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69件 - メーカー・取り扱い企業
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373件
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PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…
ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...
メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社
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超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』
PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…
『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...
メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社
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量産における品質管理の支援ツールとして威力を発揮!溶接の条件出しにも有…
当製品は、レーザ溶接中に発生するスパッタを常時監視する モニタリングシステムです。 監視できる測定機能は、溶融池から飛び出すスパッタの「数」 「飛散軌跡」「サイズ」です。 これにより溶接中のスパッタの発生状況を取得するこ...
メーカー・取り扱い企業: 前田工業株式会社 本社
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電子顕微鏡の試料に導電膜処理を施す装置です
『マグネトロンスパッタ装置』は、ターゲットの背面に強力な磁石を用いて カソード表面層でのイオン化を促進し、電界によりイオンをターゲットに 衝突させて金属分子を放出させる原理を応用させたものです。 株式会社真空...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社ユニオン
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45年以上のロングセラーモデル 手軽に電極膜作製ができるデスクトップ…
置かれていても違和感のないデザインとコンパクトさ!! 【特徴】 〇スモール&コンパクト 〇ベルジャーを持ち上げる必要のない前面ドア開閉方式 ⇒ サンプルのセット/取出しが楽に行なえます。 〇間欠スパッタ機能を標準搭載 〇多彩なオプションをご用意:シャッター付前面ドア/アルミ製前面ドア/ピラニー真空計取付ポート付前面ドア etc. ...
メーカー・取り扱い企業: サンユー電子株式会社
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φ4インチ基盤対応のエネルギー半導体デバイス研究開発システムなどをご紹…
当社が取り扱う『超高真空マルチチャンバー連結システム』を ご紹介します。 超高真空搬送用チャンバーに複数の成膜・分析装置を連結した UHV一貫システムは、ALD、ECRプラズマ処理、スパッタ装置と XPS分析装置を連結。 他に、MEBチャンバーとXPS表面分析装置を連結したシステムや MBE室と酸化処理室、STM分析室を連結したシステムがあります。 【ラインアップ】 ...
メーカー・取り扱い企業: ケニックス株式会社
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表面汚染を除去してXPSによる評価を行います
法のため、大気等による有機付着物由来のCが主成分レベルで検出されます。こういった有機付着物由来のCの影響を減らすことは、膜本来の組成を評価する上で重要です。 通常、有機付着物の除去にはArイオンスパッタを用いますが、スパッタによるダメージにより膜本来の組成,結合状態が評価できない場合があります。Arイオンスパッタを使用せず、表面酸化層をウェットエッチングを用いて除去することで、有機付着物由来のC...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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超伝導薄膜応用分野やMEMS応用分野などに!低ダメージ・低温成膜で有機…
新対向ターゲット式スパッタ(New Facing Targets Sputtering:NFTS)技術は 高密度プラズマを箱型空間に拘束することにより、堆積基板へのエネルギー種 (反跳粒子、イオン、電子)の衝撃によるダ...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社トヤマ
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フラットミリングとSEM観察
めっき表面とはんだの 境界面の状況がより緻密に観察できます。 【特徴】 ○アルゴンイオンの均一な照射によってSEM観察にも耐える完璧な覆面仕上が可能です。 ○5mm径の広い範囲を均一にスパッタエッチングでき、50nm/min(Cu)の高いミリングレートで処理します。 ○安定した放電電流(2~6kV)によって再現性のよい試料を提供できます。 ○光学顕微鏡に比べ分離機・焦点深度に優れ、...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社クオルテック
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重要なプロセスにおける完全なコントロール!最大限のスパッタ率が確保され…
ことが可能。豊富な周波数ラインアップにより、 様々なプロセスで活用いただけます。 【主な利点】 ■高い反応速度とそれに対応する残留エネルギーの低減により、 安定したプロセスと最大限のスパッタ率が確保される ■フレキシブルな冷却コンセプト ■独自技術"イグニッションサポート"技術により、効果的なプラズマ点火 ■豊富な周波数ラインアップにより、様々なプロセスで活用可能 ※詳し...
