cvd | イプロスものづくり

PR薄膜堆積用PECVD・ドライエッチング・故障解析用プロセス対応。多機能…

『SHUTTLELINE(R)シリーズ』は、RIE/ICP-RIE、PECVD/ICP-CVDに対応しコンパクトながら高性能かつ多機能な半導体製造装置です。成膜とエッチングプロセスを一台で実現し、様々なウエハサイズと形状に対応可能。シャトルシステムにより、異なるサンプルサイズでもハードウェアの変更が不要です。世界で広く採用されており、Plasma-Therm LLCのグ...

メーカー・取り扱い企業：プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社

Enovasense Field Sensor

PR高速な不透明膜の厚みマッピング、内部欠陥のエリア検出が可能なレーザーフ…

フランスのEnovasense社のセンサは、レーザフォトサーマル技術を使用した高性能なセンサで、非接触で不透明体の厚みを測定できます。本新製品は、従来のシングルポイントセンサと異なり、約１１万点を同時に測定できるエリアセンサです。不透明体の厚みマッピングだけでなく、表面層下の欠陥、欠け、剥がれの有無を検知できます。 ■特長　・非接触で下記が測定できます。　　　☆不透明体の厚みマッピング...

メーカー・取り扱い企業：プレシテック・ジャパン株式会社

CVD、IBDの成膜装置

ヨーロッパ発の技術！Leuven instruments装置の日本国…

・Shale Cシリーズ：ICP CVD（誘導結合プラズマCVD）低温条件（<120℃）で緻密な成膜を実現可能プラズマによる損傷を低減でき、漏れ電流を抑える高アスペクト比の穴埋めに適用・Shaleシリーズ：PE CVD（プラズマCVD） 2周波数のプラズマ源を搭載、SiNx製膜の応力を幅広く制御可能・Ganistarシリーズ：IBD（イオンビーム堆積）低温低圧条件...

メーカー・取り扱い企業：日星産業株式会社

高精度 CVDコーティング技術

CVDは「教科書に存在しない技術」。絶妙の製膜コントロール技術で実現！

CVDコーティング技術は、経験に裏打ちされた自信が品質の差となって表れます。長年にわたる試行錯誤と経験の蓄積・絶妙の製膜コントロール技術により他社にマネのできない精度を実現しています。また当社では、潤滑性・滑り性・疲労強度に特化した当社独自の「DM(下地処理)」も行っております。【CVDコーティングの特徴】 ■耐摩耗・耐焼付けに抜群の効果を発揮 ■金型、工具の寿命を大幅に向上させる ■...

メーカー・取り扱い企業：フジタ技研株式会社

【Nanofurnace】BWS-NANO 熱CVD装置

【ホットウオール式熱CVD装置】基礎研究に最適なコンパクトサイズ高性能…

◉ グラフェン, カーボンナノチューブ ◉ ZnOナノワイヤ ◉ SiO2等の絶縁膜などその他, ホットウオール式熱CVD装置として幅広いアプリケーションに対応...【特徴】 ◉ コンパクトなシステムでハイクオリティな成膜実験が可能 ◉ ホットウオール式反応管内を均一に加熱 ◉ 4系統（CH4, Ar, H2, バブラー用）MFC高精度流量制御：精度±1% F.S. ◉ キャパシ...

メーカー・取り扱い企業：テルモセラ・ジャパン株式会社

CVD装置

●特徴本装置はCVD法を用いた薄膜作製装置であり、原料ガス状物質（気体、液体、固体）としてCVD反応室に供給し、気相または基板材料表面において化学反応を起こさせ、所望の薄膜材料を基板上に堆積させる気相反応、表面反応を利用した薄膜作製装置です。原料ガス状物質を化学的に活性させる（励起状態にする）手法として、熱、プラズマ、光（レーザー、紫外線など）があり、各々熱CVD、プラズマCVD、光CVD装置...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

PlasmaMAX Hollow Cathode プラズマCVD

最高品質を保ちつつ、基板幅と成膜速度を最大化することで、大量生産プロセ…

この技術により、バリア成膜品、光学多層膜製品、機能性繊維、ディスプレーの製造や、一連の関連するカスタムアプリケーションを最適化することができます。 PlasmaMAX ホローカソードは、形状をカスタマイズすることができるため、水平型インライン式の真空成膜装置、垂直型インライン式真空成膜装置、ロールツーロールのウェブコーティングプロセスにも容易に組み込むことが可能です。簡単にカスタマイズできるデ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社マツボー

太陽電池作製装置（Si系、CIGS系太陽電池作製用のCVD装置）

高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC…

本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作製することが可能な装置です。太陽電池における光吸収層であるi層、およびpn層の各層が分離形成できるように、3つの薄膜堆積チャンバー、試料搬送用ロボットチャンバー、試料ストックチャンバーの合計5室で構成しております。...本装置は高周波プラズマCVD法およびホットワイヤーCVD法を用いた微結晶SiC太陽電池を作...

メーカー・取り扱い企業：北野精機株式会社

PE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics 』

専用の真空蒸着装置を用い、気体として蒸着！コンポーネントの割れ目に…

株式会社メディア研究所ではEuroplasma社のPE CVDコーティング装置『CD1000 Nanofics SE』を取り扱っております。 Europlasma社のPE CVDコーティング装置は日本で主流とされている液体コーティングとは異なり、気体としての蒸着を行い、液体では入りきれないコンポーネントの細かな隙間・割れ目まで均一なコーティングを実現いたします。またプラズマを付加する...

