• 超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』 製品画像

    超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』

    PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…

    『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...

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    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • 研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』 製品画像

    研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400G』

    実験・研究・評価・試作に好適!ガラス、金属などの平板基材に高速、高精度…

    『VS-R400G』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 耐摩耗・耐スパッタチューブ 製品画像

    耐摩耗・耐スパッタチューブ

    ガラスクロス・アラミド繊維を使用した耐摩耗・耐スパッタチューブ 溶接…

    ガラスクロス・アラミド繊維を用いて作製された、耐摩耗・耐スパッタ用チューブです。 溶接によるスパッタから、配線の保護を行いたい、 マシニングロボット等の可動部にある配線を保護したい、 というニーズをお持ちの企業様にご採用いただいております。 ま...

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    メーカー・取り扱い企業: 日本ジッパーチュービング株式会社

  • 【導入事例】スパッタ付着防止剤の自動塗布システム 製品画像

    【導入事例】スパッタ付着防止剤の自動塗布システム

    システムの導入で、飛散がなく均一かつ適量の塗布を実現した事例のご紹介

    某メーカーの自動車組み立て工場へ、スパッタ付着防止剤の自動塗布 システムを導入した事例をご紹介いたします。 溶接ラインに粒子径が大きく飛散しづらい一流体方式を採用。 また、過剰な塗布を防ぎ適量をスプレーするため、塗布量を精密制御...

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    メーカー・取り扱い企業: スプレーイングシステムスジャパン合同会社

  • 研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』 製品画像

    研究・試作に最適な小型スパッタ装置『VS-R400F』

    実験・研究・評価・試作に好適!樹脂フィルムや金属箔に高速、高精度、低ダ…

    『VS-R400F』は、独自のLIA(低インダクタンスアンテナ)方式プラズマ源を採用し、 超高速、高品質な真空成膜を実現するスパッタ装置です。 LIA方式の誘導結合型プラズマ(LIA-ICP)によるアシスト効果により、 成膜速度を落とすことなくダメージを低減し、高品質な成膜を実現。 また、高密度プラズマの特性を活...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社SCREENファインテックソリューションズ

  • 高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置 製品画像

    高精密光学フィルター成膜用マグネトロンスパッタ装置

    「FHR.Star.600-EOSS」は、精密な光学フィルター成膜用と…

    の安定成膜 ・最大4基のカソードの搭載による、幅広い多層膜の成膜 など、高品位な光学薄膜成膜に特化した装置です。 特徴 ■傑出した光学多層膜の再現性 ■優れた膜厚均一性 ■シリンダー型カソードとスパッタアップとの組み合わせによる  膜質の改善と欠陥の無い成膜 ■In-situモニタリングによる、成膜状態の連続監視 ■完全に自動化されたプロセス制御  ※詳しくはPDF資料をご覧いただくか、お...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

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    デスクトップRFスパッタ装置『SVC-700RFIII』

    コンパクトな卓上サイズで3源のカソードを搭載。絶縁薄膜、酸化物・窒化物…

    『SVC-700RFIII』は、卓上に置けるコンパクトなサイズながらφ2インチのカソードを3基搭載。3種類のターゲットを使用した積層膜の形成が可能なRFマグネトロンスパッタ装置です。 ガス導入機構を増設でき、アルゴンガスを含めた最大3種類のガス導入が可能。 金属薄膜に加え、絶縁薄膜、酸化物・窒化物薄膜など様々な薄膜作製に対応できます。 【特長】 ...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD) 製品画像

    高レート イオンビーム・スパッタ高速成膜装置(HR-PVD)

    誘電体、強磁性体成膜を高レートかつ高品位に高速成膜

    従前のマグネトロンスパッタでは成膜レートが低くなるAl2O3、SiO2などの誘電体、 Feなどの強磁性体の成膜で力を発揮する高速イオンビームスパッタ(IBD)装置です。  ヘリコンプラズマソースをイオン源とし、そこから得ら...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ーゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜プロセスの構築など、幅広い研究に対応できる装置です。 これまでのスパッタ装置で成膜が難しいとされる強磁性体ターゲットや、金属ターゲットとセラミックターゲットなどの異物質Co-スパッタ研究など、先端材料研究やプロセス構築研究を強力にサポートする装置です。 直進性の高い...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能 製品画像

    スパッタカソード『ONYXシリーズ』販売・修理/メンテも対応可能

    高機能・高品質なマグネトロンスパッタカソード!

