OSK 481TVK-V 1200℃　真空管状炉

1200℃最高温度の真空管状炉　 石英・セラミック炉心管対応

OSK 481TVK-V 1200℃　真空管状炉は、作業チューブを自由に交換できる画期的な製品です。 この炉は、反応器の加熱プロセスやシリコンウエハの生産に伴う研究開発に最適です。発熱体は炉心管とは隔離しており、高品質の断熱材で覆われています。その結果、低電力使用量と高精度を実現しました。 また、短い加熱/冷却期間とマイクロプロセッサ温...

メーカー・取り扱い企業： オガワ精機株式会社

平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…

は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。 各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。 クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。 樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。 試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。 詳しくはお問い合わせ、ま...

メーカー・取り扱い企業： 株式会社米倉製作所