• 超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』 製品画像

    超音波複合振動接合機『Ellinker 20k-HP/20k』

    PR狭いところに手が届く接合を実現。楕円形の軌跡により、高強度・低ダメージ…

    『Ellinker 20k-HP/20k』は、振動拡大ホーンと 楕円形の軌跡を描く複合振動を生み出すスリット入りホーンを備えた超音波複合振動接合機です。 加圧・加振のムラや減衰が少なく、ワークへのダメージやバリの発生を抑えた高品質な接合が可能。 ロングホーンチップを使用でき、円筒型LiBの底部など様々な形状・接合位置のニーズに対応可能です。 はんだなどの介在物を使用せず、母材の変質リスクも少な...

    • s1.jpg
    • s2.PNG
    • s3.JPG
    • s4.JPG
    • s5.jpg
    • s6.jpg

    メーカー・取り扱い企業: 千代田交易株式会社

  • リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置  製品画像

    リモートプラズマ・イオンビームスパッタリング装置 

    PRヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印…

    ヘリコンプラズマソースをイオン源として、ターゲット、基盤へのバイアス印加により高品質かつフレキシブルな成膜をする装置です。 イオン源、ターゲット、基盤それぞれに対して独立した電流制御を行います。 複数のターゲットを搭載し、切り替えての多層成膜も簡単に行えます。同時にターゲット付近、基盤付近に独立したガス供給も行えるため、酸化膜・窒化膜をはじめとした様々な多層光学薄膜も成膜可能。新たな素材探索や成膜...

    • S500-on-customer-site.jpg
    • PQL PIC.jpg
    • 20170928_160044.jpg
    • PlasmaQuest-HiTUS-Difference-1.png

    メーカー・取り扱い企業: ティー・ケイ・エス株式会社

  • ユニフォームプラズマスパッタ装置 製品画像

    ユニフォームプラズマスパッタ装置

    均一性プラズマ閉じ込めによる高品質スパッタリング

    「ユニフォームプラズマスパッタ装置」はいわゆる対向ターゲットスパッタ方式を採用しています。従来の対向ターゲットスパッタ方式はミラー磁場をそのまま利用したものですが、ミラー磁場の特性を生かしつつスパッタリングすることを目的として...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ

  • 実験用スパッタ装置 製品画像

    実験用スパッタ装置

    簡易でありながらφ3インチターゲットのマグネトロンカソードと200L/…

    ット 1元カソード ● RF300W電源、自動マッチングボックス付 ● ガス系統:1系統(オプションにて3系統まで対応可)、   マスフローコントローラーによる調整 ● 酸化物など絶縁体のスパッタが可能。 ● オプションにて基板ヒーターの取付可。 ● 余分なものを省きながら使いやすいシンプルな構造。 ● 800W×600L×900Hの省スペース ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社ヤシマ

  • 『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面 製品画像

    『高速スパッタリングによるさまざまな用途への成膜技術および装置面

    ※9月3日までに初めてお申込いただいた新規会員様は早期割引価格⇒42,…

    第1部 スパッタの基礎と装置から見た改善策 1.スパッタリングの基礎 2.スパッタ装置の改善と変遷 3.膜厚分布の改善 4.ステップカバレージの改善  4-1 ステップカバレージの改善要求  4-2 ...

    メーカー・取り扱い企業: 株式会社AndTech

1〜3 件 / 全 3 件
表示件数
15件
  • < 前へ
  • 1
  • 次へ >

※このキーワードに関連する製品情報が登録
された場合にメールでお知らせします。

  • icadtechnicalfair7th_1_pre2.jpg

PR