無機防汚コーティング剤『エクセルピュア』による気化冷却効果

PR親水性による水膜形成で気化冷却を促進。空調室外機や屋根の散水冷却などに…

『エクセルピュア』は、アクリル、ポリカーボネート、PET、 ガラスなどの基材表面に超親水被膜を形成するコーティング剤です。 親水性により、被膜表面に付着した水分が薄い水膜を形成し、 水分の蒸発が促進されることで気化冷却効果が生まれ、 施工部分の冷却効率が改善されます。 ★PDFダウンロード”より、本製品のカタログのほか 　散水後の表面温度観察結果をまとめた資料をスグにご覧いただ...

メーカー・取り扱い企業： 中央自動車工業株式会社 営業開発部　営業推進グループ

偏光ビームスプリッター ワイヤグリッドタイプ・キューブ型

PRカスタマイズ可能なワイヤグリッド偏光ビームスプリッター、入射角依存の少…

WGF(TM)を使用した、ワイヤグリッド偏光ビームスプリッターキューブタイプ（WGF(TM) PBS)です。 すでにハーフミラーをお使いの場合、WGF(TM) PBSに替えることで輝度向上が期待できます。 縮小系でも色や偏光度が部分的に変わることはなく、画像検査の精度を向上させます。 入射角依存が少なく、安定した光学性能を維持します。 ※WGF(TM)は旭化成の製品です。...規格品　WP...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社オプティカルソリューションズ

＜微細加工の受託サービス＞電子ビーム(EB)描画加工

フォトマスクが不要！100nm以下の超微細パターンの形成が可能です

BE描画に精通したエンジニアが丁寧にヒアリングし、 必要に応じて前後のプロセスも含めて提案させていただきます。 【特長】 ■フォトマスクが不要 ■デバイスパターンの変更が容易 ■100nm以下の超微細パターンの形成が可能 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社FKDファクトリ

UV装置

【ランプ寿命は長寿命】低ランニングコストで経済的！

UV装置は、紫外線(UV)を用い、基板表面の有機物を除去する為の装置です。 【特長】 ■自社製低圧水銀ランプにより発生する185nm、254nm波長の紫外線効果により 　基板表面の有機性汚れを除去します。 ■ランプ寿命は6000時間保証。低ランニングコストを実現。 ※詳細は資料請求して頂くかダウンロードからPDFデータ...

メーカー・取り扱い企業： クリーン・テクノロジー株式会社

近赤外無限遠f=200mm結像顕微鏡

InGaAs(SWIR) カメラ対応顕微鏡

InGaAs(SWIR)カメラに対応。 900-1700nmで高透過率のf=200mm結像鏡筒。 1.1インチセンサー対応 Cマウント 同軸ケーラー照明 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

MWC6000

MWC6000

これにより装置の設置場所の制約がなくなり、より自由度のあるレイアウトが可能です。またこの機能により動作速度も速くなり各位置への移動時間が150msと従来比1／2になりました。また位置決め精度も400nmで 高精度化と高速化を両立しています。この装置のアプリケーションはWaferレベルの高精度部品実装とWaferレベルで光学部品を製造したり、検査・切断用のステージやMEMS等のWafer上への高精度...

メーカー・取り扱い企業： AJI株式会社

表面改良コンポーネント

表面改良コンポーネント

オーダーメイド品を製造・販売している ケニックス社の『表面改良コンポーネント』のご案内です。 ■□■ラインナップ■□■ ■172nm真空紫外光によるエキシマ光源 ・低温、ダメージレス処理 ・エネルギー効率の高い単一波長 ・有機ELの仕事関数アップ ■ハンディータイプの大気圧プラズマ ・コンパクト設計 ・取り扱いが簡単...

メーカー・取り扱い企業： ケニックス株式会社

有限会社鶴丸産業 事業紹介

研磨業を通じて、お客様の発展に寄与し、地域と共に豊かな未来を想像し続け…

て片面研磨も可） 　　薄物では0.180mmまで可能 　・ワークサイズは最大420φ・310×310から最小5φ・5×5まで可能 　・厚み公差精度は±1μm 　・表面粗さは0.002μm（2nm） 　・少量、多品種、短納期を得意とします 　・硝材購入からの加工可 ■金属部 　・金属円筒内外鏡面研磨加工 〔主要加工品名〕 　・半導体製造装置の部品（SUS）継ぎ手、バルブ他、各種 ...