メーカー・取り扱い企業: トルンプ株式会社
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XPS: X線光電子分光法
XPSは試料表面(数nm程度の深さ)の組成・結合状態に関する知見を得る手法ですが、イオン照射によるスパッタエッチングを組み合わせることで、試料内部や深さ方向分布の評価も可能です。 但し、スパッタエッチングを伴う評価ではXPSの原理及び測定機構から、吸着酸素の影響を受けて酸素量が本来の組成より過大評価...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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コンパクトで省エネルギー設計!導電性膜を高精度に成膜するスパッタコータ…
『208HR型高分解能ターボスパッタコーター』は、FESEM試料の導電性膜を 高精度に成膜する信頼性の高い、クレジントン社製のスパッタコーターです。 マグネトロンヘッドのデザインと効率的なガス導入機構で、多種類の ターゲッ...
メーカー・取り扱い企業: エルミネット株式会社
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スキャナ加工ヘッドの保護ガラス汚れを検知した事例をご紹介
スキャナ加工ヘッド用保護ガラス汚れ検知ユニット『NMI-300』の 使用事例をご紹介いたします。 スパッタにレーザ照射された箇所のみ数値が上昇するため、 実際の照射領域の汚染状態を検知することが可能です。 また、ヒュームの蓄積度に応じて数値が上昇、波形の平均値に 任意の閾値を設けることで検知...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社NISHIHARA
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特定の質量イオンを解離・フラグメント化させ、質量分析計で検出
Ar雰囲気下で、試料をマイナス極としてグロー放電を行います。Arガスが試料に衝突することにより試料構成元素がスパッタされます。スパッタにより放出された元素は大部分が中性ですが、Arプラズマ中でイオン化されます。 イオン化された原子を二重収束型質量分析器で測定し、元素の定性及び濃度の算出を行います。 試料...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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無料プレゼント中!真空ポンプやクライオポンプなどを紹介しています。【ア…
ULVAC DIGEST 真空関連機器 総合カタログでは、ドライ真空ポンプや油回転真空ポンプなどの「真空ポンプ」、スパッタイオンポンプ、クライオポンプなどの「クライオポンプ/冷凍機」、大気圧ピラニ真空計、キャパシタンスマノメータなどの「真空計」、ベーシックプロセスガスモニタなどの「ガス分析計/プロセスモニタ」等、多数...
メーカー・取り扱い企業: 株式会社アルバック/ULVAC, Inc.
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GD-OES(グロー放電発光分析)によりステンレス(SUS)の表面をス…
グロー放電発光分析法(Glow Discharge OpticalEmission Spectrometry:GD-OES)は、スパッタリングにより試料表面から原子を弾き出し原子をプラズマ状態に励起し、生じた発光を測定することで試料の組成を分析する方法です。H(水素)が検出できるのも本装置の特長です。 この事例では「変色した...
メーカー・取り扱い企業: セイコーフューチャークリエーション株式会社
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TOF-SIMSによる高分子・樹脂・フィルムの表面改質層の深さ方向の評…
から、電子部品をはじめとして様々な分野で用いられている材料です。表面改質を行うことで他の材料との密着性を高めることができることから、改質層の状態を把握することが重要です。今回、有機成分が壊れにくいスパッタ条件にてTOF-SIMS測定を行い、深さ方向にポリイミド成分を評価しました。GCIB(Arクラスター)をスパッタに用いると着目する有機成分を深さ方向に測定することが可能です。※GCIB:Gas C...
メーカー・取り扱い企業: 一般財団法人材料科学技術振興財団 MST
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【MiniLab(ミニラボ)】シリーズフレキシブル薄膜実験装置
モジュラー組込式の為必要な成膜方法に応じ都度フレキシブルに専用…
テルモセラ・ジャパン株式会社 -
3次元レーザ統合システム『ALCIS-1008e』
【変わる世界に、光でこたえを。】高出力Blueレーザによる高速…
株式会社アマダ(アマダグループ) -
オーダーメイド型スパッタリング成膜装置
難しい材料、様々な基板形状、用途にも!非常に幅広い基板サイズに…
プラズマ・サーモ・ジャパン株式会社