メーカー・取り扱い企業：株式会社メディア研究所

立体物対応実験用プラズマCVD装置

対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等！基板加熱機構付き（最高設定…

当社で取り扱う『立体物対応実験用プラズマCVD装置』をご紹介いたします。立体物に成膜可能で、対応可能膜種はDLC、アモルファスSiC等。 PC操作（シーケンサー制御）で、全自動、データロギングが可能です。当社では実験装置から生産装置まで、お客様のご要望、ご予算に合わせて装置を設計、製造いたします。ご用命の際はお気軽にお問い合わせください。【特長】 ■立体物に成膜可能...

メーカー・取り扱い企業：株式会社DINOVAC

受託加工『CVD-SiCコーティング』

高硬度、耐熱、半導体特性、化学蒸着法炭化ケイ素 CVD-SiC

『CVD-SiCコーティング』は、高硬度、耐熱性、耐磨耗性に優れた半導体特性を持つ薄膜です。当社独自のCVD法により半導体装置部品等にも適応可能なグレードを保ち、高純度のSiC膜を最大2mm以上析出してバルクのSiCを作成しております。【特長】 ■高硬度 ■優れた耐熱性 ■優れた耐磨耗性 ■半導体特性を有する ■半導体装置部品等にも適応可能 ※詳しくはカタロ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社インターフェイス

PVD CVD コーティング膜の特性と選定方法【下地処理編】

金型に適したコーティング（PVD , CVD)を選定できてますか？工具…

ピーニングや窒化といった金型向けの下地処理は、硬質膜と併用することで金型の工具寿命は飛躍的に向上させることが知られています。今回は当社が行う下地処理であるDM処理と窒化処理について解説しています。【掲載内容】 ■硬質膜の特性と間違えない選び方 ■当社独自のDM処理について ■窒化処理（ラジカル窒化）について ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問合せください。....

メーカー・取り扱い企業：フジタ技研株式会社

PVD・CVDセラミックコーティング『セラミックサーフェス』

お客様の求められる最適なコーティング技術とサービスをご提供します！

『セラミックサーフェスシリーズ』は、PVD・CVDセラミックコーティングを主体とした表面処理技術です。イオンプレーティングにより高密着、高硬度コーティング膜の生成を行う「PVDコーティング」をはじめ、「ハイブリッドPVDコーティング」や「DLCコーティング」などを提供しています。【特長】 ■耐摩耗性 ■低摩擦摺動性 ■離型性 ■耐熱性 ■耐擬着性 ※詳し...

メーカー・取り扱い企業：日本エムティ株式会社

ホットワイヤーソース『HWCV/DCAT-CVD/ICVD』

触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向け！統合されたガス分配システ…

当社では、触媒CVDおよびiCVDアプリケーション向けにホットワイヤーソースを提供しています。インラインおよびダイナミック製膜プロセスには特殊な直線形エネルギー源が利用可能。特殊設計のソースフランジ、すばやく取り付けができるワイヤーコンポーネントによって構成されており、必要に応じて、単にユニット毎に交換することで、このワイヤーコンポーネントダウンタイムを短縮できます...

メーカー・取り扱い企業：フォンアルデンヌジャパン株式会社

グラフェン開発用小型熱CVD装置 SFCVシリーズ

大学・研究機関でグラフェンなど炭化水素系化合物での各種材料開発に適した…

少量・小サイズのテストピースが簡単な操作で作れるように小型化し、同時に大幅なコストダウンを実現しました。また、従来小型では困難とされてきた5～100Pa での圧力コントロール機能を備え、より多様な処理パターンに対応可能としました。さらに炭化水素系の可燃性ガスに対しては、警報検出による機器停止、大気放出ガス希釈ユニットなどの安全装置を備えています。詳しくは、カタログをダウンロ...

メーカー・取り扱い企業：佐藤真空株式会社

CVD三層コーティング

引抜用ダイス、プラグに広く利用され実績が多いコーティングです！

トーワデンコウ株式会社では、薄膜・微粒子・バルク・コンポジットなど多様な形状の材料を得ることができる「CVD三層コーティング」を取り扱っております。セラミックス・金属・半導体・有機高分子など合成できる物質が多様で超LSIに代表されるサブミクロンの微細加工からメートル規膜の配管材料のコーティングに至るまで幅広い分野で応用されています。【特長】 ■超硬合金の母材の上に...

メーカー・取り扱い企業：トーワデンコウ株式会社

プラズマCVD装置『PEGASUS』

低温成膜。高絶縁、ハイバリア、均一性！

『PEGASUS』は、メモリ、パワーデバイス、MEMSへの絶縁膜、保護膜の形成プロセスに低温で緻密な安定した成膜が可能な量産対応型プラズマCVD装置です。インターロック機構による、高い安全性を持ち合わせており、ウエハ接触部位に非金属を使用しているため、裏面からの汚染を防止します。【特長】 ■低温成膜 ■メンテナンス性 ■ウエハ取扱い ■フットプリント ■保守メンテナンス　など ※詳...

メーカー・取り扱い企業：株式会社セルバック