シリコン半導体の工程等、クリーンなプロセスに！メタルフリータイプ

メタルフリータイプは、金属を極限まで排除し、より高次の清浄性を！シリコ…

タイプに比べ、金属元素を使用しない 設計のため、金属汚染が気になるお客様でも安心してお使い頂ける製品です。 表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用しており、 基板には標準規格のシリコンウエハを使用。半導体前工程での利用を想定し クリーンなプロセスで利用できるよう設計しています。 【特長】 ■金属元素を使用しない設計 ■表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用 ■...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社サクラクレパス PI事業部

サービス紹介『MEMSファンドリーサービス』

MEMSデバイス試作から量産まで！お客様の未来創りをMEMS技術でお手…

シリコンセンシングのMEMSファンドリは1999年創業以降の自社MEMSジャイロセンサの生産実績を生かし、お客様のニーズにお応えしたMEMS開発・生産受託を行います。 PZT圧電薄膜、Si深掘りエッチング、ガラス加工、ウエハ接合など、自社ジャイロ製品へのユニークな要素技術開発にて培った豊富なノウハウを生かし、お客様をサポートいたします。 【サービス紹介】 ○PZT圧電薄膜成膜・エッチング...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン

成膜加工

薄膜形成からパターニング及びメッキ加工まで一貫したプロセスで対応可能！

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。豊和産業株式会社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等のベース材に行う気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングです。 液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応がで...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

す。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。 【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○8，12インチ用装置も設計可能 その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社電子技研

薄膜形成

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。 弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、 フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・ イオンプレーティングです。 液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応がで...

メーカー・取り扱い企業： 豊和産業株式会社

『機能性薄膜の受託加工サービス』

柔軟な対応と30年の実績！多岐に渡るご要望に応える、高機能受託加工サー…

、TiN　など 　・二元蒸着による合金膜の生成 　・各種積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr、SiO2/Al　など ■基板材質 　・シリコンウエハ　など 　・ガラス材：石英、ホウ系酸ガラス　など 　・セラミックス：サファイヤ材、SiC材、AIN材　など 　・金属材：Al材、Ti材、SUS材 　など 　・樹脂：PET、PEN、PI...

メーカー・取り扱い企業： 東邦化研株式会社

【コーティング事例】シリコンウエハ基板へのTiN膜コーティング

Alスパッタ＋陽極酸化に耐える事ができ、規格を満たす事ができた事例をご…

東京都八王子市にある首都大学東京様からシリコンウエハ基板にAlを スパッタし陽極酸化処理を施したいが、密着性や特性等が規格を 満足する事がでいず困っていると相談がありました。 TiN膜を初層に成膜することにより、どのような変化を示すの...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社ケンコー・トキナー 本社