メーカー・取り扱い企業： 有限会社鶴丸産業

MEMS・半導体パッケージ用塗布装置

最先端のMEMS・半導体パッケージプロセスをはじめ、各種実装プロセスに…

ウエハレベルCSP用／ TAB用／COF用など、広範な生産技術に対応。 ・面内均一性に優れ、50nm ～ 100μmレベルの薄膜・厚膜形成が可能 ・塗布事例：薄膜・厚膜・凹凸・貫通穴への精密コーティング ・装置の販売及び実験、受託テストも行えますのでお客様の用途、環境に合わせてご提案致します。...

メーカー・取り扱い企業： ブルーオーシャンテクノロジー株式会社

ガラスマスクの加工

エマルジョンガラス、クロムマスクの加工

スク／エマルジョンマスク ■材質：石英、青板／青板／青板 ■熱膨張係数[/℃(常温～200℃)：5×10⁻⁷、8.1×10⁻⁶／8.1×10⁻⁶／8.1×10⁻⁶ ■透過率：90%以上(200nm)、80%以上(365nm)／80%以上／80%以上 ■平面性：10μm/オーバーオール／250mR以上(曲率半径)／250mR以上(曲率半径) ※詳しくはカタログをご覧頂くか、お気軽にお問...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ラットコーポレーション 本社：営業部・業務部

多結晶サーマル

1,000W/mKから2,000W/mK以上までの熱伝導率を設計！多結…

】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：< 0.2mm ■レーザーのカーフ：3 ■厚さの許容：+/-0.05mm ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

焼結ダイヤモンドの研削 加工事例

PCDの高速高圧研磨を実現！高速高圧研削加工

どの基板は 硬く脆い性質を持った研磨加工の難しい素材です。 その中でも、特に加工の困難な焼結ダイヤモンドの 研磨を実現した加工事例をご紹介いたします。 【研磨結果】 ■表面粗さ＜3nm ■加工時間4時間（従来の方法での加工時間10時間） ■高速高圧研磨装置『EJW-400HSP』と 　固定砥石 『MAD Plate』を使用することで 　6時間の加工時間の短縮を実現 ...

メーカー・取り扱い企業： 日本エンギス株式会社

『青色半導体レーザ』高出力ファイバ結合型

コストパフォーマンスの高いレーザシステムです。 用途に合わせたビーム…

、50W、200Wをラインナップ、目的のアプリケーションにより選択できます。 また、光ファイバコア径φ１００μｍを採用、小径ビームでの微細加工に適しております。 【特長】 ■波長450nm ■最大出力20W、50W、200Wをラインナップ ■光ファイバコア径φ１００μｍを採用 ■弊社独自の緑色ガイド光（520nm)標準装備 ※詳しくはPDFをダウンロードして頂くか、お気軽...

メーカー・取り扱い企業： マイクロエッヂプロセス株式会社

多結晶メカニカル

0.25mmと0.50mmの厚みをラインアップ！多結晶メカニカルのご紹…

をご用意しています。 【仕様と公差】 ■横の許容：+0.2/0-0mm ■エッジ：レーザーカット ■端の特長：<0.2mm ■レーザーカーフ：3 ■側面1、粗さRa：研磨、Ra＜50nm ■側面2、粗さRa：ラップ、Ra＜250nm ■厚さの許容：+/-0.05mm ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 合同会社SUPERHARD JAPAN

サファイア真空覗き窓(ビュ-ポート）

特許的な異質材質溶接技術で溶接しているサファイア真空覗き窓

することがない。 ◎広範囲波長でも安定な透過率を持つ。 製品仕様 1.真空度：1x10-10 torr 2.許容温度: -100℃～500℃ 3.透過率:80％以上 4.波長範囲:200nm～4800nm 5.フランジ材質:304S.S.或は316S.S. 6.フランジ接続:KF或はCF 7.磁性:無 ...

