シリコンウエハ | イプロスものづくり

メタルフリータイプは、金属を極限まで排除し、より高次の清浄性を！シリコ…

タイプに比べ、金属元素を使用しない設計のため、金属汚染が気になるお客様でも安心してお使い頂ける製品です。表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用しており、基板には標準規格のシリコンウエハを使用。半導体前工程での利用を想定しクリーンなプロセスで利用できるよう設計しています。【特長】 ■金属元素を使用しない設計 ■表面のインジケータ膜は有機系の材料のみを利用 ■...

メーカー・取り扱い企業：株式会社サクラクレパス PI事業部

半導体ウエハ搬送容器　SHIPPING BOX

半導体技術の基盤であるウエハを物理的・化学的に安全かつクリーンに搬送！

Xは、半導体技術の基盤であるウエハ（φ300mm～φ50mm）を物理的・化学的に安全かつクリーンに搬送します。半導体の製造工程及びその前後工程での保管・搬送にご利用頂けます。また、容器の材質はシリコンウエハのみならず化合物半導体、石英ガラス、セラミック等の各種ウエハにも対応可能です。変動の激しいＩＴ業界でＱＣＤともご満足戴き、その上、環境にも優しい搬送容器をご提供致します。詳しくはお問い合わ...

メーカー・取り扱い企業：三甲株式会社物流ソリューションサービス

ME-5000　枚葉式スピンエッチャー　

ウエハ300mm、両面処理対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーで…

『ME-5000』は、シリコンウエハ300mm/８.6.4インチ、８.6.4インチSiC及びGaNウエハ対応型メカグリップの枚葉式スピンエッチャーです。エッチングチャンバーの上下可動方式で２本のアームによる動きは旋回、上下運...

メーカー・取り扱い企業：マック産業機器株式会社テクノロジーセンター

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハケース（Wafer Case）

シリコンウエハ、サファイアウエハ、SiCウエハ、ガラス基板など各種基板…

■　商品名：ウエハケース/ウエハ容器/カセットケース/Wafer Case ■　サイズ：2インチ用、2.5インチ用、3インチ用、4インチ用、5インチ用、6インチ用、8インチ用、12インチ用 ■　種類：25枚入り、1枚入り（シングルケース）、洗浄用ケース、その他 ■　受注ロット：50個より（在庫品は10個からOKです）...ウエハケースは意外にコストが掛ります。弊社では2インチから12インチま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社同人産業

《新型》セミオートUDSスピン枚葉装置

RCAは勿論、現像、エッチング、洗浄、剥離、リフトオフなど！各種プロセ…

当装置は、薬液の完全分離・再利用を達成し、薬液処理⇒リンス⇒乾燥のフルプロセスをワンスピン処理可能なマニュアルSpin枚葉処理装置です。フットプリントやコストの大幅な削減ができ、《特許取得成立済み》丸形状の基板は勿論、角形状基板にも対応可能。「RCA」は勿論、「現像」「エッチング」「洗浄」「剥離」「リフトオフ」と言った各種プロセス処理に対応実績多数です。【特長】...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

スピン＆コンベア処理装置　（エッチング・洗浄・剥離）

高品質基板を高スループット且つ低コストで提供可能！

■エッチングや洗浄プロセスに最適です。 ■薬液処理はスピン方式で、リンス乾燥はコンベアー方式 ■W-レーンで更なる高スループット対応した実績有り。 ■エッチング時の危険な腐食性ガス対策　◎スピンチャンバー部に前後シャッターやローラーを具備 ■薬液の温調循環再利用機能や排水の濃厚/希薄分離機能を有します。 ■リンス時のスィングスプレー機能も搭載可能 ■リンス水飛沫の再付着防止を考慮し...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

金 /銀 / アルミ / ITO コート基板

金 /銀 / アルミ / ITO コート基板 (スライドガラス / …

回折(XRD)、半導体等、多種多様な研究用途に原子間力顕微鏡(AFM)、走査型電子顕微鏡(SEM)、透過型電子顕微鏡(TEM)他電子顕微鏡全般でご使用ください。スライドガラスのみならずシリコンウエハや雲母基板もございます。金(Au)/銀(Ag)/アルミ(Al)/ITOコートがメインです。高反射率の金蒸着スライドはSEMによる反射電子像【BSE(Back Scattered Ele...