    安定した成膜とコストダウンの両立を実現します。 アメリカオングストローム・サイエンス社製の高機能・高品質な「マグネトロンスパッタカソード」です。 特許技術のShaped Magnet採用により、ターゲットの広い面積を利用するため、エロージョンの進行によるスパッタ状態の変化が起こりにくく、安定した成膜とターゲット交換のための...

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    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】 製品画像

    スパッタ・蒸着ソース複合型成膜装置【nanoPVD-ST15A】

    スパッタカソード・蒸着ソース混在型薄膜実験装置 コンパクトフレームに…

    抵抗加熱蒸着源(金属蒸着)、有機蒸着源(有機材料)、マグネトロンスパッタ(金属・絶縁材)、3種類の成膜コンポーネントをチャンバー内に設置、様々な薄膜実験装置に1チャンバーで対応が可能です。 ◉組み合わせは3種類 1. スパッタカソード + 抵抗加熱蒸着源x2 2...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 研究・開発実験用 RFスパッタ装置 製品画像

    研究・開発実験用 RFスパッタ装置

    実験目的にあわせたカスタマイズが可能。小型RFスパッタ装置

    ☆金属薄膜は勿論、絶縁薄膜/酸化薄膜作製に対応した小型RFスパッタ装置☆ お薦めPOINT <実験目的にあわせたカスタマイズ!!> 1.試料サイズに合わせ3種類のチャンバーをご用意 2.カソードサイズは2〜6インチに対応 3.2インチカソードタイプは3源式にも...

    メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社

  • 【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置 製品画像

    【MiniLab-SA125A】 多元マルチスパッタ装置

    高機能マルチスパッタリング装置 6元マルチスパッタ(Φ4inch用)…

    ジ(二重ジャケット水冷式)オプション -1) Max600℃(ランプ加熱) -2) Max1000℃(C/Cコンポジット) -3) Max1000℃(SICコーティング) ロードロック内逆スパッタステージ -1) 300W、又は -2) Soft-Etching(<30W) システム主制御:'IntelliDep'制御システム Windows PC(又はTP HMI)インターフェイス...

    メーカー・取り扱い企業: テルモセラ・ジャパン株式会社

  • 高機能繊維シート織物【熱・スパッタ・火の粉よけ・間仕切り】 製品画像

    高機能繊維シート織物【熱・スパッタ・火の粉よけ・間仕切り】

    高機能織物を使用してスパッタ、火、熱を防ぎ、飛散防止用途にも!

    スパッタや熱を持った飛散物がある環境で、弊社の高機能織物を、間仕切りシートの代わりなどにご使用いただけます。 こんなことでお困りではないでしょうか。。 火花やスパッタが思いのほか飛んでいて、周りにあるケーブルが溶けてダメになってしまう、周りの機械が劣化してしまう・・・。 短時間だが、炎があたる為に、何か簡単なもので保護したい・・・。 装置に火花があたるが、フレキシブルに動くも...

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    メーカー・取り扱い企業: 株式会社テイアイテイ 柏営業所

  • スパッタ装置 QKG-Sputtering 製品画像

    スパッタ装置 QKG-Sputtering

    フルオートで大気に曝されることなく成膜完了! 〜サンプル測定実施中!…

    従来のスパッタ装置では困難であった“1バッジ内での複数材料の成膜”をワークマスク採用で可能にし、フルオートモードで試料が大気に曝されることなく成膜完了します。 ○省スペースで作業スペースにメリット ○成膜の...

    メーカー・取り扱い企業: 九州計測器株式会社

  • 大気非暴露型多元スパッタ装置 製品画像

    大気非暴露型多元スパッタ装置

    硫化物対応も可 薄膜固体二次電池研究用専用成膜装置 ターゲット~成膜…

    薄膜固体二次電池の研究用の専用スパッタ装置 後処理が可能。多元カソードによる負極・電解質・正極の一括形成と成膜後の大気非暴露による基板の封止が可能。 Liの専用ターゲットによる事前成膜テストも対応可能(有償) 材料(ターゲット)...

    メーカー・取り扱い企業: 神港精機株式会社 東京支店

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