メーカー・取り扱い企業： 日揚科技股份有限公司

ナノインプリント装置

繰り返し精度＝20nm!!!

代替パターニングとして （テラバイト光ディスク、ＬＥＤ、マイクロレンズ、拡散フィルム、高密度パッケージ等）に最適です。 研究開発用、量産に対応いたします。 超高精度　　繰り返し精度＝20nm ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

レーザーリペア装置

全自動リペアにも対応！

レーザー1064.532.355nm 繰り返し周波数1~50Hz パワー0.6~2m/単板、セルの安全修正及びアドレス通信による全自動リペアにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社清和光学製作所

半導体向けポリエチレンフィルタ Photopex PE

用途に応じた幅広い孔径（1nm相当の微細孔径も）と清浄度を有するポリエ…

Cobetter Photopexシリーズは、最先端1nm相当から5μｍ相当まで幅広い孔径を有する高Retentionのフィルタであり、半導体製造プロセスのLithography工程を初めとする厳しい要求にMeetする清浄度を有します。 この高い清浄度の...

メーカー・取り扱い企業： 日本コベッタ株式会社

ナノスピードディップコーター(カタログ配信中)

産業界に革新をもたらす超低速ディップコーター。これまでにない次元へと進…

【主仕様】 1.ストローク: Z軸:150mm、X軸:150mm 2.最小速度: 1nm/sec 3.最大速度: 60mm/sec 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数: 16ポイン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

ナノスピードディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

ディップ速度、超低速度の1ナノm/sec、3次元制御を実現!！

【主仕様】 1.ストローク: Z軸:150mm、X軸:150mm 2.最小速度: 1nm/sec 3.最大速度: 60mm/sec 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指定ポイント数: 16ポイン...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

マイクロスピードディップコーター(デモ機、レンタル機貸出中)

"微細な未来を形に。1μm/secの究極の精密ディップコーターで革新を…

【主仕様】 1.ストローク: 150mm 2.最小速度: 1μm/sec (1nm/sec) 3.最大速度: 60mm/sec (2mm/sec) 4.操作方法: タッチパネル 5.画面文字: 日本語/英語 6.処理速度変更ポイント数: 16ポイント 7.停止位置指...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ＳＤＩ

UV(紫外線)フィルム硬化装置｜LED光源仕様「UVC-300」

LED光源で長寿命！ 波長 365nmの紫外線（UV）を照射

LED光源を使用した、UVフィルム硬化装置です。 従来の装置と同水準の装置価格のままで、ランニングコストを1/10以下に抑えることができます。 水銀灯やメタルハライド光源と比較して、硬化性能（硬化状態、硬化スピード）はより良好なレベルを実現しています。 その他、本装置は下側照射や上側照射をはじめ、カスタム仕様の対応、装置組み込み用途などのモジュール化にも対応いたします。...■特長 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社テクノビジョン 本社

レーザー樹脂溶着装置　デモ機活躍中

2021年8月より稼働を開始したレーザー樹脂溶着でも装置。精力的に稼働…

【技術データ】 ■レーザー安全クラス：1 ■レーザー出力：200W ■レーザー波長：980nm ■加工フィールド：150mm x 110mm ■電源：400V - 3Ph/N/PE, max. 3kW ■エア：6bar ■環境条件 　・最高周辺温度40℃ 　・最高湿度 25℃、8...

メーカー・取り扱い企業： LPKF Laser&Electronics株式会社

『電解複合研磨』

ナノレベルまで平滑化・高均質・清浄！3次元形状の製品まで対応致します！

(特にステンレス製品)の研磨面は、 超精密鏡面となり美観の向上にもなります。 さらに、当社では電解複合研磨の耐食性をさらに上げる表面処理技術 「SUSECP」を開発し、表面粗さRa=2.7nmに更なる高耐食性を実現しました。 【特長】 ■複雑形状の施工 ■超鏡面 ■高均質性 ■高耐食性 ■高真空性 ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 三和産業株式会社

レーザースクライバー『SS-400BG2』

固体レーザ光を利用し電子部品基板のスクライブ加工が可能なレーザスクライ…

【仕様】 ■レーザ波長：1064nm ■操作速度：350mm/s ■対位置精度：±5μm以下 ■ワークセット数：100枚 ※詳しくは関連リンクページをご覧いただくか、お気軽にお問い合わせ下さい。 ...

