リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置　

PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

メーカー・取り扱い企業： ティー・ケイ・エス株式会社

【MiniLab（ミニラボ）】シリーズフレキシブル薄膜実験装置

PRモジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用機の組立…

【フレキシブルシステム】 MiniLab薄膜実験装置シリーズは、豊富なオプションから必要な成膜方法・材料に応じて都度、ご要望に適したコンポーネント（成膜ソース、ステージなど）、制御モジュールを組み込み、カスタマイズ品でありながら無駄の無いコンパクトな装置構成を容易に構築することができます。モジュラー式制御ユニットをPlug&Play 感覚で装置を構成することにより応用範囲が広がり、様々な薄膜プロ...

メーカー・取り扱い企業： テルモセラ・ジャパン株式会社

溶接煙（ヒューム）回収装置『ケムトリくん2』　じん肺予防に好適！

捕集率99.97%以上の超高性能（クラストップ）。小型・軽量で移動もし…

【『ケムトリくん　２』 湿式フィルター追加採用で集じん力、スパッタ対策大幅向上！！！ 一般電源仕様　　ＡＣ100Ｖ　50/60Ｈｚ 可搬性抜群　　　軽量小型（27ｋｇ）　キャスター付き 高処理能力　　　0.3㎛を99.97％捕集の超高性能フィルター仕様...

メーカー・取り扱い企業： 日下部機械株式会社 本社

プロセス制御システム『VA PROCOS 2』

低発光強度のプラズマでも安定した測定と制御！熱的に安定した光電子増倍管…

『VA PROCOS 2』は、敏感な遷移モードにおいて、反応性スパッタプロセスを 安定化させるために特別設計されたモジュール式プロセス制御システムです。 光学発光スペクトル、カソード電圧、酸素分圧、および/またはその他の PLC信号の組み合わせによるプロセ...

メーカー・取り扱い企業： フォンアルデンヌジャパン株式会社