メーカー・取り扱い企業：株式会社和貴研究所千葉県松戸市小金原7-10-25

《新型》スピンスクラブ自動洗浄装置　（CMP後・研磨後洗浄）

量産現場向け　高信頼性自動スクラブ洗浄装置

■「CMP後や研磨後洗浄」「受け入れ洗浄」「Final洗浄」としての量産現場に最適 ■マスクのコンタクト露光時に付着した「レジスト除去」にも対応可能 ■2-チャンバー構成で1.8分/枚にも対応実績有り ■「反転機能」「ブラシ押込み量設定機能」「CO2イオナイザー」等のオプション対応が可能 ■ベベル部汚れには「高圧Jet」「DIW2流体」で対応 ■裏面コンタミフリーを基本コンセプト　◎...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

LT・SiC等2〜6インチ小径ウェハ両面同時薬液スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れない搬送・乾燥と異物、金属汚染の除去を可能にした薬液…

ポリッシュ後の研磨スラリーをディスクスクラブ洗浄で除去し、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥できる枚葉洗浄装置です。強固着物の除去と薬液スプレーによる金属汚染除去が可能で、オプションで端面同時のスクラブ洗浄も対応できます。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ4”　厚みについては応相...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

サービス紹介『MEMSファンドリーサービス』

MEMSデバイス試作から量産まで！お客様の未来創りをMEMS技術でお手…

シリコンセンシングのMEMSファンドリは1999年創業以降の自社MEMSジャイロセンサの生産実績を生かし、お客様のニーズにお応えしたMEMS開発・生産受託を行います。 PZT圧電薄膜、Si深掘りエッチング、ガラス加工、ウエハ接合など、自社ジャイロ製品へのユニークな要素技術開発にて培った豊富なノウハウを生かし、お客様をサポートいたします。【サービス紹介】 ○PZT圧電薄膜成膜・エッチング...

メーカー・取り扱い企業：株式会社シリコンセンシングシステムズジャパン

成膜加工

薄膜形成からパターニング及びメッキ加工まで一貫したプロセスで対応可能！

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。豊和産業株式会社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等のベース材に行う気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングです。液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応がで...

メーカー・取り扱い企業：豊和産業株式会社

OSK 481TVK-V 1200℃　真空管状炉

1200℃最高温度の真空管状炉　石英・セラミック炉心管対応

OSK 481TVK-V 1200℃　真空管状炉は、作業チューブを自由に交換できる画期的な製品です。この炉は、反応器の加熱プロセスやシリコンウエハの生産に伴う研究開発に最適です。発熱体は炉心管とは隔離しており、高品質の断熱材で覆われています。その結果、低電力使用量と高精度を実現しました。また、短い加熱/冷却期間とマイクロプロセッサ温...

メーカー・取り扱い企業：オガワ精機株式会社

省スペース型「スピン洗浄装置（多目的洗浄タイプ）」

１チャンバー型多目的スクラブ洗浄。１チャンバーで異物、金属汚染を取り除…

各種サイズ、各種ウエハの、界面活性剤、純水スクラブ、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までを１チャンバーで行う枚葉装置です。１つの洗浄層の中で洗浄が完結できる省スペース型のためスペースの限られた場所にも適しています。単機能のスクラブ洗浄装置についてはご相談ください。【特長】 ■洗浄・リンス・乾燥まで1か所で行える ■被洗浄対象ウエハ：シリコン、石英、酸化物、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

平板型赤外線加熱炉　IR-FP Series

赤外線集光加熱により秒速・高温・均一加熱が可能です。お客様のニーズに合…

は、Max1100℃まで加熱可能な平板型の赤外線加熱炉です。各ゾーンごとの出力調整が可能なため、色々な温度環境での加熱が可能です。クリーンな加熱で真空対応やガスフロー、観察も可能です。シリコンウエハ、化合物半導体及び薄版鋼板加工の加熱に最適です。樹脂やフィルム、接着剤の耐熱・変形・観察の用途に使用できます。試料サイズにより炉サイズの対応が可能です。詳しくはお問い合わせ、ま...