メーカー・取り扱い企業： 西進商事株式会社

6-Dメカニカルステージ

6-Dクオリティで最高級のメカニカルステージ

Yの自由曲線 ・X-Yストローク：60ー30mm ・Zストローク：6ー10mm ・Θストローク：360° ・Tilt X - Tilt Yストローク：±3ー±18° ・分解能：直動: 5nm, 角度: <0.04秒 ●詳しくはお問い合わせ、またはカタログをダウンロードしてください。...

メーカー・取り扱い企業： オーテックス株式会社

3Dスプレーコーター　API-240-3DS

任意の３D形状に塗布できる3Dスプレーコーター。レーザースキャナーで基…

塗布サイズ：600mm x 400mm 塗布精度　：液供給の再現性　1%以下　、　膜厚均一性　±5-10%程度 ヘッドスピード：最大1m/sec 塗布膜厚：10nm - 100um程度 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アピロス 本社

【国産】真空プラズマ装置(49万)大気圧プラズマ装置(34万)

表面改質・洗浄に優れた低温電荷ダメージ無し！真空・大気圧プラズマを安価…

り合せ　・MEMSの接着強化　・歯科医療 ・医療用チューブの洗浄　　　・細胞培養の前処理　など・・・ 【粉体の表面改質】 ・カーボンナノチューブ・炭素粉体・セラミック・シリカなど 　μ～nm粒径まで親水性を向上致します！ 無償デモ処理実施中！...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社魁半導体

真空対応ピエゾステージ

高真空環境に対応した超小型精密位置決めステージ

装置など狭スペースへの設置が可能です。駆動原理にピエゾ素子を用いており、非常に精密かつスムースな動作でサンプルの位置決めを行えます。広い動作範囲（最大30cm）と非常に細かい動作分解能（最小0.25nm）を併せ持ち、観察倍率に合わせて動作スピード（分解能）を切換えながら操作します。LTシリーズのラインナップは、サイズ・可動範囲・エンコーダーの有無によって区別されます。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

光学顕微鏡向け マイクロマニピュレータ

既存の光学顕微鏡やマイクロスコープに後付け可能（パッチクランプ法、ナノ…

MM3A-LMP、MM3A-LSは、光学顕微鏡やマイクロスコープのステージ周りに取付けされます。微動モード（nm動作分解能）と粗動モード（長距離移動用）を併せ持ち、ナノスケールの超微細動作を広い領域で行えます。 ● 操作系にジョイスティック（PS2）を採用することで、誰にでも直感的な操作が出来ます。 ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社アド・サイエンス

両面同時露光マスクアライナー『BS425』『BS620』

ウェハ表裏同時露光！セミオート動作で中ロット生産に対応

ウェハサイズ変更は上下マスクホルダー交換 ■露光性能 　・有効露光範囲φ105mm Hgランプ250W ■UV照度 　・上側約15mW／cm2以上 　・下側15mW／cm2以上（at365nm） 　・照度均一度約±10％ ■露光解像度：ライン＆スペース3μm 　・デバイスの最終加工精度ではありません。 ■露光方式：コンタクト方式（コンタクト圧可変式） 　・ウェハ上面のみプロキシ...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ナノテック

【高耐食性Y2O3/YOF膜事例】エッチング装置部品の保護膜に

溶射やエアロゾルデポジションによる保護膜より遥かに耐食性・耐プラズマ性…

韓国で5nmといった最先端の微細化技術を使った製造プロセスで採用されるという実績をもとに、当社は2019年に日本で設立されました。日本の半導体製造業をサポートすべく、エッチング装置部品に成膜致します。第一段階と...

メーカー・取り扱い企業： つばさ真空理研株式会社 横浜ラボラトリー