解を行うために安全を確保するための仕組みが不可欠です。 Multiwave 5000は全容器の圧力...

メーカー・取り扱い企業：株式会社アントンパール・ジャパン