メーカー・取り扱い企業：株式会社米倉製作所

全自動バッチ処理装置（基板再生・エッチング・RCA洗浄等）

高スループット　高信頼性　低コストなバッチ式処理装置

■カセットタイプのバッチ式処理装置です。 ■APM/MS、SPM、HPM、DHF等のRCAプロセスに対応したバッチ処理に最適 ■有機剥離やPoly-Si再生等の基板再生処理にも対応します。 ■MEMS等異方性エッチにも対応実績有り ■300mmまで実績がございます。 ■S/DやIPA蒸気乾燥、温水引き上げ乾燥の各種乾燥ユニットに対応　◎IPA蒸気乾燥では、ウォータマーク抑制機能を搭載...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ソフエンジニアリング

真空装置　平行平板評価用プラズマ処理装置　　

半導体、液晶の微細パターニング、DNAチップ製造など微細異方性加工に広…

す。プロセス再現性を重視し電極温調用チラー、ＡＰＣを標準装備し、高真空プロセス対応のターボポンプを増設することができます。【特長】 ○RIEプラズマエッチング装置 ○6インチまでのシリコンウエハ、小型角基板の異方性エッチングが可能 ○8，12インチ用装置も設計可能その他詳細は、カタログをダウンロード、もしくはお問合せ下さい。...

メーカー・取り扱い企業：株式会社電子技研

シングルチャンバー型「ウェハ用多目的スピン・スクラブ洗浄装置」

1チャンバーで異物・金属汚染を取り除く省スペースな洗浄装置！洗浄方法の…

各種ウェハの界面活性剤・純水スクラブ洗浄、薬液スプレー、メガソニックスポットシャワー、スピン乾燥までの工程を１つのチャンバーで行う枚葉装置 ◇　シングルチャンバーで完結する省スペース型 ◇　Si（シリコン）、LT（リチウムタンタレート）やSiC（炭化ケイ素）他、　　各種ウェハに対応 ◇　異物（有機物・無機物）の除去、金属イオンの除去 ◇　洗浄項目・装置構成の変更に柔軟に対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

薄膜形成

薄膜形成技術は、物理的気相法（PVD）・化学的気相法（CVD）・液相法で分ける事ができます。弊社で対応可能な薄膜形成技術は、ガラス、シリコンウエハ、セラミックス、フィルム等の素材に気相成長法の抵抗加熱・ＥＢ蒸着・スパッタリング・イオンプレーティングです。液相成長法では、電解メッキ・無電解メッキ・ゾルゲル法を用いた加工対応がで...

メーカー・取り扱い企業：豊和産業株式会社

Si フォトダイオード (TOパッケージ) (Si PD)

◆逆バイアス状況下で駆動◆大口径、四角形もラインナップ◆低ダークカレン…

■スペクトル検出範囲：400nm～1100nm LD-PDはMIL-I-45208に準拠した検査システムを導入しており、 Telcordia試験要件（TA-NWT-00093）およびMIL-STD-883試験方法に準拠しています。【パラメータ：Typical値・シンボル・試験条件】 ●丸形φ0.2～φ8.0mm ディテクタサイズ(mm)：φ0.2、φ0.5、φ1、φ2、φ4、φ5、...

メーカー・取り扱い企業：株式会社オプトロンサイエンス

100V-350Wシリーズ＜NCH型＞

熱可塑性樹脂のカシメの熱源に好適！当社のヒーターをご紹介します

当社で取り扱う「100V-350Wシリーズ(NCH型)」についてご紹介いたします。製罐の印刷前の予熱､空芯コイル等巻線機の熱融着線加熱接着剤の加熱乾燥など様々な用途で使用可能半導体シリコンウエハの乾燥工程医療機器等､超極小部品部材への銀ろう付バリ取り当製品は、小容量はAC100V-100Wより大容量200V-3KWまでご希望のヒーター容量(W)、外形、指定寸法、材質、ガラス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東洋テクニカル

『機能性薄膜の受託加工サービス』

柔軟な対応と30年の実績！多岐に渡るご要望に応える、高機能受託加工サー…

、TiN　など　・二元蒸着による合金膜の生成　・各種積層膜：Au/Ni/Cr、Au/Pt/Ti、Au/Pd/Ti、Au/Cr、Cu/Cr、SiO2/Al　など ■基板材質　・シリコンウエハ　など　・ガラス材：石英、ホウ系酸ガラス　など　・セラミックス：サファイヤ材、SiC材、AIN材　など　・金属材：Al材、Ti材、SUS材　など　・樹脂：PET、PEN、PI...

メーカー・取り扱い企業：東邦化研株式会社

200V-1KWシリーズ＜NCH型＞

空芯コイル等巻線機の熱融着線加熱に好適！当社のヒーターをご紹介

当社で取り扱う「200V-1KWシリーズ(NCH型)」についてご紹介いたします。表面実装タイプ部品のはんだ付や熱可塑性樹脂のカシメの熱源、液剤の加熱など様々な用途で使用可能。半導体シリコンウエハの乾燥工程医療機器等､超極小部品部材への銀ろう付バリ取り当製品は、小容量はAC100V-100Wより大容量200V-3KWまでご希望のヒーター容量(W)、外形、指定寸法、材質、ガラス...

メーカー・取り扱い企業：株式会社東洋テクニカル

SOA (半導体光増幅器) C-band

◆ノイズフィギュア：≤8dB ◆CoS・バタフライパッケージ ◆シ…

◆低リップル(≤0.3dB)、高利得(≥20dB)・広帯域(≥45nm) ・利得(ゲイン)：≥20dB ・リップル：≤0.3dB Denselight社ではCバンド帯の半導体光増幅器(SOA)をリリースしております。本製品は両面にARコーティングを施した低リップルのSOAで、安定した温度で動作させた場合、高い利得と広い帯域幅を持つように設計されています。本SOAをフリップチ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社オプトロンサイエンス

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

【コーティング事例】シリコンウエハ基板へのTiN膜コーティング

Alスパッタ＋陽極酸化に耐える事ができ、規格を満たす事ができた事例をご…

東京都八王子市にある首都大学東京様からシリコンウエハ基板にAlをスパッタし陽極酸化処理を施したいが、密着性や特性等が規格を満足する事がでいず困っていると相談がありました。 TiN膜を初層に成膜することにより、どのような変化を示すの...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ケンコー・トキナー本社

ウエハ洗浄装置「両面スクラブ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

ウエハ洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（研究開発用）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社ゼビオス（XEVIOS CORP.,）

小径ウェハ（LT・SiC等2〜6インチ）両面同時スクラブ洗浄装置

ワーク表裏面に触れずに搬送・乾燥が可能なスクラブ洗浄装置！独自機構の表…

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット

ウエハー洗浄装置「両面ブラシ洗浄装置（量産型）」

ワークの表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。

ポリッシュ後の研磨スラリーを界面活性剤、純水によるスクラブ後、メガソニックスポットシャワーによるリンス、スピン乾燥までを行う枚葉装置。ワーク表裏面に触れずに搬送、洗浄、乾燥が可能。同時に端面のスクラブ洗浄も行います。 ■表裏側面を同時に洗浄可能 ■被洗浄対象ウエハ　：　シリコン、石英、酸化物、化合物等 ■対応ウエハ口径　：φ2”～φ8”　厚みについては要相談 ■透明ウエハにも対応 ...

メーカー・取り扱い企業：株式会社テクニカルフィット